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  • 水素フリーDLC（ta-C）『TETRAスリック』 製品画像

    水素フリーDLC（ta-C）『TETRAスリック』

    PR難加工材用の切削工具、半導体向けの極細切削工具などの高硬度化・長寿命化…

    水素フリーDLC（ta-C）『TETRAスリック』は、 高硬度で優れた耐摩耗性を実現するコーティングです。 薄膜仕様のため、厳しい精度が求められる加工物に適しています。 高い密着性で長寿命化が実現できるほか、耐熱特性に優れているのも特長です。 【用途例】 ■アルミニウムやチタン等の難加工材用切削工具・極細ドリルなど ■精密金型（半導体封止モールド用金型・レンズ成形・曲げ型・樹脂...

    メーカー・取り扱い企業： 日本コーティングセンター（ＪＣＣ）株式会社

  • JPCA Show　実装プロセステクノロジー展 出展のご案内 製品画像

    JPCA Show　実装プロセステクノロジー展 出展のご案内

    PR実装関連製品を中心に「CAMソフトウェアを活用した省力化とミスらない作…

    実装関連製品を中心に「CAMソフトウェアを活用した省力化とミスらない作業」を テーマに展示いたします。 実装関連製品、基板関連製品をデモを交え展示いたします。 是非当社ブースにお立ち寄りください。 会　場：東京ビッグサイト　東4ホール　4C-15/4C-17 会　期：2024年6月12日(水)～14日(金)　10：00～17：00 来場事前登録： https://jp...

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    メーカー・取り扱い企業： ダイナトロン株式会社

  • 微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素（Si3N4）粉末 製品画像

    微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素（Si3N4）粉末

    微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素(Si3N4)粉末。 ミクロンスケ…

    ■製品スペック(COA : 量産品代表値。) ＜α相 D50=1μm - 2μm品の場合＞ Si3N4 純度≧99.9% α相>90.0% 不純物濃度(ICP-MS) Fe=45ppm Al=...

    メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

  • サブミクロン～１ｍｍまで　球状 銅（Cu）粉末 製品画像

    サブミクロン～１ｍｍまで　球状 銅（Cu）粉末

    物理蒸着法（PVD）による球状 銅（Cu）粉末。 サブミクロン～１ｍｍ…

    物理蒸着法（Physical vapor deposition (PVD) method）による 球状 銅（Cu）粉末。 Cu 純度≧99.0% (C/Oを除く) サブミクロン～１ｍｍまで、粒度カスタマイズに対応。 原産国：中国 供給可能数量：月産５トン...

    メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

  • 球状 サブミクロン ニッケル（Ni）粉末 製品画像

    球状 サブミクロン ニッケル（Ni）粉末

    物理蒸着法（PVD）による球状 ニッケル（Ni）粉末。サブミクロンスケ…

    物理蒸着法（Physical vapor deposition (PVD) method）による 球状ニッケル（Ni）粉末。 Ni 純度≧99.0% (C/Oを除く) サブミクロン スケールで、粒度カスタマイズに対応。 原産国：中国 供給可能数量：月産５トン...

    メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

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