• MASUYAMA-MFG株式会社 事業紹介 製品画像カタログあり

    精密機械・機器部品や半導体製造装置部品のことならお任せ下さい

    MASUYAMA-MFG株式会社は、切削加工を主とした精密金属部品の製造を 手がけています。 小物部品の焼入や研磨などを得意とし、加工技術の向上を常に追求。 多品種・短納期に特化して、あらゆる材質の製品をお客様にお届けしています。 また、“一気通貫生産方式”にて3次元モデリングから切削加工、 仕上げ処理まで管理しています。複合加工、切削加工のみのご依頼も承って いますので、ご要...(つづきを見る

  • 超高感度ソースメータ 2635A/2636A  製品画像カタログあり

    広い測定範囲をカバーするソースメータ、mΩ~TΩ。 2635A/ 2…

    2635A型 1チャンネル:980,000円、2636A型2チャンネル:1,689,000円...【特長】 ■1fA分解能(100pAレンジ)で安定に高角度測定 ■広い測定範囲:1fA~10A/1μV~200V ■TSP Expressで、設定からグラフ化まで簡単実行 ■高速性を倍加する独自TSPシステム ■高性能を拡げた業界標準器 2635A型 1チャンネル:980,000円、2...(つづきを見る

  • 【フィルタ(FERENA)の特徴・仕様 興研KOACH】興研 製品画像

    ◆HEPAフィルタなみの低圧損で、ULPAフィルタなみの捕集効率を誇る

    フィルタを組み合わせたフィルタ素材を用いたユニットです。 寸法(mm):610×610×65(縦×横×奥行き) 質量(kg):約3.6 定格風量(m3/min):12.0 圧力損失(Pa):初期136 最終280 捕集効率(%):0.15μm 99.9998 【オープンクリーンシステムKOACH用途例】 ◆精密機器のクリーン梱包 ◆工程改善、局所クリーン化、コンタミ対策...(つづきを見る

  • シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD)「A6300S」 製品画像カタログあり

    量産対応 NSG(SiO2)/BSG/PSG/BPSG膜成膜用 連続式…

     「A6300S」は、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピウェハ用バックシール等の成膜を目的とした、高スループット連続式常圧CVD(APCVD)装置です。  コンパクトな筺体ながら、2レーンでの連続成膜により、高生産性を確保し、CVDコートSiCトレーの採用によりメタルコンタミ(金属汚染)の低減を実現しています。  その他、目的別に装置ラインナップを揃えており、デモ装...(つづきを見る

  • PLAD-150Y PLDシステム 製品画像

    PLAD-150Y PLDシステム

    AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...(つづきを見る

  • PLAD-250E PLDシステム 製品画像

    PLAD-250E PLDシステム

    AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...(つづきを見る

  • フラットな仕上げに最適な研磨機(GT-2000A) 製品画像カタログあり

    研磨盤回転は時計/反時計、回転数は最高300rpmまで調節可能な研磨機

    適用コネクタ種類:FC、SC、ST、LC、MU、FC / APC、SC / APC、ST / APC、LC / APC。 適用フェルール種類:Φ2.5フェルール/ APC、Φ1.25フェルール/ APC、MTRJ、MPO、E2000 SHUNER、E2000 R&M、MPO/ APC。 各種類のコネクタ/フェルールで色んな角度によって、ポリッシングに使う研磨治具は非常に多くになっているため...(つづきを見る

  • PLAD-221-Y PLDシステム 製品画像

    PLAD-221-Y PLDシステム

    AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...(つづきを見る

  • Parker A-LOK スウェージ式計装用継手 製品画像カタログあり

    パーカー A-LOK 計装用チューブ継手

    パーカー A-LOKTM 計装用チューブ継手は、漏れが発生しない密閉接続部品として、プロセス、パワーおよび計装用途に使用するために設計されています。これら 2 種類のフェルール式継手は、最高の品質基準で製造され、幅広い範囲のサイズ、および形状から選択することができます。...●Wフェルール式継手 ●幅広いサイズ、材質から選択可能 ●スウェージロック社製と互換有り ●最高品質基準で製造...(つづきを見る

  • 真空対応 マイクロリニアアクチュエータ <MLA> 製品画像カタログあり

    真空対応 マイクロリニアアクチュエータ <MLA

    真空度(:到達 5×10-4Pa)対応の超小型アクチュエータです。 【特長】  ◇ステッピングモータ駆動でパルスによる簡単な位置決め  ◇超小型!ボールペンや単4電池よりも小さい [仕様]   外形サイズ: Φ8...(つづきを見る

