クリーンボトル『Nalgene ボトル洗浄サービス』

PR自社でのボトル洗浄の手間の軽減に！ ボトル内のパーティクルおよびメタ…

クリーンルームや制御された環境でボトルを使用していただくために、ボトルの洗浄前後の残存パーティクルやメタル成分を比較したアプリケーションノートを公開しています。 Thermo Scientific Nalgene ボトルに対し、国内専門工場による高度な洗浄と、可能な材質のボトルに対してはオートクレーブ滅菌（高圧蒸気滅菌）を承っております。 証明書発行によるボトルの品質管理をお手伝いしま...

メーカー・取り扱い企業： サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社／Thermo Fisher Scientific K.K.

新光電子株式会社　創業50周年記念サイトオープン

PR50周年事業としてリ・ブランディングを行いました。次なる50年で「全て…

弊社は、2024年4月1日に創業50周年を迎える事となりました。 創業当初より「オプト世紀を追及する」というキャッチコピーを掲げさせていただき、 半世紀を送りました。 次の50年を胸を張って迎えることが出来るのも、ひとえにこれまで関わっていただきました お取引先様、従業員やご家族、関係各位のご助力があってのことと、改めまして、 深く感謝の意を胸に刻む次第です。 この場を借りて厚く御礼申し上げ...

メーカー・取り扱い企業： 新光電子株式会社

Oxygen Atom Beam Source OBS

Oxygen Atom Beam Source OBSの製品情報となり…

The Oxygen Atom Beam Source OBS is a thermal gas cracker which produces an ion-free oxygen gas beam. The OBS does not cause ion induced damage on the substrate. It exhibits a very compact design and i...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

HYDROGEN ATOM BEAM SOURCE HABS

HYDROGEN ATOM BEAM SOURCE HABSの製品情報…

The Hydrogen Atom Beam Source HABS is a thermal gas cracker which produces an absolutely ion-free hydrogen gas beam to avoid ion induced damage of the substrate. 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...HYDROGEN A...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO

CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKOの製品情報…

The Carbon Sublimation Source - SUKO - was developed for growth of Si-C and Si-Ge-C alloys in silicon MBE. The SUKO provides a very clean and constant flux at a low deposition rate up to 2 Å/min. A ma...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSI

SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSIの製品情…

The Silicon Sublimation Source - SUSI - was developed for growing of thin Si layers, short period Si/Ge superlattices and Si/Sige heterostructures, but it is also an excellent Si dopant source. 詳しくはカ...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社