• 【トルク2倍で作業を楽々!】補助ハンドル付き 六角棒スパナ 製品画像

    【トルク2倍で作業を楽々!】補助ハンドル付き 六角棒スパナ

    PR手触りが良く、衝撃に強い樹脂を使用したハンドルを装着することにより、通…

    『WHH-3TL~10TL・S6TL』は、ハンドルとレンチが簡単に分離できるのでエコロジーな廃棄が可能な補助ハンドル付き六角棒スパナです。 ハンドルをレンチのL1側に装着することで、ハンドル無しに比べてL2側のトルクが2倍以上出せるようになります。 【特長】 ○簡単にハンドルを取り外し、分離できるので分別して廃棄可能 ○トルクUPで、楽々作業することができます。 ○ハンドルは手触りが...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイト

  • 磁気選別機『異物除去用 格子型マグネット 両端固定』 製品画像

    磁気選別機『異物除去用 格子型マグネット 両端固定』

    PR食品・粉粒体に混入した金属片を強力に吸着。1ミリ単位のオーダーメイド製…

    『格子型マグネット 両端固定』は、食品・加工食品・工業材料などに混入した金属片・微細な鉄粉を吸着除去するマグネット・フィルター。最大1,200mTの直径25mmの高磁力マグネットで微細な鉄粉を吸着捕獲。 格子型にすることでマグネットバー単体よりも大量の金属異物の除去がで可能。主にハウジング内や配管中に設置。マグネットの棒とフラットバーの接合部分は食品用のR付全周溶接、マグネットの棒を固定する...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンギョウサプライ

  • 熱触媒式除害装置(TCSシリーズ) 製品画像

    熱触媒式除害装置(TCSシリーズ)

    排気ガス中の有害成分を専用触媒により除去します。

    ● 反応副生成ガスにも対応  カーボンナノチューブCVDプロセスで使用される NH3(アンモニア)の他  副生成される可能性が ある毒性の強いHCN(シアン化水素)にも対応。※1 ● 視認性に優れたデザイン  集合表示灯及びタッチパネル(オプション)、シグナルタワーによりス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社巴商会 管理部署:企画営業部

  • 高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V) 製品画像

    高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

    量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…

    す。 また、AMAX800Vのメンテナンス性を更に向上させたAMAX800V2もラインナップしております。 ●装置サイズ(mm): 1460mm(W) x 3830mm(D) x 2250mm(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) ●成膜温度: 350~430℃ ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501) 製品画像

    小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

    試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

    手軽に成膜が可能す。 ●納入実績  ・国内外半導体デバイス/オプトデバイスメーカー  ・大学/研究機関 ●装置サイズ(mm): 1200mm(W) x 2480mm(D) x 1940mm(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2)      TEOS/O3系 (TEOS/TMOP/TEB/O3/O2/N2)(オプション)      SiH4...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200) 製品画像

    高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

    量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…

    ナンス性も良好です。 AMAX1200は、12インチまでのウェハに対応し、最大で1時間あたり56枚の成膜が可能です。 ●装置サイズ:2165mm(W) x 4788mm(D) x 2250mm(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) ●成膜温度: 350~430℃ ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S) 製品画像

    太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

    結晶Si太陽電池セル量産用 NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

    た、太陽電池用薄ウェハ対応のため、特殊ウェハホルダー・ランプ加熱機構・多段ベルヌイチャック等を採用しました。 ●装置サイズ(mm): 1860mm(W) x 5900mm(D) x 2100mm(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) ●成膜温度: ~430℃ ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」 製品画像

    ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

    FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

    ℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上で成膜が可能で、膜厚均一性10%以内を確保できます。 ●装置サイズ(mm): 1300mm(W) x 7350mm(D) x 2000mm(H) ●ガス種: SiH4, O3/O2, PH3, B2H6 ●成膜温度: 150~300℃ ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V) 製品画像

