電動マイクロステージ『MS1218-UC』

PRバックラッシュがなく、高分解能動作が可能！駆動OFF時も正確に位置を保…

『MS1218-UC』は、PCとUSBケーブルで接続するだけでPCから動作を 指示できる小型、軽量な電動ステージです。 外部電源は不要で、手軽に電動ステージを使用可能。 圧電振動アクチュエータ使用により、バックラッシュがなく、 高分解能動作が可能で、駆動OFF時も正確に位置を保持します。 また、スリムな形状で狭いスペースでの使用が可能です。 PC用操作ソフトも準備されています。 【特長】 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ミクロブ

工業用防爆タブレットPC『UX10-EX』

PR4G対応国内防爆検定合格品のWindowsタブレットPC！

防爆タブレットPC『UX10-EX』は、第10世代インテルCore iプロセッサーを搭載。 石油化学プラントなどの危険箇所内でも、手軽に4G/LTEやWi-Fi通信によって ネットにアクセスでき、今の時代に適した情報管理が可能。 安心して使って頂くため、本体は3年間の保証付き。 万が一の場合には検査、修理なども国内サポートセンターで実施。 厚めの軍手を使用してもタッチスクリーンが...

メーカー・取り扱い企業： 日本ノヴァシステム株式会社 −

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

真空加熱乾燥炉

スパッタターゲットの真空乾燥や真空部品の真空乾燥、治具等の真空乾燥に利…

『真空加熱乾燥炉』は、自動乾燥プロセスレシピが30通りあります。 使用温度範囲は最高450℃。スパッタターゲットの真空乾燥をはじめ、 真空部品の真空乾燥や、治具等の真空乾燥にご利用いただけます。 各種オーダーメイドも製作可能ですので、ご用命の際はお気軽に お問い合わせください。 【特長】 ■使用温度範囲：最高450℃ ■到達圧力：10Pa ■自動乾燥プロセスレシピ：30...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社