FOR | イプロスものづくり

PR毎月先着50社限定｜短納期、小ロットから対応の「エッチング加工」サンプ…

エッチング加工をご希望の企業様向け！毎月先着50社様限定で、ケミカルプリントが誇る技術を詰め込んだ無料サンプルを進呈致します！切削加工や機械加工に比べ、エッチング加工は加工精度が高く、また、ケミカルプリントなら短納期・小ロットから対応が可能です。サンプルご希望の企業様はイプロスもしくは、下記お問い合わせからとご連絡くださいませ。 https://www.chemical-print.c...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ケミカルプリント

簡単導入！電子実験記録ノート『BIOVIA Notebook』

PR【使用開始にあたり特別な準備やトレーニングが不要！】シンプルな画面構成…

電子実験ノート『 BIOVIA Notebook 』は簡単に導入・運用できるELN/電子実験ノートで、研究開発部門のDX化推進に好適なツールです。実験業務において、研究開発のスピードUP、コスト削減、組織間情報共有を実現することで研究開発でのイノベーションを促進します。過去には数億円規模でのコストダウンや4,000ユーザの運用でも専任不要の実績がございます。また BIOVIA Note...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

ARPES-Lab　（ARPES光電子分光分析システム）

ARPESでのXPS観察・測定に！次世代のARPES測定装置の紹介です…

ARPES-Lab　（ARPES光電子分光分析システム）、XPS観察・測定に使用される装置です。【用途】 ARPESでのXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The ARPES-Lab brings together the world leading instrumentation for ARPES: ●Outstanding performance ARPES...

メーカー・取り扱い企業：シエンタオミクロン株式会社

HiPP-Lab（環境制御型X線光電子分光分析システム）

大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置！

HiPP-Labは、大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置をさします。差動排気システムを用いて大気圧に近いレベルでの測定環境下で試料の測定が可能となり今まで測定出来なかった環境制御下における次世代のXPS装置です。【用途】環境制御下での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The HiPP-Lab brings together th...

メーカー・取り扱い企業：シエンタオミクロン株式会社

COMPACT EFFUSION CELLS

COMPACT EFFUSION CELLSの製品情報となります

COMPACT EFFUSION CELLS FOR THIN FILM DEPOSITION OR MBE IN RESEARCH UHV SYSTEMSの製品情報となります。詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...

メーカー・取り扱い企業：シエンタオミクロン株式会社

Custom MBE Systems（真空蒸着装置）

真空蒸着装置の紹介です。

Virtually unlimited thin film growth techniques. ●Combined UHV SPM / XPS / UPS / MBE system ●Hybrid (PLD) Laser-MBE System (based on a LAB10 MBE System) ●UHV PLD and MULTIPROBE Compact ●Charge &...

メーカー・取り扱い企業：シエンタオミクロン株式会社

VUV-5K　（紫外光源）

真空紫外光源の紹介

輝度の高い紫外光源（真空紫外光源）のご紹介です。【詳細】※英文 The Scienta VUV5000 is a high intensity, narrow bandwidth extreme UV source. It provides radiation con-centrated to He I (21 eV and 23 eV) and He II (41eV). T...

メーカー・取り扱い企業：シエンタオミクロン株式会社

HAXPES-Lab（ラボ型硬X線光電子分光分析システム）

放射光施設でのみ可能であった硬X線光電子分光がラボでも使用可能に！

今までの汎用XPSでは到達できなかった深さを分析できる次世代のXPS装置です。これまで放射光施設でのみ使用可能だった硬X線の使用が可能になりました。 Ga ka単色化線源により９．２５keV励起による高分解能硬X線光電子分光を実現いたしました。【用途】表面より深い領域での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 HAXPES-Lab is designed ...

メーカー・取り扱い企業：シエンタオミクロン株式会社

DA30-L　（光電子アナライザー）

ARPES分析アナライザーの紹介

ARPES分析アナライザーのご紹介です。【特長】※英文 ●30° degrees full cone acceptance without sample rotation ●Spin-resolved MDC without sample rotation ●Patented (WO2013/133739) ●Improved ky accuracy (resolution bet...

メーカー・取り扱い企業：シエンタオミクロン株式会社

Cluster Systems（真空蒸着装置）

真空蒸着装置の紹介です。

○FZ Juelich Cluster -Installed at the HNF (Helmholtz Nanofabrication Facility) Juelich, Germany ○IQC Cluster Tool -Installed at the Institute for Quantum Computing at the University of Wate...

メーカー・取り扱い企業：シエンタオミクロン株式会社

SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSI

SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSIの製品情…

The Silicon Sublimation Source - SUSI - was developed for growing of thin Si layers, short period Si/Ge superlattices and Si/Sige heterostructures, but it is also an excellent Si dopant source. 詳しくはカ...

メーカー・取り扱い企業：シエンタオミクロン株式会社

CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO

CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKOの製品情報…

The Carbon Sublimation Source - SUKO - was developed for growth of Si-C and Si-Ge-C alloys in silicon MBE. The SUKO provides a very clean and constant flux at a low deposition rate up to 2 Å/min. A ma...

メーカー・取り扱い企業：シエンタオミクロン株式会社