3500V高圧ソースメータ

PR±3500V高圧ソースメータ

・±3500V/±120ｍA/180W ・最高分解能1fA/100uV ・1M　ACD ・最大10GΩ測定...・±3500V/±120ｍA/180W ・最高分解能1fA/100uV ・1M　ACD ・最大10GΩ測定...

メーカー・取り扱い企業： Semi Next株式会社

受託加工サービス

PR切断をはじめ、ポリッシング、積層などの工程をご紹介！当社の受託加工のご…

脆性材の端面ポリッシング、および、端面塗布の受託加工をご案内 ショーダテクトロンでは、脆性材加工用機械装置の技術を活かして、矩形、円形、その他形状の硝材の端面ポリッシング加工、および自由形状の端面樹脂塗布の加工を受託致します。また、端面研磨に関しましては、協力工場を通して、インゴットご支給からのスライス、芯出し、端面研磨といった一貫した加工も承ります。 試作品や小ロットの加工をお考えでしたら、...

メーカー・取り扱い企業： ショーダテクトロン株式会社

UV（加熱）真空加圧装置／真空ラミネーター

UV（加熱）真空加圧装置／真空ラミネーター

照明、太陽電池などの 封止等、最先端技術に対応する、真空加圧装置です。 ○基板サイズ MAX 730mm×920mm ○真空２重チャンバー方式 ○フィルムまたはシートによる精密加工 ○UV照射機能 ○加熱機能 デモ機もご用意。 実験及び試作に対応いたします。 詳しくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 常陽工学株式会社

マイクロウェーブ 試料調整装置 Multiwave 5000

複雑で処理が面倒なサンプルでも簡単に前処理が可能！1台で分解・溶出・溶…

Multiwave 5000は、難分解試料の前処理に優れ、充実した反応制御機能を装備しています。 様々なアクセサリーにより、1台のシステムで分解、溶出、酸素燃焼、溶媒抽出、乾燥、濃縮、UV分解が可能です。 ■反応容器■ 多様な容器とローターにより柔軟性の高いプラットフォームが構成され、多種多様な有機物と無機物サンプルタイプに応じて最適なシステムを選択できます。 ■圧力と...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アントンパール・ジャパン

【生産終了】 Multiwave 3000

マルチウェーブ3000型は生産終了となっております。後継機種はMult…

Multiwave 5000は、難分解試料の前処理に優れ、充実した反応制御機能を装備しています。 様々なアクセサリーにより、1台のシステムで分解、溶出、酸素燃焼、溶媒抽出、乾燥、濃縮、UV分解が可能です。 ■反応容器■ 多様な容器とローターにより柔軟性の高いプラットフォームが構成され、多種多様な有機物と無機物サンプルタイプに応じて最適なシステムを選択できます。 ■圧力と...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アントンパール・ジャパン

光応用加熱装置『フラッシュランプアニール装置』

大面積で一括照射・高照度での照射が可能！複数パルスの照射もできる加熱装…

『フラッシュランプアニール装置』は、1秒以内で瞬時に対象物を アニールする光応用加熱装置です。 UVから可視・赤外域までの連続波長を有したクセノンフラッシュランプの 光により、0.1～60msecの範囲を任意に可変可能。 焼成、剥離、表面改質など幅広いスペクトルを利用した様々な用途に お...

メーカー・取り扱い企業： ウシオ電機株式会社

ワイエイシイメカトロニクス株式会社　事業紹介

生産環境の課題を解決する各種製造装置およびシステムを提供いたします

【取扱製品】 ■ハードディスク関連 　・HDD用バニッシャー装置 　・HDD用ワイピング装置 　・HDD用UVキュア装置 　・クリーンコンベア ■半導体(検査工程、洗浄工程) 　・テストハンドラー 　・半導体製造及び部品洗浄装置 　・IPAベーパー乾燥装置 ■太陽電池関連 　・結晶シリコン太陽...

メーカー・取り扱い企業： ワイエイシイメカトロニクス株式会社 本社

【生産終了】 Multiwave Pro

マルチウェーブ プロは生産終了となっております。後継機種はMulti…

Multiwave 5000は、難分解試料の前処理に優れ、充実した反応制御機能を装備しています。 様々なアクセサリーにより、1台のシステムで分解、溶出、酸素燃焼、溶媒抽出、乾燥、濃縮、UV分解が可能です。 ■反応容器■ 多様な容器とローターにより柔軟性の高いプラットフォームが構成され、多種多様な有機物と無機物サンプルタイプに応じて最適なシステムを選択できます。 ■圧力と...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アントンパール・ジャパン