フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

CVD装置

CVD装置

せる気相反応、表面反応を利用した薄膜作製装置です。原料ガス状物質を化学的に活性させる（励起状態にする）手法として、熱、プラズマ、光（レーザー、紫外線など）があり、各々熱CVD、プラズマCVD、光CVD装置などがございます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

太陽電池作製装置（Si系、CIGS系太陽電池作製用のCVD装置）

高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC…

本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試料搬送用ロボットチャンバー、試料ストックチャンバーの合計5室で構成しております。...本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

CVDプロセスガス分析装置 MPQMS]

CVDプロセスのガス成分をその場で分析できる四重極質量分析システムです…

当社の各種ナノカーボン製造装置やバイオマス炭化装置にそのまま組み込んで 使用できるように設計してあります。作動排気系を有し、高い圧力のCVD条件にも対応できます。...【特徴】 ○四十極質量分析計 ○差動排気用高真空システム ○抽出データ管理用パソコン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

導電性薄膜作製装置『オスミウム・プラズマコーター』

電子顕微鏡観察のお悩みを解決！チャージアップ防止、粒状性・熱ダメージ軽…

『オスミウム・プラズマコーター』は、「直流グロー放電による 負グロー相領域内でのプラズマ製膜法」を用いた電子顕微鏡試料用の 導電性薄膜作製装置です。 プラズマCVD法により、非晶質のオスミウム導電性薄膜(オスミウムコート)を 短時間に形成することができます。 非常に強固かつなめらかな表面の導電性薄膜が試料に対し熱ダメージを 与えることなく得られます。 【特長】 ■フルオ...

メーカー・取り扱い企業： フィルジェン株式会社

【infiTOF】半導体プロセスガスモニタリングソリューション

飛行時間型高分解能質量分析計で、プロセスガスのin-situモニタリン…

半導体プロセスには結晶成長(エピタキシャル成長)、成膜(CVD,ALD)、 エッチング、クリーニングなど様々な工程があります。 また、これらのプロセスでは多種の原料ガスが使われております。 プロセスチャンバー内における反応生成物、分解物、残留成分を リアルタイムでモニタリングすることにより、歩留りの向上、生産性の向上、 さらには次世代に向けた半導体研光開発に貢献することができます。...

メーカー・取り扱い企業： カノマックスアナリティカル株式会社