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PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも!非常に幅広い基板サイズに対応可能
当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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高反射アルミ材による省エネおよび配光制御が可能
イタリア アルメコ社によって製造される『vega』シリーズは、高純度アルミニウムにアルマイト処理(陽極酸化処理)を施し、その上から更にPVDコーティング(物理的真空蒸着処理)を施すことで反射率を飛躍的に向上させています。 アルミ蒸着(純度99.99%)のvega95シリーズで全反射率95%以上、銀蒸着(純度99.99%)のvega98シリーズでは全反射率98%以上の反射率を達成しています。 ...
メーカー・取り扱い企業: 長田通商株式会社 L&B事業部
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IonPOWDERによる粉体の革新的な表面処理。 粉体へのイオン注入…
特徴 ・多種のガスが使用可能(Ar, He, N2, O2, SiH4, 混合ガス) ・装置はレシピで動作可能 ・PVD(physical vapor deposition)機構も、増設できます。 プロセスの利点 低温表面処理:元の材料特性が保持されます。 コーティング不要:イオンが深部までで注入されるため、表面は剥がれません。 部品の形状を尊重:追加の加工が不要です。 精密で...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー
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半導体前駆体市場の概要
半導体前駆体は、半導体薄膜堆積プロセスの中核となる製造材料である。これらは高いバリアと高い成長性を持つ。半導体製造プロセスで使用され、ターゲット元素を運ぶ。気体または揮発性の液体であり、化学的および熱的安定性を有し、対応する反応性または物理的特性を有する。薄膜、フォトリソグラフィ、相互接続、ドーピング技術などを含む半導体製造プロセスにおいて、前駆体は主に蒸着(物理蒸着PVD、化学蒸着CVD、原子蒸...
メーカー・取り扱い企業: QY Research株式会社 QY Research
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【COSEL TDKLambda等】10-12月 取り扱い実績
まずはお気軽にお問い合わせください。
B SUS34805B SUCW32415C TDKLambda CC1R5-0512SR-E CC6-2405SF-E CC10-2405SF-E CCG15-24-05S PVD1R5-24-1212 ZWS75BAF-24 CC3-2412SS-E CC3-1212DR-E CC3-2405SF-E CC3-2412DF-E CC15-2405SFP-E ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社CSI
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ALD(アトミックレイヤーデポジション) アプリケーション例
ALD(アトミックレイヤーデポジション) アプリケーション例を写真付き…
当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、アプリケーション例を写真でご紹介しています。 【アプリケーション例】 ■トレンチの成膜 ...
メーカー・取り扱い企業: PICOSUN JAPAN株式会社
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