• 半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D 製品画像

    半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D

    PR新たにクロスライト社のFDFDが加わり、FDTDより計算がかなり速く高…

    <主な特徴> ■共振器方向の効果が重要なデバイスの設計・解析に適しています ■モード結合理論と多層膜光学理論によりDFB,DBR,VCSELのような回折格子を 含むレーザダイオードが計算可能 <多様な物理モデルや機能> ■ウェーブガイド・グレーティングの結合係数(1次、2次のグレーティング) ■縦方向のキャリア密度分布、主・副縦モードについての光学利得と光強度 ■2次グレーテ...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • セラミック系重防食ライニング『Si-8000』 製品画像

    セラミック系重防食ライニング『Si-8000』

    PR塩酸、硫酸、硝酸、腐食性薬品に耐性があります!金属各種、プラスチックや…

    『Si-8000』は、耐熱複合材の宇宙技術開発から生まれた、画期的な 機能を有するセラミックコーティングです。 SiO2シリカガラスを厚膜化、ヒビや割れに強い、常温~250℃での 低温施工、幅広い基材形状に施工可能、GL機器の代替、補修も可能。 硬いけれども割れず、塩酸や硫酸なども問題なく使用可能な 耐薬品性といった特長が備わっております。 被膜には酸・アルカリ・溶剤等に対...

    メーカー・取り扱い企業: サーフ工業株式会社

  • 実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD(原子層堆積)装置』 製品画像

    実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD(原子層堆積)装置』

    ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…

    ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。 ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会い によるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータ...

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    メーカー・取り扱い企業: ワッティー株式会社

  • ALD(原子層堆積)装置 製品画像

    ALD(原子層堆積)装置

    2重構造チャンバによるメンテナンス負荷低減と内容積のコンパクト化を実現…

    ワッティーが提供する実験・研究開発向け装置 2inch~8inchモデルまでの装置をご用意し、ユーザーニーズにお応え いたします。 また各種付帯設備をオプションでご用意しており、お客様の導入時の 設備導入負担を軽減します。 安全仕様・プリカーサ本数・プリカーサ導入方法・排気系統、あらゆる 項目についてカスタマイズのご要望にお応えいたします。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、...

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    メーカー・取り扱い企業: ワッティー株式会社

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