• フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』 製品画像

    フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

    PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

    『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...

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    メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

  • 【プラズマCVD 装置】アピステのチラーPCUシリーズ 製品画像

    【プラズマCVD 装置】アピステのチラーPCUシリーズ

    アピステのチラーはノンフロン・高耐久・超ワイドレンジの3シリーズ展開!…

    【プラズマCVD 装置】 冷却水温を一定に温調することで、反応室やプラズマ電極、基板の最適温度を保ちます。 ーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーー 【選べる3シリーズのチラー】 1.PCU-NEシリーズ:ノンフロン冷媒を使用し、フロン排出抑制法の対象外 2.PCU-SLシリーズ:厳しい現場環境でも、安心してご使用いただける高い耐久性を実現 3.PCU-Rシリーズ:...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アピステ

  • ホットワイヤーソース『HWCV/DCAT-CVD/ICVD』 製品画像

    ホットワイヤーソース『HWCV/DCAT-CVD/ICVD』

    触媒CVDおよびiCVDアプリケーション向け!統合されたガス分配システ…

    当社では、触媒CVDおよびiCVDアプリケーション向けにホットワイヤーソースを 提供しています。 インラインおよびダイナミック製膜プロセスには特殊な直線形エネルギー源が 利用可能。 特殊設計のソースフランジ、すばやく取り付けができるワイヤーコンポーネント によって構成されており、必要に応じて、単にユニット毎に交換することで、 このワイヤーコンポーネントダウンタイムを短縮できます...

    メーカー・取り扱い企業: フォンアルデンヌジャパン株式会社

  • 半導体製造装置用プロセスコントローラー 製品画像

    半導体製造装置用プロセスコントローラー

    グラフィカルに各種装置・PLCを制御!医療・農業など異分野へ幅広い応用…

    『半導体製造装置用プロセスコントローラー』は、当社の縦型減圧CVD装置 「HG-21」に搭載された、オリジナルの製品です。 産業機器、医療・農業など異分野へ幅広い応用が可能。 PCから簡単にプロセス条件の変更が行えます。またDI・DO・AI・AOで制...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社ハイテクノサービス

  • 排ガス除害・除粉装置・ウェットスクラバー Panacea 製品画像

    排ガス除害・除粉装置・ウェットスクラバー Panacea

    ドライエッチ、CVD、エピタキシャル成長プロセスから排出される、有毒ガ…

    大手半導体、フラットパネルメーカー様へ多数納入実績あり! ■特徴1:発がん性物質の抑制 燃焼除害装置から出る発がん性物質の抑制が可能です。 ■特徴2:水のみでCl2除害効率99%以上 リサイクル水使用による、給水使用料の劇的削減、NaOH量の大幅な使用料削減を実現します。 ■特徴3:生産装置の歩留り向上 燃焼除害装置のメンテナンスサイクルの向上を実現による生産装置のダウンタ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社東設 本社ヘッドオフィス

  • TruPlasma Bipolar 4000(G2.1)シリーズ 製品画像

    TruPlasma Bipolar 4000(G2.1)シリーズ

    波形と周波数のフレキシビリティ!圧倒的な品質と性能を誇るプラズマCVD…

    『TruPlasma Bipolar 4000(G2.1)シリーズ』は、半導体製造、建築用 ガラスコーティング、太陽電池生産、高品質の硬質・装飾コーティング、 光学膜向けの水冷式電力供給装置です。 信頼性と性能が重要となるプラズマCVD(PECVD)と二重陰極スパッタリング プロセスに好適。 エネルギー効率と力率、最高クラスのアーク制御を有します。 【3つの大きな利点】 ...

