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フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』
PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…
『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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SiC成膜技術で未来をひらく!独自の化学蒸着法で製作されたSiC製品
独自の CVD - SiC( 化学蒸着法)で製作されたアドマップの SiC 製品は、 超高純度・高耐食性・高耐酸化性・高耐熱性・高耐摩耗性の特性を備えています。 半導体をはじめ、産業機械、原子力、航空宇宙分野など、 あらゆるフィールドで高い評価を得ております。 【特長】 ○塩酸・硫酸・硝酸・弗酸・弗硝酸などの酸ではほとんど腐食しない ○表面には二酸化ケイ素(SiO2)被膜が形成...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フェローテックホールディングス
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厳しい環境下で多数の実績!適応可能が幅広い膜単体製造技術
コーティング技術を応用し、緻密なSiC膜のみで構成された製品を提供いたします。 平板をはじめ、複雑形状まで幅広く適応可能です。 半導体製造装置を中心に、超高温やプラズマの厳しい環境下での数多くの実績があります。 【製造工程(例)】 1.黒鉛基材を円板状に加工 2.全面にCVD-SiCコーティング 3.外周加工により基材を露出 4.高温酸化雰囲気中で基材除去 5.2枚の膜単体円板...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フェローテックホールディングス
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ベストソリューションを提供!独自技術を中心としたソリューション
独自のCVD-SiC技術を中心に、 分析力・解析力・設計力を掛け合わせ、構想の初期段階から参画し、 ベストソリューションを提供いたします。 【提案例】 ○超高温アニール装置用大型部材開発(ボート、ホルダ、ノズル) ○狭ピッチ膜単カセットボート開発 ○超高純度SiCパウダー原料 ○次世代ウェハ対応部材 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【O...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フェローテックホールディングス
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SiC成膜技術で未来をひらく!独自の化学蒸着法で製作されたSiC製品
独自の CVD - SiC( 化学蒸着法)で製作されたアドマップの SiC 製品は、 超高純度・高耐食性・高耐酸化性・高耐熱性・高耐摩耗性の特性を備えています。 半導体をはじめ、産業機械、原子力、航空宇宙分野など、 あらゆるフィールドで高い評価を得ております。 【特長】 ○塩酸・硫酸・硝酸・弗酸・弗硝酸などの酸ではほとんど腐食しない ○表面には二酸化ケイ素(SiO2)被膜が形成...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フェローテックホールディングス
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