GMP仕様対応可能 解砕・分散分級が実現！ 『FSハイシフター』

PR驚異の縦振幅を実現し、解砕・分散分級！超音波発生装置が不要で、微粉・油…

「粉体が目詰まりしてしまう...」「振動で解砕も同時にできれば目詰まりしないのに...」「超音波発生装置は高いし...」こんなお困りごとはございませんか？ 『FSハイシフター』は波動運動によりスクリーン上の材料が激しく跳ね上げられスクリーンに衝突、材料の凝集は解砕・分散され分級効果が増大します ナイロン網による分級の為、ランニングコストが低減！ 網たたきも不要な事からコンタミのリスクを低...

メーカー・取り扱い企業： 日東機器ファインテック株式会社

ビル・工場の冷暖房など、様々な用途に活用できるバイオマスボイラー

PR化石燃料の使用を減らし燃料費の大幅削減！カーボンニュートラルでＣＯ２排…

現在焼却処分されている木質や廃プラスチックなどの廃棄物を、マルチボイラーの燃料として活用することで、 化石燃料の使用を大きく削減します。 木質ペレット、木材チップ、RPF（固形燃料）に対応。 間伐材や建築廃材、木材加工時の端材のチップやRPF（固形燃料）を有効活用できます。 特に大量に温水を使用する温泉・浴場施設では燃料費の削減に大きく貢献するとともに、バイオマスボイラーは様々な用途に活用でき...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フジテックス

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置FHR.Star100-Tetra-Co

FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向…

このシステムには3つのスパッタリングソースと プレクリーニングエッチャーがすべて共焦点形状に配置されており、生産性を高めるためにロードロックならびに搬送チャンバを追加することも可能です。スパッタリングソースには直径100mmのシャッターが搭載されており、このシャッターを制御することで成膜コントロールすることが可能です。また、ソースと基板の距離も制御が可能です。これらの制御はプログラムによりオートコ...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

平行移動式3元RFスパッタリング装置『MSS600-3』

ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能！

『MSS600-3』は、矩形カソード W100ｘH500mmによる 3元RFスパッタリング装置です。 基板サイズはW200×H300mmであり、X方向へ搬送しながら蒸着します。 また、基板200mmを30秒から15時間の時間で任意に設定し、膜厚調整や 様々な異種積層成膜が可能です。 【特長】 ■自動スパッタ機能により、長時間のスパッタリング作業も省力で可能 ■GenCor...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社愛知真空

空気式高速多針タガネ『JT-16』

940gのシリーズ最軽量！ニードル交換も簡単な新型ジェットタガネ誕生！

『JT-16』は、日東工器社製のジェットタガネシーリズ軽量タイプ。 本体質量940gの空気式高速多針タガネです。 当製品は、グリップはφ34で握りやすく、ニードルが広がりにくい設計。 セフティバンドを外さずに、簡単にニードル交換も行えます。 溶接スパッタ、塗装、サビ落とし、目荒らし、各種はくり作業に適しています。 【特長】 ■シリーズ最軽量940g（ホース込） ■簡単ニー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テラダ 機工部

トランスファーロッド（Ｚ-φ軸　KTXシリーズ）

【 4000台販売突破キャンペーン実施中 】 弊社トランスファーロッ…

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動と回転運動を伝達する導入機です。 本製品は、長い距離（500mm～1000mm）での試料等の搬送を行う際におすすめです。 マグネット方式の為、外部との真空封止は完全で、半永久的に安定した動作を得られます。 真空中に取り付けられた直線運動及び回転運度を要する機器への応用が可能です。 本体の内部には、電界研磨処理を施し超高真空領域まで使用可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタカソード x 3：自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：基板回転・昇降、基板加熱（Max500℃）、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統（MFC制御）、RF/DC ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社