    メーカー・取り扱い企業: トルンプ株式会社

  • 熱触媒式除害装置(TCSシリーズ) 製品画像

    熱触媒式除害装置(TCSシリーズ)

    排気ガス中の有害成分を専用触媒により除去します。

    ● 反応副生成ガスにも対応  カーボンナノチューブCVDプロセスで使用される NH3(アンモニア)の他  副生成される可能性が ある毒性の強いHCN(シアン化水素)にも対応。※1 ● 視認性に優れたデザイン  集合表示灯及びタッチパネル(オプション)、シグナルタワーによりスピーディーに警報を識別可能。 ● 希釈対応が必要なH2、C2H2も処理可能  乾式除害では処理できない可燃性ガス(...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社巴商会 管理部署:企画営業部

  • 熱媒体(油)循環装置『KCOシリーズ』 製品画像

    熱媒体(油)循環装置『KCOシリーズ』

    最高320℃に対応!各種警報回路や専用コントローラーを搭載。高精度な温…

    【特長】 ■PID制御による高精度な温度制御が可能 ■160℃から320℃までニーズに応じて型式を選択OK ■CVD装置の温調、反応装置のジャケット温調、射出成形金型温調、  各種ロールの温度コントロールなどに活躍 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社レイケン 本社、南関東営業所、大阪支店、中部営業所、茨城工場、大阪工場

  • 株式会社三建アクセス 事業紹介 製品画像

    株式会社三建アクセス 事業紹介

    先進の技術力と、最新の情報力で、開発ニーズに応える株式会社三建アクセス

    株式会社三建アクセスの三本柱は、環境保全、再資源化(リサイクル)、省エネルギーにおける地域社会への貢献です。 私たちは、その実現に向け、それを可能とする様々な技術・商品のご提案、サービスの提供を行っています。 そして、そこに生じるお客様の満足を喜びとし、同時に感謝の気持ちを企業向上の源としています。 私たちは、顧客第一主義の考えを軸とし、日々、感謝と反省の気持ちを心に未来へのスパートを続けて...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三建アクセス

  • 半導体製造装置向けボードコンピュータ『HPUD100』シリーズ 製品画像

    半導体製造装置向けボードコンピュータ『HPUD100』シリーズ

    画像処理、HMI、リアルタイムモーションコントロール用途に好適!長期安…

    寿命設計 ◆BIOSカスタマイズ対応 高信頼性が求められる、 以下の様な半導体製造装置への組込みに適しています。 ◆露光装置 ◆エッチング/薄膜形成装置 ◆レジスト処理装置 ◆CVD装置 ◆スパッタリング装置 ◆ダイシング装置 ◆エージング装置 ...

    メーカー・取り扱い企業: 萩原テクノソリューションズ株式会社 事業企画本部 事業推進部

  • リニアPECVDプラズマ源  製品画像

    リニアPECVDプラズマ源

    物理蒸着(PVD)プラズマ源以外に、様々な化学的気相成長(CVD)プラ…

    『リニアPECVDプラズマ源』は、標準的な静電容量結合プラズマ電極に類似した 製品です。 インラインダイナミックモードで動作しており、基板、キャリア、または ウェブは絶えず電極を通過し、連続的に製膜されています。 CCP CVDを用いる静止モードで大型の基板を均一に製膜するという機械的、 電気的な大規模作業が求められる場合であっても、リニアPECVDは 空間パラメーターを一次元...

    メーカー・取り扱い企業: フォンアルデンヌジャパン株式会社

  • 真空焼結炉 FVS-I 誘導加熱式 製品画像

    真空焼結炉 FVS-I 誘導加熱式

    最高3200℃までの高温に対応可能!黒鉛化炉、CVD炉などに導入いただ…

    『FVS-I 誘導加熱式』は、電気をエネルギー源とした工業加熱装置です。 最高3200℃までの高温に対応可能。 タンク形状は丸型でφ800×1000H(mm)の炉内有効寸法の実績があります。 溶解、焼結、焼成、ホットプレスなど、様々な業種で必要とされる 熱加工方法に対応でき、黒鉛化炉、CVD炉などに導入いただけます。 【特長】 ■最高3200℃までの高温に対応できる ■タ...

    メーカー・取り扱い企業: 富士電波工業株式会社 滋賀工場

  • 気体・液体用マスフローコントローラ<真空・圧力計測と制御> 製品画像

    気体・液体用マスフローコントローラ<真空・圧力計測と制御>

    薄膜、コーティング、表面処理は、幅広い産業とアプリケーションをカバーし…

    産業用や民生用の製品の表面には、その仕上がりを最適化させるためにコーティングを施すことがあります。例えば、切削工具の耐摩耗性、ガラスの耐傷性、板ガラスの熱特性、住宅設備機器の美観などを向上させることが可能です。 化学蒸着、物理蒸着、プラズマ処理プロセス、溶射など、コーテイングの手法はさまざまですが、製造工程の最終段階として行われることが多いようです。 ブルックスインスツルメントのマスフ...

