シリコン（Si）粉末

PRSi純度2N～4N、粒度分布50nm～3mmに対応。ニーズに合わせカス…

当社は、用途に応じた純度や粒度分布のカスタマイズに対応可能な 『シリコン（Si）粉末』を提供しています。 Si純度は2N（Si＞99.0％）、3N（Si＞99.9％）、4N（Si＞99.99％）、 粒度分布は微粉末（100nm～）、粉末（1.0μm～）、粒体（1～3mm）に対応。 プラズマアーク合成により50nmまでの微粉化を実現した『超微粉末』もあり、 超微粉末はSi純度2Nに...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

CPUモジュール『SOM-SMARC-ADL-N』

PR電力効率の高いディープラーニング推論とUHDメディア処理！

当社で取り扱う、『SOM-SMARC-ADL-N』をご紹介します。 動画およびイメージング集約型アプリケーション向けの小さなフットプリント での電力効率の高いディープラーニング推論とUHDメディア処理を行う製品。 グラフィックスは、Intel Xeアーキテクチャによって駆動される統合 Intel UHDグラフィックス、それぞれ同時に最大4K解像度の3つの 映像出力対応です。 ...

メーカー・取り扱い企業： SECO S.p.A

排ガス処理装置『余剰ガス燃焼装置（余剰ガス炉）』

吹き消えのない完全焼却処理を実現！余剰ガスを安全に完全無害化する装置

【仕様（参考仕様）】 [強制通風方式] ○型式 OF-：100／150／200／300／400／500／800 ○燃焼量(m³(N)/h)：100／150／200／300／400／500／800 ○寸法(外形×高さ mm)： →1050×7000／1140×7000／1330×7600／1440×8200／ 　1620×...

メーカー・取り扱い企業： サンレー冷熱株式会社

排ガス処理装置『アンモニア燃焼除害装置』

低NOx燃焼・高効率で完全分解！アンモニアを含むガスの排ガス処理装置

『サンレーアンモニア燃焼除害装置』は、半導体製造装置や研究施設等から排出されるアンモニアを含む排ガスを燃焼除害する装置です。 永年培った燃焼技術をベースに、低NOx燃焼を実現し、アンモニアを分解します。 窒素含有溶剤の処理にも適応できます。 【特長】 ○低NOx燃焼・高効率で完全分解 ○小容量～大容量処理可能 ○コスト低減 ○安全重視・取扱...

メーカー・取り扱い企業： サンレー冷熱株式会社

排ガス処理『酸化エチレン燃焼除害装置（VOC排ガス処理装置）』

効率的に完全分解！EOG（酸化エチレンガス）を効率よく処理する装置

【仕様（化学製品材料メーカー様納入事例の仕様）】 ○処理ガス量：排出EOG 1.0kg/min(N) ○処理風量：30m³/min(N) ○出口濃度：EOG 0.1ppm以下 ○助燃料：LPG（プロパン） ○NOR：2.0m³/h(N)　MAX 6.1m³/h(N) ○排熱回収：50%...

メーカー・取り扱い企業： サンレー冷熱株式会社

【水素ガス処理装置】水素発生装置から発生する排ガスを1台で処理

水素を含む排ガスや、水素のみの排ガスも1台で処理可能で、濃度や風量の変…

【余剰ガス燃焼装置仕様（参考標準仕様）】 ＜強制通風方式＞ ■型式：OF-100／150／200／300／400／500／800 ■燃焼量（m3（N）/h）：100／150／200／300／400／500／800 ■寸法（外形×高さ mm） ・1050×7000／1140×7000／1330×7600／1440×8200／ ・1620×8...

メーカー・取り扱い企業： サンレー冷熱株式会社

【水素ガス処理装置】水素発生装置から発生する排ガスを1台で処理

濃度や風量の変動にも対応！水素を含む排ガスや水素のみの排ガスも1台で処…

【余剰ガス燃焼装置仕様（参考標準仕様）】 ＜強制通風方式＞ ■型式：OF-100／150／200／300／400／500／800 ■燃焼量（m3（N）/h）：100／150／200／300／400／500／800 ■寸法（外形×高さ mm） ・1050×7000／1140×7000／1330×7600／1440×8200／ ・1620×8...

メーカー・取り扱い企業： サンレー冷熱株式会社