• ポータブル元素分析装置『MH-6000A』【設置工事不要】 製品画像

    ポータブル元素分析装置『MH-6000A』【設置工事不要】

    PR<液体の濃度変化にタイムリーに対応>設置工事不要のため【現場分析/即時…

    『MH-6000A』は、液体の濃度変化をタイムリーに管理したい場合や、 現場分析する際にお勧めのポータブル元素分析装置です。 ◇活用現場事例◇ ◎非鉄金属精錬 ◎金属表面処理 ◎飲料製造 ◎水耕栽培 ◎発酵・培養 etc... 小型で工事不要のため、分析ニーズのある場所に配置が可能。 即時分析ができ、DX化に寄与。 また、波長帯と分解能の調整もでき、アルカリ溶液の測定も可能です。 ガス配管...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロエミッション

  • 高品質な精密機械部品加工 金久保製作所の加工事例集ver1 製品画像

    高品質な精密機械部品加工 金久保製作所の加工事例集ver1

    PRアルミ、S45C、SUS304、SUS316、ジュラコンABS、医療機…

    自動制御用部品加工のほか、つり具部品、万華鏡部品、医療機器部品、 空圧機器部品など、幅広い業界での精密加工の実績がある金久保製作所。 対応材質も幅広く、アルミA2017、S45C、SUS304、SUS316、チタン、真鍮、ジュラルミン、ジュラコンABS等、様々な加工に対応した実績があります。 空圧機器部品の加工では、内径加工が複雑な角物の加工や、 φ0.3の小径の穴あけなど、精密で...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社金久保製作所

  • 多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」 製品画像

    多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」

    リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデ…

    【仕様】 ○到達圧力 6.7×-5Pa以下 ○排気速度 大気圧より4.0×10-4Pa迄20分以内 ○蒸発源 電子銃270°偏向、電源16kW ○基板加熱 MAX150℃ 常用100℃ ○膜厚分布 ±1%以内 (バッチ内、バッチ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • 高出力RFイオンソース 「ISG-180」 製品画像

    高出力RFイオンソース 「ISG-180」

    広範囲で安定した放電を実現した高出力RFイオンソースです。

    A / ビーム電圧 1500V /  イオン電流密度100μA/cm2以上の高出力イオンソース ○イオン電流密度分布±10%以下(1300、1550装置にて)の均一性をハイパワーで達成 →Sapio-1300 での測定結果。株式会社昭和真空指定条件に限る ○ニュートラライザーにオートマッチャーを採用し、  確実な着火性能と安定化を図った ○新開発コレクター電極(特許出願中)の採用に...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • イオンプレーティング装置 「SIP-1600」 製品画像

    イオンプレーティング装置 「SIP-1600」

    装飾・塗装のドライ化や増産をご検討中のお客様向け

    【仕様】 ○到達圧力 10-4Pa 台 ○排気速度 大気圧より6.7×10-3Pa 迄20 分以内 ○内部治具 自公転式 6軸(Φ440mm×H1650mm/軸:ワーク搭載エリア)            8軸(Φ360mm×H...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」 製品画像

    ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」

    膜厚分布:トレー内 ±1.2%、トレー間 ±1.5%を達成しました。

    【性能】 ○膜厚分布 トレイ内 ±1.2% トレイ間 ±1.5% ○ターゲット使用効率 44%(最大) ○タクト 3分/サイクル  ※1枚目を除く ○到達圧力 仕込室 1.0×10^-3Pa以下 SP室 1.0×10^-3Pa以下 ○排気時間 仕込室 2.0×10^-2Pa迄 3分以内       SP室 1.2×10^-2Pa迄 10分以内 ○基板加熱温度 150℃以上を確認 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • 高真空アニール装置 「SAF-52T-II」 製品画像

    高真空アニール装置 「SAF-52T-II」

    生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。

    法 W1700mm×D900mm×H1700mm ○装置重量 約1200kg [所要諸元] ○所要電力量 3相,200V,22.4KVA (64.7A) ○所要水量 入圧:0.3~0.4MPa   差圧:0.2MPa以上       水温:20~25℃ (但し運転中結露無き事)       流量:約0.66m3/hr (11L/min) ○所要空圧 供給圧:0.5~0.7MPa ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • アーク放電型イオンプレーティング装置 「SIA-400T」 製品画像

    アーク放電型イオンプレーティング装置 「SIA-400T」

    ドロップレットを減少させるための蒸発源高速回転機構付です。

    【仕様】 ○真空槽/φ400×D450 ○到達圧力/10^-3Pa台以下 ○排気速度/6.7×10^-3Paまで15分 ○排気操作方法/自動 ○基板加熱/MAX350℃ ○成膜方法/自動 ○成膜速度/2500Å/min(Tin 100A) ○蒸発電源/...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • ホローカソード方式 イオンプレーティング装置 SIH-400T 製品画像

    ホローカソード方式 イオンプレーティング装置 SIH-400T

    ドロップレットを減少させるための蒸発源高速回転機構付です。

    340 × D1120 × H1938 ○重量 本機:約1000kg ○所要電力 3Φ AC200V 約29kVA(84A) ○所要水量 約1.6m3/h(約27l/min) 差圧 0.2MPa以上 ○所要圧空 約0.5MPa以上 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

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