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    メーカー・取り扱い企業: ITWジャパン株式会社

  • 製品案内 装置 製品画像

    製品案内 装置

    表面分析用チャンバーや蒸着用チャンバーのご紹介

    【使用例】 ■MBE装置 ■CVD装置 ■有機材料成膜装置 ■分析装置  他 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社

  • メンテナンス・リサーチ株式会社 会社案内 製品画像

    メンテナンス・リサーチ株式会社 会社案内

    真空装置のサポート・真空プロセス製品を広くご紹介しております。

    メンテナンス・リサーチ株式会社は、米国Materia Is Research Corporation製造スパッタリング装置のメンテナンスを目的に2008年に設立しました。 メンテナンス・リサーチは新しい真空プロセス設備のご紹介とともに、ご使用設備を長く安定して稼働して頂くよう、製造中止パーツの置き換え、電源、ロボット等の修理代替え品等を用意し、信頼のあるパーツと技術サービスのご提供を通してお客様...

    メーカー・取り扱い企業: メンテナンス・リサーチ株式会社

  • 蒸気供給装置『VDMシリーズ』 製品画像

    蒸気供給装置『VDMシリーズ』

    高速・正確・高い再現性で効率的!配線と配管をつなげるだけで動作!分析等…

    『VDMシリーズ』は、ガス用・液体用の流量コントローラと 温度コントロール可能な気化器で構成される液体供給システム『CEMシステム』に 電源・コントロール機能・1.8インチTFT液晶ディスプレイといった 運転に必要な機能を加えて小型の筐体に内蔵した蒸気供給装置。 配線と配管をつなげるだけで動作し、100 mln/minから 10 ln/minの範囲で飽和蒸気圧までの蒸気を供給できます...

    メーカー・取り扱い企業: ブロンコスト・ジャパン株式会社

  • 実績技術 ナノ関連 製品画像

    実績技術 ナノ関連

    電気抵抗の改善や、ナノ粒子が小さいのでPtの量を減らす事が可能。

    実績技術 ナノ関連はカーボンナノホーンを20%~30%含んだNanoカーボン物質に、Ptを37wt%で担持(下写真左)した結果、従来よりも電気抵抗の改善や、ナノ粒子が小さいのでPtの量を減らすことが可能となった。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【特徴】 ○カーボンナノホーンを、20%殻30%含んだナノカーボン物質に、Ptを37wt%で胆持した結果、  従来よりも電気抵...

    メーカー・取り扱い企業: エイアールブイ株式会社

  • 【開発事例のご紹介】制御システム開発賜ります 製品画像

    【開発事例のご紹介】制御システム開発賜ります

    豊富な開発実績でお客様の業務をサポートいたします!

    株式会社アビリカは、制御システム設計からハードウェア設計、システム立ち上げまでトータルでサポートいたします。 事例は全て自社開発ですが、制御だけのご相談もお受けします。 【開発事例】 ■レーザCVD配線形成装置(半導体メーカー様納入) ■2.5in HDD HSA Modular Line(HDDメーカー様納入) ■流体軸受スピンドルモーター組立装置(小形モータメーカー様納入) ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アビリカ

  • サーモシステム事業 製品画像

    サーモシステム事業

    電気をエネルギー源とした各種工業加熱システムを提供するサーモシステム事…

    富士電波工業株式会社の「サーモシステム事業」についてご紹介します。 誘導加熱装置のメーカーとしてスタートし、産業構造の変遷に柔軟に対応。 鉄鋼など金属の溶解炉、ファインセラミックスなどの焼成炉、シリコンの 溶融、CVDなど各種の表面処理、熱処理設備とバラエティを広げています。 熱加工を必要とする様々な業界のお客様の多彩なニーズをくみ取って、 高温から低温まで、システム化された好適...

    メーカー・取り扱い企業: 富士電波工業株式会社 滋賀工場

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