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    東邦ガスグループ『無料ウェビナー』開催のお知らせ

    PRカーボンニュートラル実現に向けた取り組みを支援する当社のサービスや、具…

    当社は、カーボンニュートラルの実現に向けて取り組む企業の皆さまに、 お悩みのご相談・コンサルティングからエンジニアリングまで ワンストップでサポートするサービス「CN×P(シーエヌピー)」を提供しています。 このたび、当社のサービスと、組織が一丸となって取り組みを進めるための 具体的なロードマップ策定法といった「経営者目線」の事例などを紹介する 『無料ウェビナー』を開催いたします。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 東邦ガスエナジーエンジニアリング株式会社

  • プローブピンセーバー(異方性導電シート) 製品画像

    プローブピンセーバー(異方性導電シート)

    PR半導体パッケージの電気検査のプローブピンへの半田転写、先端摩耗及び半田…

    『Probe Pin Saver(プローブピンセーバー)』(PPS)は、半導体パッケージの電気検査時に発生するプローブピンへの半田転写、ピンの先端摩耗及び、半導体パッケージの半田ボールダメージを抑制する異方性導電シートです。 半導体パッケージとプローブピン間へ挟んでご使用頂くことで、半田ボールとプローブピンのハードな接触を回避しますので、半田ボールに与えるダメージを軽減すると同時に、プローブピン寿...

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    メーカー・取り扱い企業: ユナイテッド・プレシジョン・テクノロジーズ株式会社 本社

  • ポーラスシリコン形成装置(陽極酸化装置) 製品画像

    ポーラスシリコン形成装置(陽極酸化装置)

    従来の陽極酸化装置をさらに応用したポーラスシリコン形成装置。使用薬液・…

    陽極酸化装置は従来、電流を流し酸化膜を形成させる装置でしたが、さらに応用したポーラスシリコン形成装置は使用薬液・電流密度を変えることで多孔質シリコンを形成する装置です。 ※詳しくはPDF(カタログ)をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダルトン

  • SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置 製品画像

    SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置

    厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス(特許出願中)

    ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。 ● Ge、P、Bの液体ソースを用いて屈折率の任意の制御が可能。標準1系列に加え、オプションでさらに2系列のドーパント導入系の追加が可能。...

    メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社

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