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17件 - メーカー・取り扱い企業
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PR優れた耐薬品性で医薬品や工業用など幅広い分野で活躍。豊富なシリーズから…
Aflexブランドの『PTFEライナーフレキシブルホース』は、 流体接触面を化学反応が少ないPTFE樹脂でライニングした製品です。 優れた耐薬品性を備え、高圧および最大260℃の高温に耐性を発揮。 滑らかな内面構造により、液体の流速を確保できます。 CIP/SIPに対応したシリーズもあり、高い衛生性が求められる分野でも活躍。 ホースに接着剤を使用しないため、剥離によるコンタミリス...
メーカー・取り扱い企業: Watson-Marlow(ワトソンマーロー)株式会社 東京本社、大阪支社
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新発売!低流量の配管の通水をひと目で確認「フローモニター小口径」
PR成形機周辺の配管に!狭いピッチにも対応、レンズ部分のみの交換が可能でコ…
『FMC-25-1F/FMC-25-2F』は、レンズ交換タイプのフローモニターです。 従来品「FMC-30-3F/FMC-30-4F」の小口径タイプが新登場! 従来のフローモニターよりさらに低流量(0.6~6L/min)な配管に対応しています。 2色の羽根の回転で流体の流れを目視で確認でき、低流量時の流れがより見やすくなりました。 金型の小型化に伴う、狭いピッチにも取付可能です。 従来品同様、配...
メーカー・取り扱い企業: 日東工器株式会社
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Global CMP Slurry Market Insights, …
世界のCMPスラリーの市場規模は、2022年に21億2,800万米ドルに達し、2028年には31億1,700万米ドルに再調整され、予測期間中 (2022年~2028年) のCAGRは6.57%に達すると予測さ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社グローバルインフォメーション
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当レポートでは、CMP設備と消耗品市場について調査し、半導体層の化学機械研磨に焦点を当て、技術動向、製品、用途、材料や装置のサプライヤーについて解説しています。また、CMP装置と材料市場の今後の予測を示しています。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社グローバルインフォメーション
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当レポートでは、CMP設備と消耗品市場について調査し、半導体層の化学機械研磨に焦点を当て、技術動向、製品、用途、材料や装置のサプライヤーについて解説しています。また、CMP装置と材料市場の今後の予測を示しています。 ...
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当レポートでは、CMP設備と消耗品市場について調査し、半導体層の化学機械研磨に焦点を当て、技術動向、製品、用途、材料や装置のサプライヤーについて解説しています。また、CMP装置と材料市場の今後の予測を示しています。 ...
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当レポートでは、CMP平坦化技術の概要、用途、消費財、CMP機器のベンダープロファイル、ユーザーの課題や市場に関する予測などを、概略下記の構成でまとめております。 ...
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成長し、2028年には14億2,300万米ドルに達すると予測されています。 半導体研磨パッド市場は予測期間中にかなりのペースで成長すると予測されています。パッドは、半導体材料の化学機械的平坦化(CMP)に使用される消耗品です。パッドの材質は、金属酸化物、セラミック、ポリウレタンなど多岐にわたります。半導体研磨パッド市場は、タイプ別、用途別、地域別に分類することができます。市場成長の主な促進要因...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社グローバルインフォメーション
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月01日 発行: Information Network ページ情報: 英文 目次 第1章 イントロダクション 第2章 Low-k誘電体の問題と動向 第3章 リソグラフィの問題と動向 第4章 CMPの問題と動向 第5章 ファクトリーオートメーションの問題と動向 第6章 薄膜形成の問題と動向 第7章 プラズマエッチングの問題と動向 第8章 化学品と材料の問題と動向 第9章 計測 第10章 市場...
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ation Network ページ情報: 英文 第1章 イントロダクション 第2章 低誘電体層間 (Low-K) 絶縁体の課題と動向 第3章 リソグラフィの課題と動向 第4章 化学機械研磨 (CMP) の課題と動向 第5章 FA (ファクトリーオートメーション) の課題と動向 第6章 薄膜蒸着の課題と動向 第7章 プラズマエッチングの課題と動向 第8章 薬品および材料の課題と動向 第9章 測...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社グローバルインフォメーション
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当レポートでは、300ミリ/Cu/Low-kの収束における技術的・経済的影響について分析したもので、300ミリ/ウエハツール、Cu薄膜/エッチング/CMP、Low-k材料の時期・動向・関連事項・市場分析をまとめております。 ...
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月01日 発行: Information Network ページ情報: 英文 目次 第1章 イントロダクション 第2章 Low-k誘電体の問題と動向 第3章 リソグラフィの問題と動向 第4章 CMPの問題と動向 第5章 ファクトリーオートメーションの問題と動向 第6章 薄膜形成の問題と動向 第7章 プラズマエッチングの問題と動向 第8章 化学品と材料の問題と動向 第9章 計測 第10章 市場...
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月01日 発行: Information Network ページ情報: 英文 目次 第1章 イントロダクション 第2章 Low-k誘電体の問題と動向 第3章 リソグラフィの問題と動向 第4章 CMPの問題と動向 第5章 ファクトリーオートメーションの問題と動向 第6章 薄膜形成の問題と動向 第7章 プラズマエッチングの問題と動向 第8章 化学品と材料の問題と動向 第9章 計測 第10章 市場...
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Global SiC CMP Slurry Market Resear…
世界のSiC用CMP (化学機械研磨) スラリーの市場規模は、2022年に4,030万米ドルに達し、2028年には1億650万米ドルに再調整され、予測期間中 (2022年~2028年) に17.55%のCAGRで成長...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社グローバルインフォメーション
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Global CMP Retaining Rings Market
世界のCMPリテーナリングの市場規模は、新型コロナウイルス感染症 (COVID-19) による再調整を経て、2022年に1億887万米ドル、2028年までに1億5、659万米ドルに達すると予測されています。 ...
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【英文市場調査レポート】化学機械研磨機 (CMP) の世界市場
Global Chemical Mechanical Polishin…
世界の化学機械研磨機 (CMP) の市場規模は、2020年には22億1、550万米ドルに達しました。 2021年から2027年の間に11.5%のCAGRで成長し、2027年末には54億9、240万米ドルに達する見込みです...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社グローバルインフォメーション
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Global CMP Pads Market Insights and…
世界のCMPパッドの市場規模は、2020年の6億9、670万米ドルから、2027年末までに12億390万米ドルに達し、2021年~2027年のCAGRで6.7%の成長が予測されています。 市場シェアは、...
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【調査レポート】世界と米国のタングステン CMP スラリー市場
Global and United States Tungsten C…
当レポートは、タングステン CMP スラリー (Tungsten CMP Slurry) 市場について調査しており、市場規模や予測、動向、成長要因および課題、タイプ・用途・企業・地域別の市場分析、競合情勢、主要企業のプロファイルな...
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【英文市場調査レポート】世界と日本のバリア CMP スラリー市場
Global and Japan Barrier CMP Slurry…
当レポートは、バリア CMP スラリー (Barrier CMP Slurry) 市場について調査しており、市場規模や予測、動向、成長要因および課題、タイプ・用途・企業・地域別の市場分析、競合情勢、主要企業のプロファイルなど...
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