  • 【nanoPVD-S10A】卓上型マグネトロンスパッタリング装置 製品画像カタログあり

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタ源 x 3:連続自動成膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ● Wind...(つづきを見る

  • 『EBLab(EBラボ)』【電子線加工処理が容易に!】 製品画像カタログあり

    優れた操作性とコンパクト設計!電子線を活用し新製品の開発・プロセスを好…

    『EBLab(EBラボ)』は、多目的に利用できる非常に信頼性の 高いシステムです。 電子線加工処理が容易になり研究者チームの先端分野探究に必要な ツールを提供致します。 また、放射線を完全に遮...(つづきを見る

  • 電子線発生装置『ebeam Engines』※高精度、堅牢な設計 製品画像カタログあり

    長寿命、メンテナンスフリー!電子線エネルギー範囲80KeV~300Ke…

    『ebeam Engines』は、インライン対応の電子線発生装置です。 スイスCOMET社新開発の電子線発生ランプは長寿命、コンパクト且つ メンテナンスフリーを実現。 小型設計により、さまざまな...(つづきを見る

  • 『NFPA79 産業機械用電気規格 2018年版/日本語翻訳版』 製品画像カタログあり

    NFPA承認の日本語版資料の2018年版。第3章まで収録したサンプル版…

    産業機械を北米に輸出する企業にとっては適合必須とも言える規格「NFPA79」。 NFPA(米国防火委員会)が策定する産業機械用電気規格として、 600V以下の電圧で動作する機械の電気・電子機器に適用されています。 適合比較評価業務を手がける当社では、『NFPA79 2018年版』の 日本語翻訳版規格書をリーズナブルな価格で提供しています。 ★第3章まで掲載したサンプル版を「PDF...(つづきを見る

  • NFPA79 産業機械用電気規格 2015年版 製品画像カタログあり

    米国産業機械用電気規格(NFPA79)日本語翻訳版発売中!サンプル版を…

    2014年5月に、NFPA79:2015年版が、米国標準規格として承認されました。 その日本語翻訳版が、株式会社キューセスより2015年4月1日から発売しております。 ━第3章までを掲載したサンプル版が無料でダウンロードできます!━ 【製品情報】 ●製品版は全19章で構成されています。各章の項目については、サンプルをご覧ください。 ●販売価格:\29,800(税別)  ★特別価格 ...(つづきを見る

  • アルミ/A5056/複合旋盤加工 製品画像カタログあり

    アルミ/A5056/複合旋盤加工

    【材質】 A5056(アルミ丸棒) 【加工】 複合旋盤加工 ピン製作の案件を承りました。 当社では、このような精密加工部品を【1個~数物】まで対応できます。 アルミの切削加工は、当社にお任せください。 角物、丸物、複雑な形状にも対応できます。 フライス、旋盤、板金、ワイヤー、放電、アルマイトまで 多様な加工技術を有し、あらゆる加工内容にお応えできます。 ...(つづきを見る

  • シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD) 「A200V」 製品画像カタログあり

    小ロット生産・試作・開発向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成…

    「A200V」は、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)等の成膜を目的とした、枚葉式常圧CVD(APCVD)装置です。 密閉型チャンバーでの枚葉式Face down成膜により、限られた設置スペースの中でも、安全で、膜厚・不純物濃度のバラツキが小さく、パーティクルが少ない成膜が可能です。 装置タイプは、2チャンバータイプ・1チャンバータイプから選択可能で、多品種小...(つづきを見る

  • DimatixインクジェットヘッドSG/PQ/QS/QE基板 製品画像カタログあり

    Fujifilm Dimatix社富士フィルムインクジェットヘッド駆動…

    Fujifilm Dimatix社富士フィルム インクジェットヘッド駆動コントローラ基板です。SG/PQ/QS/QEを制御可能です。 パルス幅可変可能です ヘッド駆動波形生成ソフト(オプション)があります。 吐出周期最大2...(つづきを見る

  • 2651A型 ハイパワー システムソースメータ 製品画像カタログあり

    2000Wパルスパワー、200WDCパワー、pA/μV分解能で最大±5…

    ハイパワーのソースメータである2651A型は、2600Aシリーズ システムソースメータ ファミリーの最新メンバです。ハイパワーエレクトロニクスの試験測定に特化して開発されたもので、研究開発、信頼性そして製造の各分野における試験の生産性を高めます。...2651A型は、他の2600Aシリーズソースメータと同様に、柔軟性に富む機能を備え、 4象限の電圧と電流の印加/シンクが行え、かつ精密な電圧およ...(つづきを見る

