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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ~8インチ) ・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ・SiCトレー採用による重金属汚染(...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・~56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ~12インチ) ・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ・SiCトレー採用による重金属汚染(メ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式…
A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適 ・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜 ・密閉式チャンバーによる高い安全性と成...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)
試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…
D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・異形状・サイズ基板の同時処理 ・高い成膜速度 ・シンプルメンテナンス ・省フットプリント ・低CoO(低ランニングコスト) 【...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)
結晶Si太陽電池セル量産用 NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…
AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・156mm角/125mm角ウェハ対応 ・1500枚/hの高生産性 ・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】 ・拡散/インプラ用ハードマ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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