実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD（原子層堆積）装置』

PRご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…

ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。 ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会い によるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータ...

メーカー・取り扱い企業： ワッティー株式会社

CVD-SiC（化学蒸着法）「SiC製品」

SiC成膜技術で未来をひらく！独自の化学蒸着法で製作されたSiC製品

、産業機械、原子力、航空宇宙分野など、 あらゆるフィールドで高い評価を得ております。 【特長】 ○塩酸・硫酸・硝酸・弗酸・弗硝酸などの酸ではほとんど腐食しない ○表面には二酸化ケイ素（SiO2）被膜が形成されるため高い耐酸化性がある ○融点や軟化点などを持たず、約2000℃を超える温度で昇華するまで安定 ○ダイヤモンドや炭化ホウ素に次いで硬い化合物 ○緻密で高純度 詳しくは...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フェローテックホールディングス

CVD-SiC（化学蒸着法）「SiC製品」

SiC成膜技術で未来をひらく！独自の化学蒸着法で製作されたSiC製品

、産業機械、原子力、航空宇宙分野など、 あらゆるフィールドで高い評価を得ております。 【特長】 ○塩酸・硫酸・硝酸・弗酸・弗硝酸などの酸ではほとんど腐食しない ○表面には二酸化ケイ素（SiO2）被膜が形成されるため高い耐酸化性がある ○融点や軟化点などを持たず、約2000℃を超える温度で昇華するまで安定 ○ダイヤモンドや炭化ホウ素に次いで硬い化合物 ○緻密で高純度 詳しくは...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フェローテックホールディングス