平板型赤外線加熱炉　IR-FP Series

赤外線集光加熱により秒速・高温・均一加熱が可能です。お客様のニーズに合…

「IR-FP Series」は、Max1100℃まで加熱可能な平板型の赤外線加熱炉です。 各ゾーンごとの出力調整が可能なため、色々な温度環境での加熱が可能です。 クリーンな加熱で真空対応やガスフロー、観察も可能です。シリコンウエハ、化合物半導体及び薄版鋼板加工の加熱に最適です。 樹脂やフィルム、接着剤の耐熱・変形・観察の用途に使用できます。 試料サイズにより炉サイズの対応が可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社米倉製作所

機械の小型化・乾燥の高速化を実現 ！ホットプレート乾燥炉

1/3～1/4の小型化で乾燥時間が1/3～1/4に短縮になった事例あり…

『WD-100シリーズ』は、省スペースと段取り替えの良さを追求した乾燥炉です。 対象基板サイズは50mm□～125mm□・厚みは0.2mmt~2mmt ホットプレートの高速加熱を最大限生かす、搬送システムの追求により、 高速搬送とダイレクト加熱を達成しました。 マルチサイズ、高速搬送、高速加熱、低フットプリントに対応しています。 【特長】 ■IR雰囲気炉と比べ、乾燥が最大1...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社メック