リサイクルプラスチックパレット『THEパレット』

PR100％リサイクル材料を使用し、CO2を大幅削減。不要になったパレット…

『THEパレット』は、耐久性に優れたリサイクルパレットです。 リサイクル材を使いCO2の大幅削減を実現しており、環境負荷を低減できます。 輸出時の燻蒸処理が不要になるほか、丈夫で割れ・折れを防ぎ安全に使用可能。 さらに低価格化を実現しており、経済的です。 【特長】 ■100％リサイクル材料を使用 ■海外輸出・国内輸送に適した、安価で高品質のパレット ■重量物にも対応可能な高強...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社太和ホールディング

【漫画で特長が分かる！】THECUT アルミ製生爪

PR被削材の傷付きを防止。非常に軽くて扱いやすい。アルミ製生爪の魅力を漫画…

旋削加工などで、高精度の加工の実現に欠かすことのできない生爪。 しかし、 「重くて取り付け作業が大変」 「ワークに傷が付いてしまう」 「遠心力でチャックや機械に負荷がかかる」 といった悩みはありませんか？ それを一挙に解決するのが『THECUT アルミ製生爪』です。 今回は、アルミ製生爪の魅力をご紹介する漫画をご用意いたしました。 “PDFダウンロード”からぜひご覧ください...

メーカー・取り扱い企業： 丸一切削工具株式会社

VUV-5K　（紫外光源）

真空紫外光源の紹介

輝度の高い紫外光源（真空紫外光源）のご紹介です。 【詳細】※英文 The Scienta VUV5000 is a high intensity, narrow bandwidth extreme UV source. It provides radiation con-centrated to He I (21 eV and 23 eV) and He II (41eV). T...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

HAXPES-Lab（ラボ型硬X線光電子分光分析システム）

放射光施設でのみ可能であった硬X線光電子分光がラボでも使用可能に！

今までの汎用XPSでは到達できなかった深さを分析できる次世代のXPS装置です。 これまで放射光施設でのみ使用可能だった硬X線の使用が可能になりました。 Ga ka単色化線源により９．２５keV励起による高分解能硬X線光電子分光を実現いたしました。 【用途】 表面より深い領域での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 HAXPES-Lab is designed ...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

Oxygen Atom Beam Source OBS

Oxygen Atom Beam Source OBSの製品情報となり…

The Oxygen Atom Beam Source OBS is a thermal gas cracker which produces an ion-free oxygen gas beam. The OBS does not cause ion induced damage on the substrate. It exhibits a very compact design and i...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

HiPP-Lab（環境制御型X線光電子分光分析システム）

大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置！

HiPP-Labは、大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置をさします。 差動排気システムを用いて大気圧に近いレベルでの測定環境下で試料の測定が可能となり 今まで測定出来なかった環境制御下における次世代のXPS装置です。 【用途】 環境制御下での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The HiPP-Lab brings together th...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

ARPES-Lab　（ARPES光電子分光分析システム）

ARPESでのXPS観察・測定に！次世代のARPES測定装置の紹介です…

ARPES-Lab　（ARPES光電子分光分析システム）、XPS観察・測定に使用される装置です。 【用途】 ARPESでのXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The ARPES-Lab brings together the world leading instrumentation for ARPES: ●Outstanding performance ARPES...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

HAXPES Lab system

"A window to the bulk" 、"ビームタイムをお手元…

硬X線を励起源とするラボタイプの光電子分光システムです 硬X線光電子分光法(HArd X-ray PhotoElectron Spectroscopy : HAXPES)は、 多くの放射光施設が既に導入している、次世代の光電子分光(XPS)の一つです。ビームラインより、膜の下地や埋もれた界面、通常のXPSでは届かない深い内殻軌道の情報が得られる手法として注目されています。従来では放射光施設...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

Cluster Systems（真空蒸着装置）

真空蒸着装置の紹介です。

○FZ Juelich Cluster -Installed at the HNF (Helmholtz Nanofabrication Facility) Juelich, Germany ○IQC Cluster Tool -Installed at the Institute for Quantum Computing at the University of Wate...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

R3000　（光電子アナライザー）

XPS/UPS/ARPES　分析アナライザーの紹介

XPS/UPS/ARPES分析アナライザーのご紹介です。 【詳細】※英文 With its 135 mm mean radius and mu-metal analyzer vacuum tank the Scienta R3000 is a compact and powerful analysis tool. It features the proven electronics and...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

HYDROGEN ATOM BEAM SOURCE HABS

HYDROGEN ATOM BEAM SOURCE HABSの製品情報…

The Hydrogen Atom Beam Source HABS is a thermal gas cracker which produces an absolutely ion-free hydrogen gas beam to avoid ion induced damage of the substrate. 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...HYDROGEN A...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO

CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKOの製品情報…

The Carbon Sublimation Source - SUKO - was developed for growth of Si-C and Si-Ge-C alloys in silicon MBE. The SUKO provides a very clean and constant flux at a low deposition rate up to 2 Å/min. A ma...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSI

SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSIの製品情…

The Silicon Sublimation Source - SUSI - was developed for growing of thin Si layers, short period Si/Ge superlattices and Si/Sige heterostructures, but it is also an excellent Si dopant source. 詳しくはカ...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社