  • NC旋盤加工/アルミ/A5056/フランジ 製品画像カタログあり

    A5056 アルミ材のフランジ加工品の製作です。

    某半導体メーカー様よりご依頼頂き、A5056 アルミ材のフランジ加工品の製作を承りました。 アルミ材(A2017、A5052)、ステンレス材(SUS303、SUS304)での NC旋盤加工を用いたご用命も一括手配で承れます。 ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。...※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • アルミ/A5052/フランジ/複合旋盤加工+黒アルマイト 製品画像カタログあり

    アルミ/A5052(汎用アルミ)/フランジ/複合旋盤加工+黒アルマイト…

    【材質】 A5052(汎用アルミ) 【加工】 複合旋盤加工+黒アルマイト A5052(アルミ材)で複合旋盤加工の後、黒アルマイト処理を施しております。 弊社では、このようなアルマイト処理等の表面処理まで一括で承ります。 多工程に及ぶ製品でも弊社が一括管理し、完成まで責任をもって仕上げます。 [アルミ]の精密部品でお困りの際は、 是非、エージェンシーアシストにお問合せ...(つづきを見る

  • DLCスパッタリング装置(TeerCoatings  UDP) 製品画像カタログあり

    DLC(Graphit-iC), MoSTの成膜に最も適した装置です。…

    英国TEER COATINGS社が開発したClosed Field Unbalanced Magnetron Sputter Ion Plating(CFUBMSIP)装置は緻密で高度が高く密着力に優れた膜を形成することができます。 【1】製品ラインナップ UDP6...(つづきを見る

  • 株式会社SYNAX 事業紹介 製品画像カタログあり

    生活をよりシンプルに・快適にする製品をお届けします

    株式会社SYNAXは、主に半導体業界・電子業界に向けた電子応用機械装置 の開発や、製造販売を行っている会社です。 常高温マルチハンドラや低高温マルチハンドラ、また、カスタム製品などを 提供しております。 当社は1986年の創業以来、半導体製造用テストハンドラを提供し、 皆様の生活がよりシンプルに、より快適になるよう貢献いたします。 【事業種目】 ■半導体業界・電子業界用 ...(つづきを見る

  • 株式会社SEBACS 取扱製品 総合カタログ 製品画像

    レビロニクスポンプシステム、クリーンエアシステム等を紹介します。

    株式会社SEBACS 取扱製品 総合カタログでは、半導体製造ラインに適している、幅広いオリジナル周辺装置を紹介しています。 純水昇圧ポンプユニット、スラリー薬液供給ユニット、帯電防止ユニットなどの「純水・薬液供給装置」、クリーンブース、クリーンベンチなどの「クリーンエアシステム」等、多数掲載しています。 【掲載製品】 ○純水昇圧装置・薬液供給装置 ○レビトロニクスポンプシステム ○石...(つづきを見る

  • 複合旋盤加工/アルミ/A5052 製品画像カタログあり

    A5052材(アルミ)で複合旋盤加工機を用いた多工程切削加工です。

    某大手電機メーカー様よりご依頼頂きました。 計測装置用、保守メンテナンス部品の製作を承りました。 A5052材(アルミ)で複合旋盤加工機を用いた多工程切削加工です。 弊社では、この様な複合旋盤を用いた多工程加工品のご用命も承れます。 ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 ...※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • A2017(ジュラルミン)/MC加工/精密整列パレット加工品 製品画像カタログあり

    A2017(ジュラルミン)/マシニングセンター加工/精密整列パレット加…

    某大手半導体メーカー様向けで、A2017 アルミ材(ジュラルミン)を用いた 製品搬送用パレットの加工をさせて頂きました。 ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。...※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • プラズマ原子層堆積装置 (プラズマALD装置) 製品画像

    従来のALD装置の4倍~10倍生産性の高いプラズマロータリーALD装置…

     従来のALD装置では不可能であったプラズマを使用したバッチ式ロータリーALD装置の開発に成功致しました。基板が高速で回転することにより、従来のALD装置より4倍~10倍のハイスループットを達成致しました。...プラズマにて低温成膜がバッチ式で対応可能です。 200mmウェハ10枚をバッチ式処理致します。 300mm以上の大面積にスケールアップが可能。 従来のALDより4倍から10倍高速で成...(つづきを見る

  • サーマル式ALD原子層堆積装置 製品画像

    ALD装置。小型・低価格で、原子レベルの堆積制御で精確な厚さ実現!

