パナソニック　UV-B電球形蛍光灯　正しい使い方で効果を発揮！　

PRイチゴのうどんこ病抑制に貢献。UV-B電球形蛍光灯の設置方法について　…

パナソニックのUV-B電球形蛍光灯は、ハウス内に吊るし、タイマー設定で夜中に3時間程度点灯することで、イチゴの重要病害であるうどんこ病の発生を抑制できるような便利な商品です。 一方で、作物に当たる紫外線は強すぎると葉焼けが発生し、弱すぎると病害抑制などの効果が期待できなくなるため、適切な強度に設定する必要があります。 作物に当たる紫外線の強さは、UV-B電球形蛍光灯の設置方法で大きく変わります...

メーカー・取り扱い企業： パナソニック ライティングデバイス株式会社

『Roxy AI』画像生成AIで外観検査を飛躍的に進化！

PR画像生成AIを標準搭載し、不良品ゼロへの道を切り拓く！

AIの性能向上には、一定数の学習データが不可欠です。 しかし、不良品が稀な製品では、サンプル収集が困難な課題がありまます。 Roxy AIはこの課題を解決する、画像生成AIを標準搭載しました！ 豊富な機能を持つ画像生成AIがサンプル収集のハードルを下げます。 ■Roxy AI 画像生成AIの機能 ・様々な不良を再現 　発生位置、形状、不良種別を自由に指定し、リアルな不良画像を生成。 　現実には...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社Roxy

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

徴】 　・異形状・サイズ基板の同時処理 　・高い成膜速度 　・シンプルメンテナンス 　・省フットプリント 　・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】 　・層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG) 　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 　・太陽電池(セル)向け固相拡散用ソース膜(BSG,PSG)/キャップ膜(N...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

　・シンプルメンテナンス 　・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】 　・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール(NSG) 　・パワー半導体用層間絶縁膜(NGS/PSG/BPSG) 　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

　・低負荷・長周期メンテナンス 　・コンパクト筐体とミラータイプとの隣接設置による省スペース対応 　・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】 　・パワー半導体用層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG) 　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 　・光導波路(NSG/BPSG) ※詳しくはお問い合わせいただくか、カ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

のウェハに対応し、最大で1時間あたり56枚の成膜が可能です。 ●装置サイズ:2165mm(W) x 4788mm(D) x 2250mm(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) ●成膜温度: 350～430℃ ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

枚/hの高生産性 　・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】 　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 　・固相拡散用ソース膜(BSG,PSG)/キャップ膜(NSG) ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

で成膜が可能で、膜厚均一性10％以内を確保できます。 ●装置サイズ(mm): 1300mm(W) x 7350mm(D) x 2000mm(H) ●ガス種: SiH4, O3/O2, PH3, B2H6 ●成膜温度: 150～300℃ ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行