• ハンディタイプ高精度デジタル温度計 Model: CTP1500 製品画像

    ハンディタイプ高精度デジタル温度計 Model: CTP1500

    PR小型軽量のハンディタイプ温度計。高精度±0.05℃。単三乾電池駆動。校…

    ◆製品概要 CTP1500はハンディタイプの温度計としてコンパクトながらも優れた精度を持ち、様々な用途や場所での測定が可能です。- 20 ... +180 °Cの範囲で±0.05 °Cの精度を達成しています。この高い精度により、バイオテクノロジーや医薬、食品業界など様々な産業における基準温度計としても活用することが可能です。 ◆製品特徴 CTP1500は小型軽量であるため、簡単に持ち運びをするこ...

    メーカー・取り扱い企業: ビカ・ジャパン株式会社

  • 高品質な精密機械部品加工 金久保製作所の加工事例集ver1 製品画像

    高品質な精密機械部品加工 金久保製作所の加工事例集ver1

    PRアルミ、S45C、SUS304、SUS316、ジュラコンABS、医療機…

    自動制御用部品加工のほか、つり具部品、万華鏡部品、医療機器部品、 空圧機器部品など、幅広い業界での精密加工の実績がある金久保製作所。 対応材質も幅広く、アルミA2017、S45C、SUS304、SUS316、チタン、真鍮、ジュラルミン、ジュラコンABS等、様々な加工に対応した実績があります。 空圧機器部品の加工では、内径加工が複雑な角物の加工や、 φ0.3の小径の穴あけなど、精密で...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社金久保製作所

  • TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃  製品画像

    TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃

    コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉

    まな焼成実験を行うことができます。 ◆主な特徴◆ ・省スペース ・ロータリーポンプ、コンプレッサー付属 ・インターロック:断水警報、過昇温、ガス圧力低下 ◆基本仕様◆ ・電源仕様:AC200V 75A NFB 50/60HZ(C-500) ・Max2900℃(カーボン炉)、2400℃(メタル炉)、 ・プログラム温度調節計、C熱電対 ◆オプション◆ ・記録計 ・ターボ分子...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』 製品画像

    真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

    卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…

    の構成をご提案致します。 (A)最小構成:チャンバー + コントロールボックス (B)上記最小構成(A) + 真空排気系(ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類) ◆基本仕様◆ ・ヒーター:C/Cコンポジット(カーボン炉), タングステン(メタル炉) ・断熱材:グラファイトフェルト材(カーボン炉), タングステン/モリブデン(メタル炉) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』 製品画像

    アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • セントロサーム 超高温バルクアニール炉 製品画像

    セントロサーム 超高温バルクアニール炉

    超高温熱処理と優れた温度均一性の実現により、ブール・インゴット、ウエハ…

    ワイドバンドギャップ半導体デバイスの歩留まりを向上するためには、応力に起因する欠陥や転位を最小限に抑える必要があります。その手法の一つとして、半導体結晶の超高温熱処理があります。c.CRYSCOO HTA高温アニール炉は、ワイドバンドギャップ半導体のバルク結晶からデバイスまでのバリューチェーンにおいて生産性を大幅に改善させるために開発されました。優れた温度制御(最高温度2200℃...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置 製品画像

    ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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