    ハイテックシステムズは、ALD(Atomic Layer Deposition)装置の世界的リーディングカンパニー、Ultratech/CambridgeNanoTech社の販売代理店です。 Ultratech/CambridgeNanoTech...(つづきを見る

  • 株式会社AKシステム 事業紹介 製品画像カタログあり

    大空と緑の大地を背景に、オーダーメイドの"オンリーワン�…

    AKシステムは基本構想のご提案から、設計、製造、板金・塗装、 検査、現地試運転調整、アフターサービスまでを自社一貫体制で承ります。 ハード・ソフトの両輪を充実しながら、高度の情報処理技術とノウハウを もってお客様のニーズにお応えする「技術部」と、生産に関する諸条件を クリアーし、出荷までのトータルな効率化を図る「生産部」がございます。 世界水準の清浄度を誇るクリーンルームを備え、...(つづきを見る

  • 530万画素 高速 CoaXPressカメラ 製品画像カタログあり

    インターフェースにCoaXPressを使用する事により高速フレームレー…

    ★高画素・小型・軽量サイズ CMOSセンサー、W29×H29×D55mmサイズ。 ★インターフェースCoaxPress (CXP 1~6 × 1lane) 映像出力BNCコネクタ。長距離伝送が可能。(CXP Ver1.0に対応) ★高画素・高速フレームレートの実現 CoaxPress 出力で、最速...(つづきを見る

  • オープンクリーンシステムKOACH 清浄度ISOクラス1 興研 製品画像

    興研株式会社代理店としてオープンクリーンシステムKOACHをご提案致し…

    フィルタを通して清浄化したコヒーレントな気流を対向させた時、 今まで誰も想像できなかった清浄空間が生まれました。 周りを囲うことも仕切ることもないオープンクリーンゾーンの誕生です。 【驚きの気流技術】 オープンクリーンシステム「KOACH」のプッシュフードからは、清浄化されたコヒーレントな気流が吹き出します。しかし、コヒーレントな気流であっても、周りが囲われていなければ吹き出し面から離...(つづきを見る

  • 25M・小型・高速・CMOS CoaXPressカメラ 製品画像カタログあり

    2500万画素の高解像度での高速フレームレート、65mm角の小型サイズ…

    ■VCC-25CXP1M(モノクロ)/R(カラー) 65mm角の小型サイズで、高解像度・高速フレームレート、インターフェイスCoaXPressを採用した2500万高画素カメラ <特長> ■2500万高画素・グローバルシャッター CMOSセンサー ■65mm角の小型サイズ ■インターフェースCoaXPress CXP...(つづきを見る

  • N-310 NEXACT OEMミニチュアリニアモーター 製品画像カタログあり

    コンパクトで高速なPiezoWalk(R)ドライブ

    N-310 NEXACT(R) PiezoWalk(R)リニアドライブは、わずか25 x 25 x 12mmのコンパクトなパッケージに、20mmのストロークと10Nのプッシュプルフォースの性能を備えています。...(つづきを見る

  • CompactPCIバスCPUボードDCP-SH7780-PbF 製品画像カタログあり

    ルネサス製SH7780(SH-4Aコア)を採用した3UサイズのComp…

    ●CPU SH7780プロセッサー、449ピンBGA ●DDR-SDRAM MT46V32M16P-6T ●ストレージ CompactFlash ●Ethernet × 1 10/100/1000BASE-T ●USB2.0 1 ポート ●RoHS指令対応...(つづきを見る

  • ALD原子層堆積装置 製品画像

    研究開発用途向けALD装置

    昇華原料に対応した研究開発用途向けALD(Atomic Layer Deposition)原子層堆積装置。複合金属酸化物および貴金属成膜に対応し、高アスペクト比の3次元構造に対してピンホールのない薄膜成膜が可能。別途、6種類の原料・反応ガス供給ユニットを組み...(つづきを見る

  • 半導体製造装置部品/NC旋盤加工/アルミ/A5052 製品画像カタログあり

    真空チャック用先端部/A5052(アルミ材)によるNC旋盤加工+アルマ…

    半導体製造装置部品に用いられる為、傷、打痕不可で、 バリやカエリによる製品搬送に影響の出ない様に厳しく注意し加工しており、 又、真円度、同芯度などの加工精度要求がなされています。 弊社では、この様な高精度のNC旋盤加工品やアルマイト処理などのご用命も一括手配で承れます。...※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • 小型モジュール用フルオートACF実装装置 CMS-1200 製品画像カタログあり

