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PRお客様は基板に載せるだけ!300社を超える主要ICサプライヤーのデバイ…
『ROM書込みサービス』は、長年の実績があり、当社グループの ISO9001認工場において、高い品質管理の下、作業を行うサービスです。 多品種で小ロット、Microchipをはじめとする主要ICメーカー製品への対応、 小ロットでのテーピング加工など、お客様の様々なご要望に柔軟に お応えする安心の書込みソリューションをご提供。 捺印・リール加工、物流まで安心の一元管理でき、煩雑な管...
メーカー・取り扱い企業: グローバル電子株式会社
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PR先端デバイスの開発など、優れた信号解析性能が要求されるアプリケーション…
高性能オシロスコープPicoScope 6428E-Dは、 既存のPicoScope 6000Eシリーズの性能を拡張したもの。 高エネルギー物理学、LIDAR、VISAR、分光分析、加速器、 および他の高速信号解析に取り組む科学者や研究者にとって理想的なツールです。 【特徴】 ・周波数帯域 3 GHz ・最高サンプリング速度 10 GS/s ・分解能可変8-12ビット ・メモリ4GS ・アナロ...
メーカー・取り扱い企業: Pico Technology Ltd.
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微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素(Si3N4)粉末。 ミクロンスケ…
■製品スペック(COA : 量産品代表値。) <α相 D50=1μm - 2μm品の場合> Si3N4 純度≧99.9% α相>90.0% 不純物濃度(ICP-MS) Fe=45ppm Al=14ppm Ni=11ppm W= 9ppm Zn=<1ppm Ca=<1ppm C/O濃度測定(赤外線吸収法) C=0.06wt% O=1...
メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社
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短時間で100nmレベルへの粉砕が可能!リチウムイオン電池負極用シリコ…
【化学成分(測定方法:ICP-OES)】 ■Si (%):> 99.99 ■Fe (ppm):26 ■Al (ppm):11 ■Ti (ppm):< 1 ■Ni (ppm):144 ■Cu (ppm):< 1 ...
メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社
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Mg純度≥99.90~99.95% : 7.5kg/Ingotから各種…
6 Cu(ppm) 11 10 Al(ppm) 22 20 Mn(ppm) 18 15 *ICP発光分光分析装置による元素測定。 量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。 保証スペックについては、契約により定めます。 ...
メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社
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合成した金属錯体は、NMRやXRD、ICP-OESなど当社保有の分析機…
合わせにより、触媒や色素増感体など 多種多様な性質を発現します。 当社では、種々の配位子合成はもとより、錯化も含めた受託合成を実施。 また、合成した金属錯体もNMRをはじめ、XRDやICP-OESを用いて 分析することが可能です。 【特長】 ■種々の配位子合成や錯化も含めた受託合成を行っている ■合成した金属錯体もNMRなどを用いて分析することが可能 ■暗室や複数台の...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ナード研究所
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物理蒸着法(PVD)による球状 銅(Cu)粉末。 サブミクロン~1mm…
■製品スペック(COA : 量産品代表値。) Cu 純度:≧99.0%(2N) 不純物濃度(ICP-MS) Fe=21ppm Al=22ppm Ni=26ppm C/O濃度測定(赤外線吸収法) C=0.4479wt% O=0.6104wt% 粒度(レーザー回析・...
メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社
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物理蒸着法(PVD)による球状 ニッケル(Ni)粉末。サブミクロンスケ…
■製品スペック(COA : 量産品代表値。) <D50=0.2μm - 0.3μm品の場合> Ni 純度:≧99.0%(2N) 不純物濃度(ICP-MS) Fe=30ppm Al=28ppm Cu=31ppm C/O濃度測定(赤外線吸収法) C=0.1153wt% O=1.4650wt% 粒度(レーザー回析・...
メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社
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