CZウェーハ　エピ受託加工　SiGeエピウェーハ　他

PR小ロットからの対応可能です。特殊なエピ、多層エピなどにも出来るだけ対応…

「エピウェーハ」 1. ディスクリートデバイス向けや IC powerデバイス向けに使用されております。 ＊直径: 100-200 mm ＊Epi層ドーパント: Boron 、Phosphorous ＊Epi層抵抗値: 0.01-500 Ω/cm ＊Epi厚: 1-150 um ＊Stacking fault: 10 /cm2 以下 ＊Thickness Uniformity: ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

遊離塩素除去、金属吸着に！　酸性官能基の多い活性炭

PR酸性官能基が表面に多く付与された酸性の活性炭。アルカリの物性を持つ貴金…

『高酸性官能基炭(粒状)』は、官能基を通常品よりも多く持つ製品です。 官能基量upにより反応点(edge)が増大すると、反応点が増えます。 また、当社が取り扱うアルカリ賦活活性炭「マックスソーブ」は、 通常の活性炭に比べ3倍の3000m2を超える比表面積にすることが可能なため、 各種の高い吸着性能を発揮致します。 【特長】 ■官能基量upにより反応点(edge)が増大 ■高い...

メーカー・取り扱い企業： 関西熱化学株式会社(製造元：株式会社MCエバテック)

高性能製造装置　～GE製ガスタービン部品の製造効率を向上～

GE 製ガスタービン部品の製造効率を向上！ 画期的な高性能製造装置です

GEと革新的なレーザー切断技術をもつスイス企業Synova（シノヴァ）、 そして高性能・高品質の精密技術をもつ日本企業、牧野フライス製作所は 3社共同で、レーザーマイクロジェット技術を用いたガスタービン部品の 画期的な製造装置を発表します。 この新たな製造装置は回転機器の部品に対して冷却穴をあけるために必要な 加工時間を飛躍的に短くするだけではなく、ガスタービンの性能向上に 向けた優れた...

メーカー・取り扱い企業： SYNOVA JAPAN株式会社