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  • 感電防止訓練に適した当社最新型の感電デバイス「UNAGI」 製品画像

    感電防止訓練に適した当社最新型の感電デバイス「UNAGI」

    PR本物の電気ショックで、緊張感のある感電防止訓練を実現。VR・AR端末や…

    アプリ連動感電デバイス「UNAGI」は、実際に電気ショックを与えられ、 リアリティに富んだ感電防止訓練を実現できる製品です。 製造・整備に携わる方々にとって必要な質の高い感電防止訓練を 低価格のデバイスで手軽に実施していただけます。 【特長】 ■88,000円（税抜）の低価格でご提供 ■感電のタイミングや電流の強さなどはアプリから制御可能 ■VR、AR、パソコン、スマホ、タブレットなど各種端末...

    メーカー・取り扱い企業： シンフォニア株式会社

  • 【技術資料】焼成依頼前に必読！材料ごとの適切な炉×温度の対応範囲 製品画像

    【技術資料】焼成依頼前に必読！材料ごとの適切な炉×温度の対応範囲

    PR【研究・開発・OEM向け】焼成依頼前に知っておくと便利な《炉の設備×温…

    焼成依頼に役立つ『炉×温度×材料の対応範囲』について紹介した本資料は、「大気焼成炉の対応温度とその実績」や「雰囲気焼成炉の対応温度とその実績」、「所有炉の対応温度」などを図を使いながら分かりやすく紹介した資料です。 【掲載内容】 ■よくあるお悩み事 ■加工実績例 ■大気焼成炉の対応温度及び実績分野 ■雰囲気焼成炉の対応温度及び実績分野 ■所有炉の対応温度 ■分野別の焼成温度域 ■受託加工フロー ...

    メーカー・取り扱い企業： 新興窯業株式会社 工場

  • 【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置 製品画像

    【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

    ◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

    ◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機...◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理 ・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能 ・専用ソフトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング ・USBケーブル接続，PC...

    メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】 製品画像

    多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャ...

    メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置 製品画像

    【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

    【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

    ◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシ...

    メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】 製品画像

    ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

    Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

    Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。...【装置構成例】 ・基板：Cu, Ni, 他..（フィルム, フォイル） ・原料：CH4, C2H4, solids (P...

    メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A 製品画像

    スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチ...

    メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

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