半導体業界向け特殊セラミック部品＜カタログ無料進呈中＞

PRエッチング工程、CVD工程への使用に。高い熱伝導率の「窒化アルミ」、耐…

当社は、半導体製造の分野における、 熱特性や異物発生防止のニーズに応える特殊セラミック部品を提供しています。 窒化アルミは、最高220W/m・Kの熱伝導率で、最大φ500のプレートを提供可能です。 イットリアは、高い耐プラズマ性を備え、焼結材部品と溶射材をラインアップ。 溶射時には高い密着性により、パーティクル低減のニーズに対応可能です。 【特長】 ■窒化アルミは、半導体装置向...

メーカー・取り扱い企業： 千代田交易株式会社

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

PVD、CVDなどの薄膜実験用基板加熱ヒーター均一性・昇温特性・制御性…

高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD（スパッタ、蒸着、EB等）、CVDなどの各種真空薄膜実験、高温真空アニール、高温試料解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ●セミカスタム製品です。ご要望に...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

Products Guide_【超高温実験炉 製品ガイド」

テルモセラ・ジャパン研究開発用実験炉を紹介。燃料電池・セラミックス等の…

0℃ ◉ MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉 Max2000℃ ◉ TVF-110 石英反応管縦型炉 Max1200℃ ◉ Nanofurnace 石英反応管 ホットウオール熱CVD装置 ◉ ANNEAL ウエハーアニール装置 Max1000℃ ※詳細は資料請求またはダウンロードからお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社