• 材料開発DXを加速! 活用事例紹介ウェビナー開催<無料> 製品画像

    材料開発DXを加速! 活用事例紹介ウェビナー開催<無料>

    PR原子レベルのシミュレーションとマテリアルズ・インフォマティクス活用で材…

    半導体や電子部品から日用品に至るまで、様々な材料開発において、原子・分子レベルでの設計が求められています。 シュレーディンガーの『Materials Science Suite』は、各種の原子・分子レベルのシミュレーションおよび機械学習により、材料開発を大幅に加速するソフトウェア・プラットフォームです。 さらに、データ駆動型アイデア創出プラットフォーム『LiveDesign』は、計算技術を活用...

    メーカー・取り扱い企業: シュレーディンガー株式会社

  • Design&CMFグループ 製品画像

    Design&CMFグループ

    ひとつひとつのモノとコトを美しく、心地よく。価値あるCMFデザインを京…

    Design&CMFグループは、ITディバイス、家電、モビリティから化粧品まで、 幅広いお客さまのデザインコンセプトや商品におけるペルソナを理解し、 その製品のユーザー体験価値を最大化させるために好適なCMFを提案する NISSHAのデザイン部門です。 デザインを提案する過程においてマーケットのトレンドを常に分析し、 そのプロダクトを使用するユーザーの快適なライフスタイルを創造します...

    メーカー・取り扱い企業: NISSHA株式会社

  • PICWave (Photonic IC/Laser /SOA) 製品画像

    PICWave (Photonic IC/Laser /SOA)

    PICWave は、アクティブデバイスを含む(半導体レーザ・SOA)光…

    PICWave is a photonic integrated circuit (PIC) design tool which brings together: an advanced laser diode and SOA model, a powerful photonic integrated circuit (PIC) design and simulation tool, a f...

    メーカー・取り扱い企業: CTflo株式会社

  • CODERE社 SYSTEM250 モジュール式ベル型熱処理炉 製品画像

    CODERE社 SYSTEM250 モジュール式ベル型熱処理炉

    熱処理「歪み」にお困りのお客様に! [バッチ式熱処理ライン]全自動雰囲…

    SYSTEM250炉は、非常にシンプルなスライドシステムで(処理部品と共に)動作します。この動きは保護雰囲気ガス下で行われるため、お客様の処理部品(ロード)は大気と接触することはありません。処理部品は熱処理ライン内でのすべての熱処理工程の期間中、加熱炉の雰囲気で保護されます。 炉内搬送中のワークロック不要。 概要 •機能的に分離・独立したベル型加熱炉と焼入れ槽でライン構成されたモジュラー...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社コーレンス

  • ※動画公開中※ 波長可変半導体レーザー 『DL pro』 製品画像

    ※動画公開中※ 波長可変半導体レーザー 『DL pro』

    研究用チューナブルレーザーに要求される最高クラスの安定性とパフォーマン…

    トプティカ社の DL pro は波長可変レーザーです。 革新的なメカニカルデザインは容易な操作性と安定性を実現しました。 波長選択グレーティングの仮想ピボットポイントにより最大の出力、 最適化された波長範囲においてモードホップフリー波長チューニングが可能。 (特許技術:DE 10 2007 028 499 および US 7970024)。 また、DLC pro デジタルコントローラと...

    メーカー・取り扱い企業: トプティカフォトニクス株式会社 営業部

  • Oxygen Atom Beam Source OBS 製品画像

    Oxygen Atom Beam Source OBS

    Oxygen Atom Beam Source OBSの製品情報となり…

    The Oxygen Atom Beam Source OBS is a thermal gas cracker which produces an ion-free oxygen gas beam. The OBS does not cause ion induced damage on the substrate. It exhibits a very compact design and i...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • 最高80MPaの耐圧を有し、 日々のメソッド開発に適したLC 製品画像

    最高80MPaの耐圧を有し、 日々のメソッド開発に適したLC

    日々のメソッド開発の課題を解決!既存システムの段階的なアップグレードも…

    『1260 Infinity II メソッド開発システム』は、最高80MPaの耐圧を有し、 日々のメソッド開発に適したシステムです。 100種類を超える、異なるLC分離条件での、自動スクリーニングが可能で マニュアル操作は不要。15の異なる移動相および2つの独立した温度ゾーンで、 4本までのカラムを用いたメソッド開発が可能です。 新しい 1260 Infinity II フレキシ...

    メーカー・取り扱い企業: アジレント・テクノロジー株式会社

1〜6 件 / 全 6 件
表示件数
30件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • bnr_2403_300x300m_ur-dg2_dz_ja_33566.png
  • 修正デザイン2_355337.png