• フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』 製品画像

    フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

    PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

    『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...

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    メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

  • Enovasense Field Sensor 製品画像

    Enovasense Field Sensor

    PR高速な不透明膜の厚みマッピング、内部欠陥のエリア検出が可能なレーザーフ…

    フランスのEnovasense社のセンサは、レーザフォトサーマル技術を使用した 高性能なセンサで、非接触で不透明体の厚みを測定できます。 本新製品は、従来のシングルポイントセンサと異なり、約11万点を同時に測定できるエリアセンサです。 不透明体の厚みマッピングだけでなく、表面層下の欠陥、欠け、剥がれの有無を検知できます。 ■特長  ・非接触で下記が測定できます。    ☆不透明体の厚みマッピング...

    メーカー・取り扱い企業: プレシテック・ジャパン株式会社

  • 電子線を用いて透明フィルム上に高易動度のZnO薄膜 製品画像

    電子線を用いて透明フィルム上に高易動度のZnO薄膜

    フレキシブルな透明電極を安価なZnO(酸化亜鉛)で作製可能!

    半導体材料である透明電極の性能改善によるウェアラブル端末のさらなる進化が期待されている。ZnOは代表的な導電性の酸化物であり、透明電極への応用が望まれる。化学気相成長(CVD)・原子層堆積(ALD)・スパッタリング等の薄膜作製法が確立されているが、導電性を損なわずに樹脂などのフレキシブル基材上に形成できないという課題があった。本発明では電子線をZnO粒子に照射すること...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社東北テクノアーチ

  • 東北大学技術:窒化物コーティングの形成方法:T18-275 製品画像

    東北大学技術:窒化物コーティングの形成方法:T18-275

    窒化物をより均一にコーティングすることが可能

    従来開発されている窒化物コーティング方法として、CVD法(化学的蒸着)やPVD法(物理的蒸着)などが知られている。しかし、真空装備による圧力調整や雰囲気置換を行う必要があるため、製造工程が複雑になり、作業が効率的でないという問題があった。そこで、大気...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社東北テクノアーチ

  • 東北大学技術:炭素材料の製造方法:T13-160 製品画像

    東北大学技術:炭素材料の製造方法:T13-160

    比較的低温な環境で、多量の炭素材料を生成

    ナノカーボンをはじめ、炭素材料を生成する方法として、CVD法や電気化学法が知られている。CDV法では、炭素を供給する物質を分解するため、高温下で炭素材料を生成する。また、電気化学法では、CDV法に比べ低い温度での炭素材料の生成が可能となる。しかし、電気化...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社東北テクノアーチ

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