CANブリッジ『Air Bridge Light HS』

PR電波干渉しにくく、設定が不要。エアブリッジ最大70mの効果的な接続範囲…

『Kvaser Air Bridge Light HS』は、設定不要のワイヤレスCANブリッジです。 Wi-FiやBluetoothとは異なり、独自に開発されたプロトコルを使用し、 1つのシステムを分割する周波数ホッピングスペクトラム拡散（FHSS）変調と 2.4GHzガウス周波数シフトキーイング（GFSK）を利用。 接続の待ち時間は約4.8ミリ秒で、エアブリッジ最大70mの よ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社Renas

HiPP-Lab（環境制御型X線光電子分光分析システム）

大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置！

HiPP-Labは、大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置をさします。 差動排気システムを用いて大気圧に近いレベルでの測定環境下で試料の測定が可能となり 今まで測定出来なかった環境制御下における次世代のXPS装置です。 【用途】 環境制御下での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The HiPP-Lab brings together th...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

LT STM（極低温走査トンネル顕微鏡）

極低温環境における走査トンネル顕微鏡の紹介

LT STM（極低温走査トンネル顕微鏡）とは、極低温環境における走査トンネル顕微鏡をさします。 多数の販売実績のある装置で、5K以下の極低温でのSTM測定が可能な装置です。 【用途】 極低温環境におけるナノ領域のSTM観察・測定 【特長】※英語表記です。 ●Increased hold time to >65h at same performance level „ ●High...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

ARPES-Lab　（ARPES光電子分光分析システム）

ARPESでのXPS観察・測定に！次世代のARPES測定装置の紹介です…

ARPES-Lab　（ARPES光電子分光分析システム）、XPS観察・測定に使用される装置です。 【用途】 ARPESでのXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The ARPES-Lab brings together the world leading instrumentation for ARPES: ●Outstanding performance ARPES...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

シエンタオミクロン　エネルギー分析器・光電子顕微鏡

様々なタイプのエネルギー分析器及び光電子顕微鏡をご用意しております

静電半球型エネルギー分析器、高電圧静電型エネルギー分析器、スピン電子検出器、同軸型エネルギー分析器、角度分解エネルギー分析器、光電子顕微鏡、光電子顕微鏡用オプションなどをラインナップ。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【ラインナップ】 ○静電半球型エネルギー分析器　EA125シリーズ →分析器半径：125mm →入射スリット：5段階 ○静電半球型エネルギー分析器...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

Custom MBE Systems（真空蒸着装置）

真空蒸着装置の紹介です。

Virtually unlimited thin film growth techniques. ●Combined UHV SPM / XPS / UPS / MBE system ●Hybrid (PLD) Laser-MBE System (based on a LAB10 MBE System) ●UHV PLD and MULTIPROBE Compact ●Charge &...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

R3000　（光電子アナライザー）

XPS/UPS/ARPES　分析アナライザーの紹介

XPS/UPS/ARPES分析アナライザーのご紹介です。 【詳細】※英文 With its 135 mm mean radius and mu-metal analyzer vacuum tank the Scienta R3000 is a compact and powerful analysis tool. It features the proven electronics and...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO

CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKOの製品情報…

The Carbon Sublimation Source - SUKO - was developed for growth of Si-C and Si-Ge-C alloys in silicon MBE. The SUKO provides a very clean and constant flux at a low deposition rate up to 2 Å/min. A ma...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社