• 半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D 製品画像

    半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D

    PR新たにクロスライト社のFDFDが加わり、FDTDより計算がかなり速く高…

    <主な特徴> ■共振器方向の効果が重要なデバイスの設計・解析に適しています ■モード結合理論と多層膜光学理論によりDFB,DBR,VCSELのような回折格子を 含むレーザダイオードが計算可能 <多様な物理モデルや機能> ■ウェーブガイド・グレーティングの結合係数(1次、2次のグレーティング) ■縦方向のキャリア密度分布、主・副縦モードについての光学利得と光強度 ■2次グレーテ...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • セラミック系重防食ライニング『Si-8000』 製品画像

    セラミック系重防食ライニング『Si-8000』

    PR塩酸、硫酸、硝酸、腐食性薬品に耐性があります!金属各種、プラスチックや…

    『Si-8000』は、耐熱複合材の宇宙技術開発から生まれた、画期的な 機能を有するセラミックコーティングです。 SiO2シリカガラスを厚膜化、ヒビや割れに強い、常温~250℃での 低温施工、幅広い基材形状に施工可能、GL機器の代替、補修も可能。 硬いけれども割れず、塩酸や硫酸なども問題なく使用可能な 耐薬品性といった特長が備わっております。 被膜には酸・アルカリ・溶剤等に対...

    メーカー・取り扱い企業: サーフ工業株式会社

  • ALD装置(原子層堆積装置)『P-300B』 製品画像

    ALD装置(原子層堆積装置)『P-300B』

    高品質のALD膜を作り出す!MEMS機器の生産や3Dオブジェクトの成膜…

    『P-300B』は、プリントヘッド、センサー、マイクなどのMEMS機器の生産やレンズ、光学部品、機械部品、ジュエリー、コイン、医療用インプラントといった3Dオブジェクトの成膜に適した装置です。 当社が特許取得済みの高温壁設計と完全に分離した投入口を組み合わせる ことにより、優れた生産性、低パーティクルレベル、電気性能や光学性能の優位性を実現した、高品質のALD膜を作り出すことができます。 ...

    メーカー・取り扱い企業: PICOSUN JAPAN株式会社

  • ALD(アトミックレイヤーデポジション) アプリケーション例 製品画像

    ALD(アトミックレイヤーデポジション) アプリケーション例

    ALD(アトミックレイヤーデポジション) アプリケーション例を写真付き…

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、アプリケーション例を写真でご紹介しています。 【アプリケーション例】 ■トレンチの成膜 ...

    メーカー・取り扱い企業: PICOSUN JAPAN株式会社

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