    フルオートACF実装ライン カメラモジュール等に最適

    ークは循環キャリアでハンドリングし、FPCはマガジンにて供給されます。オプションでローダー、 アンローダーの追加が可能です。 [仕様抜粋] (カメラモジュール用) ■カメラモジュール…Max 10(W)×10(D)×10(H)mm           Min 5(W)×5(D)×3(H)mm ■FPC…Max 50(W)×50(D)×1(H)mm Min ...(つづきを見る

  • MiniLab-CF/MF 超高温小型実験炉Max2900℃  製品画像カタログあり

    簡単操作コンパクトラックに全てを収納 短時間でMax2900℃まで昇…

    Max2900℃(カーボン炉)、Max2600℃(メタル炉) ・有効加熱エリアΦ60(MiniLab-CF/MF-M) ・有効加熱エリアΦ150(MiniLab-CF/MF-L) 新素材・新材料開...(つづきを見る

  • 大面積シート TO シート 原子層堆積装置  (ALD装置) 製品画像

    従来のALDの常識を覆す驚異的なスループットをご提案致します。

    大速度 0.5m/sec (30m/min)でALDの常識を超えた驚異的なス  ループットを達成しました。 ・インラインへの組み込みが可能です。 ・パターン成膜が可能です。 ・圧力が30mbarから大気圧で使用可能なため、従来のALDよりも  ランニングコストが抑えられます。 ・基板サイズに限界がありません。大面積にスケールアップが可能。...(つづきを見る

  • NAND解析システム(SigNAS) 製品画像カタログあり

    NAND解析システム(SigNAS)

    ーのNANDフラッシュメモリの動作検証、エラー解析、エラー発生原因の切り分け、誤り訂正符号の効果測定などを容易に行うことができる解析システムです。ビットエラーレート、ECC後のページエラーレート、Data Retention や Program Disturb、Read Disturb によって発生するビットエラー、エラー発生分布などを測定することができます。  アルテラ社StratixIII...(つづきを見る

  • 50μm厚超薄型ガラス非接触搬送装置LNAS型 製品画像

    50μm厚の超薄型ガラス基板を非接触にて搬送する 非接触搬送装置「5…

    「50μm厚 超薄型ガラス非接触搬送装置LNAS型」の非接触吸引機構は非接触搬送装置は空気噴出ノズルの直下に気体偏向器を設けております。  気体偏向器により、ノズルより噴出した高圧空気流は直角方向に変流され、直接超薄型ガラスに衝突し、極薄ガラスを破損することはありません。 従って圧力線図に示すように超薄型ガラスに高圧噴出空気による局所応力を与えることはありません(負圧になっている)。  このた...(つづきを見る

  • CompactPCIバスCPUボード DCP-i2980U-35 製品画像カタログあり

    第4世代Intel Coreプロセッサ(Celeron-2980U)を…

    本ボードは、第4世代(Haswell) Intel Celeron 2980Uプロセッサ を採用 した 3UサイズのCompactPCIバスボードです。 Celeron 2980Uは、動作周波数1.6GHz 2コア 2...(つづきを見る

  • 単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置 DCVD-51A 製品画像カタログあり

    単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置 DCVD-51A

    ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な 高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置 【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため  デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャンバー+特殊電極により、高効率な運転が可能 ○放電状態を見ながらの実験が可能 ○試料導入は...(つづきを見る

  • 【大特価】手動式研磨機『SCANDIMATICシリーズ』 製品画像カタログあり

    研磨作業初心者から熟練者までに評価されるシンプルな構造の手動式研磨機

    『SCANDIMATIC 33035』は、 ドイツScandia社伝統の粗、仕上げ用手動方式の研磨機です。 回転数は1rpm毎に設定可能。 研磨作業初心者から熟練者までに評価されるシンプルな構造です。 そのほか、仕上げ用自動研磨機「SCANDI...(つづきを見る

  • □■□【MiniLab-026】R&D用小型真空蒸着装置□■□ 製品画像カタログあり

    小型、省スペース! 研究開発に最適 基礎研究開発専用、抵抗加熱蒸着装置…

    モジュラー組立式「Plug&Play」感覚で、必要なモジュール、コントローラ、コンポーネントを組合せて接続することにより構成される装置です。「MiniLabシリーズ」は、製作範囲が広く、抵抗加熱式蒸着(標準)、EB蒸着、スパッタなど...(つづきを見る

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