•  特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置 製品画像

    特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置

    PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

    『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社富山技販

  • ポータブル脳波・多点筋電計測装置「TMSi」 製品画像

    ポータブル脳波・多点筋電計測装置「TMSi」

    PRERP、運動時、睡眠時の計測に好適!バッテリ残量など、本体全面をLED…

    『APEX』は、ERP、運動時、睡眠時の計測に好適な超小型24ch/32ch対応の 脳波計測装置です。 アナログ帯域はDCから350Hz。リファレンスチャンネルはカスタム可能です。 また、32ch/64chの脳波&多点筋電対応のモバイルタイプの計測装置 「SAGA」もご用意しております。 【APEX仕様(抜粋)】 ■チャンネル数:24ch/32ch ■解像度:24bit ...

    メーカー・取り扱い企業: ゼロシーセブン株式会社

  • 噴霧熱分解装置 「ACP-U16-H5型」 製品画像

    噴霧熱分解装置 「ACP-U16-H5型」

    各部取り外し可能!特殊構造分離膜で振動子を傷めない研究開発実験用装置

    噴霧熱分解装置「ACP-U16-H5型」は液相法による微粒子合成装置であり超音波式噴霧熱分解法に基づいた超微粒子生成プロセスのための研究開発実験用装置です。 「原液(試料液)供給部」「超音波霧化部」「キャリーエアーガス導入部」「加熱分解反応部」「微粒子捕集部」「排ガス処理部」を本体とし超微粒子生成プロセスを制御する「制御盤部」から構成されています。 【特徴】 ○超音波霧化方式により、霧化...

    メーカー・取り扱い企業: オーエヌ総合電機株式会社

  • ガスパージ式角形焼成炉 「CHP-400-2G型」 製品画像

    ガスパージ式角形焼成炉 「CHP-400-2G型」

    ガスパージ・プログラム温度調節が可能!温度ムラを極力抑えた角形焼成炉

    「CHP-400-2G型」は、窒素ガスなどのパージを行いながら昇温出来る角形焼成炉です。 焼成炉の構造は、簡易気密構造で、ガスパージ中における外気の進入を抑えます。 焼成炉は4面パネルヒーター加熱方式で、常用1000℃の使用が可能です。さらにプログラム温度調節計により、高精度なプログラム運転が可能です。 また、オプションにて酸素ガスによるパージも可能です。 【特徴】 ○4ゾーン式角形...

    メーカー・取り扱い企業: オーエヌ総合電機株式会社

  • ロータリー加熱反応装置 「RHD-G6H3Z型」 製品画像

    ロータリー加熱反応装置 「RHD-G6H3Z型」

    ガス置換・回転加熱が可能!ガスパージ式加熱試験システム

    ロータリー加熱反応装置 「RHD-G6H3Z型」は、炉心管内部にセラミック系などの微粉体試料を入れ、 様々な種類のガスを導入しながら電気炉にて加熱反応させる試験装置です。 電気管状炉は3ゾーン加熱方式。ガス置換機能、プログラム温度制御機能、 炉心管ロータリー機能、水素ガス検知器などの安全機能を装備しています。 【用途】 半導体ウエハ 新素材の開発 コンパウンドの開発 EV開発 各種センサ素子 ...

    メーカー・取り扱い企業: オーエヌ総合電機株式会社

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