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PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも!非常に幅広い基板サイズに対応可能
当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃
CVD, PVD(蒸着, スパッタ, PLD, ALD等)均熱性・再現…
ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。 【ラインナップ】 ◎ SH-IN(インコネルプレート):φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用 ◎ SH-BN(BNプレート, Moカバー):φ2.1〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用 【特徴】 ◎ 最高温度1100℃...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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「21世紀版薄膜作製応用ハンドブック」から17年、基礎を押さえつつ、新…
■目次 第1編 薄膜材料の特性と特徴 1章 薄膜の特徴と特性 2章 薄膜材料の電気特性 3章 薄膜材料の誘電特性 4章 薄膜材料の固液界面特性 5章 薄膜材料の磁気特性 6章 薄膜材料の光学特性 7章 薄膜材料の力学特性 8章 薄膜材料の化学特性 第2編 薄膜の作製と加工 1章 基板と表面処理 2章 PVD法 3章 CVD法 4章 液相薄膜堆積法...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エヌ・ティー・エス
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