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    ROM書込みサービス

    PRお客様は基板に載せるだけ!300社を超える主要ICサプライヤーのデバイ…

    『ROM書込みサービス』は、長年の実績があり、当社グループの ISO9001認工場において、高い品質管理の下、作業を行うサービスです。 多品種で小ロット、Microchipをはじめとする主要ICメーカー製品への対応、 小ロットでのテーピング加工など、お客様の様々なご要望に柔軟に お応えする安心の書込みソリューションをご提供。 捺印・リール加工、物流まで安心の一元管理でき、煩雑な管...

    メーカー・取り扱い企業: グローバル電子株式会社

  • 【カタログ進呈!】高性能オシロスコープ PicoScope  製品画像

    【カタログ進呈!】高性能オシロスコープ PicoScope

    PR先端デバイスの開発など、優れた信号解析性能が要求されるアプリケーション…

    高性能オシロスコープPicoScope 6428E-Dは、 既存のPicoScope 6000Eシリーズの性能を拡張したもの。 高エネルギー物理学、LIDAR、VISAR、分光分析、加速器、 および他の高速信号解析に取り組む科学者や研究者にとって理想的なツールです。 【特徴】 ・周波数帯域 3 GHz ・最高サンプリング速度 10 GS/s ・分解能可変8-12ビット ・メモリ4GS ・アナロ...

    メーカー・取り扱い企業: Pico Technology Ltd.

  • 微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素(Si3N4)粉末 製品画像

    微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素(Si3N4)粉末

    微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素(Si3N4)粉末。 ミクロンスケ…

    ■製品スペック(COA : 量産品代表値。) <α相 D50=1μm - 2μm品の場合> Si3N4 純度≧99.9% α相>90.0% 不純物濃度(ICP-MS) Fe=45ppm Al=14ppm Ni=11ppm W= 9ppm Zn=<1ppm Ca=<1ppm C/O濃度測定(赤外線吸収法) C=0.06wt% O=1...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • 金属マグネシウム(Mg) インゴット 製品画像

    金属マグネシウム(Mg) インゴット

    Mg純度≥99.90~99.95% : 7.5kg/Ingotから各種…

    6 Cu(ppm) 11 10 Al(ppm) 22 20 Mn(ppm) 18 15 *ICP発光分光分析装置による元素測定。 量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。 保証スペックについては、契約により定めます。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • サブミクロン~1mmまで 球状 銅(Cu)粉末 製品画像

    サブミクロン~1mmまで 球状 銅(Cu)粉末

    物理蒸着法(PVD)による球状 銅(Cu)粉末。 サブミクロン~1mm…

    ■製品スペック(COA : 量産品代表値。) Cu 純度:≧99.0%(2N) 不純物濃度(ICP-MS)  Fe=21ppm  Al=22ppm  Ni=26ppm C/O濃度測定(赤外線吸収法)  C=0.4479wt%  O=0.6104wt% 粒度(レーザー回析・...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • 球状 サブミクロン ニッケル(Ni)粉末 製品画像

    球状 サブミクロン ニッケル(Ni)粉末

    物理蒸着法(PVD)による球状 ニッケル(Ni)粉末。サブミクロンスケ…

    ■製品スペック(COA : 量産品代表値。) <D50=0.2μm - 0.3μm品の場合> Ni 純度:≧99.0%(2N) 不純物濃度(ICP-MS)  Fe=30ppm  Al=28ppm  Cu=31ppm C/O濃度測定(赤外線吸収法)  C=0.1153wt%  O=1.4650wt% 粒度(レーザー回析・...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

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