    高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

    少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式…

    長周期)を向上させています。 コンパクトな筐体サイズで、隣接設置も可能なので、フットプリントを最小化することができます。 ●装置サイズ(mm): 890(W) x 2300(D) x 2250(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2)      TEOS/O3系 (TEOS/TMOP/TEB/O3/O2/N2)(オプション) ●成膜温度: 350...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】 製品画像

    ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

    Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

    【装置構成例】 ・基板:Cu, Ni, 他..(フィルム, フォイル) ・原料:CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.. ・プロセスガス:H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ:Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・500...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 半導体式マイクロ波電源 5.8GHz帯 製品画像

    半導体式マイクロ波電源 5.8GHz帯

    半導体式マイクロ波電源 5.8GHz帯

    新開発 半導体式マイクロ波電源 5.8GHz帯 130W 電源が商用電源AC100V・デスクトップサイズ等、使い易さを考えて新開発したマグネトロンを使用しない、半導体式マイクロ波電源及び加熱試験装置です。 GNUシリーズとして、周波...

    メーカー・取り扱い企業: 富士電波工機株式会社 第1機器部

  • レーザーCVD装置 製品画像

    レーザーCVD装置

    サンプルMAXサイズ10mm口!耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

    『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター加熱 ■RPにて排気、MAX 5Pa ■O2 x 1 A...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置 製品画像

    【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

    ◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT(SWN…

    ・ガス供給3系統(標準) ・試料加熱ステージMax1100℃ ・Kタイプ熱電対 ◆Model. nanoCVD-8N(CNT用)◆ ・CNT生成用,常圧プロセス制御 他同上 ※ H2, Ar, N2, Ethanol, CH4等の原料、及び原料供給設備は付属しません。...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • RIBER社 分子線エピタキシー(MBE)装置  製品画像

    RIBER社 分子線エピタキシー(MBE)装置

    パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

    Se、SiN、酸化物等がある。 構成例として、クリーニングとパッシベーションを行うレーザーの両端でデバイスホルダーを反転させる機能が含むチャンバ、パッシベーション膜前の自然酸化膜除去する為の水素(H2)プラズマクリーニングチャンバ等を含む事も可能です。 ウエハは、高真空条件下でチャンバーからチャンバーへと移動し、プロセス全体を通して清浄度が維持されています。 お客様のご要望とプロセス時間等...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置 製品画像

    【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

    【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

    【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統(CH4, Ar, H2, バブラー用)MFC高精度流量制御:精度±1% F.S. ◉ キャパシタンスマノメータ(バラトロンゲージ)による高精度APC圧力制御 ◉ Lab Viewソフトウエア(オプシ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ポイントタイプ液漏れ検知器『リークラーン OD-7』 製品画像

    ポイントタイプ液漏れ検知器『リークラーン OD-7』

    液漏れを早期に発見し事故を最小限に防止!油、有機溶剤検知器にRoHSお…

    【特徴】 ■検知方法は抵抗変化方式を採用 ■液漏れと断線の警報を各々別の外部接点から出力することが可能 ■対象液体や液漏れ状態に合わせて液漏れ検知感度調整可能 ■自己診断機能付き ■RoHS対応 ※詳しくはお問い合わせ、またはPDFをダウンロードしてご覧ください。...

    メーカー・取り扱い企業: ラポールプラントエンジニアリング株式会社

  • 【超耐熱】エンジニアリングプラスチック SCM8000のご紹介 製品画像

    【超耐熱】エンジニアリングプラスチック SCM8000のご紹介

    超耐熱・低吸水率・優れた摺動特性を誇るエンジニアリングプラスチックです…

    【SCM8000】は高耐熱性ポリイミドを原料に圧縮成形した超耐熱樹脂です。 高温下、腐食環境、何度も摺動する摩耗懸念の有る箇所に対して、優れた性能を発揮します。 エンジニアリングプラスチックの中では、加工性が良い材料です。 穴あけ加工の際には、刃物によるバリレス可能、微細穴あけ加工にも適したプラスチック材料です。 当社では精密加工の実績も多く御座いますので、是非ご相談ください。...

    メーカー・取り扱い企業: ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部 機能材料課

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