• 新光電子-日亜化学工業株式会社の代理店30周年記念ページ公開 製品画像

    新光電子-日亜化学工業株式会社の代理店30周年記念ページ公開

    PR”光”を共に照らして30年

    当社は、日亜化学工業株式会社のLEDを販売して ちょうど30年の節目を迎える事となりました。 日亜化学工業株式会社の代理店30周年を記念したページを公開いたしました。 https://lp.shinkoh-elecs.jp/collaboration-30th-anniversary/...日亜化学工業が高輝度青色LEDという製品を発売して30年。 それとほぼ時を同じくして、当社は国内唯一の代理...

    • NALW009AL.jpg
    • display.png
    • NCSU434B.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 新光電子株式会社

  • 高圧ジェットで高速レジスト剥離!半導体製造用リフトオフ装置 製品画像

    高圧ジェットで高速レジスト剥離!半導体製造用リフトオフ装置

    PR【超高圧ジェットでメタル&レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

    【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし! ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム (オプション) 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能! 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

    • IMG_0052.JPG
    • IMG_3085.jpg
    • IMG_3096.jpg
    • IMG_3097.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4 製品画像

    SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4

    最大4インチ角基板対応 手動露光機

    波⾧ UV400 350~450nm UV300 280~350nm UV250 240~260nm 光源 光源水銀ランプ200W, 350W 水銀キセノンランプ500W UV-LED ( i, h, g線対応) 面内照度均一性 標準:±4.0%(標準) MO Exposure Optics:±2.5%(オプション) ・アライメント方式 TSAアライメント(表面...

    メーカー・取り扱い企業: 兼松PWS株式会社

  • SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4 製品画像

    SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4

    最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光…

    ・露光光学系 波⾧ UV400 350~450nm UV300 280~350nm UV250 240~260nm 光源 光源水銀ランプ350W 水銀キセノンランプ500W UV-LED ( i, h, g線対応) 面内照度均一性: ±2.5% ・アライメント方式 TSAアライメント(表面アライメント) BSAアライメント IRアライメント(オプション) ...

    メーカー・取り扱い企業: 兼松PWS株式会社

1〜2 件 / 全 2 件
表示件数
15件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 4校_0513_tsubakimoto_300_300_226979.jpg
  • 修正デザイン2_355337.png

PR