• Transpector MPS/MPH 製品画像カタログあり

    世界最高制度のRGAをお届けします。

    ト(自動切替) ■タングステンまたは、イットリアコート・イリジウム フィラメントを選択可(MPH) ■新型フィラメントキット ■9桁のダイナミックレンジ ■最小検出分圧 ≦ 2.7E-13Pa(MPH), ≦2.0E-12Pa(MPS) ■S/N比の向上 ■RoHs 対応 ■オンボードのウエブサーバーによるオペレーション ...(つづきを見る

  • MiniLab-CF/MF 超高温小型実験炉Max2900℃  製品画像カタログあり

    簡単操作コンパクトラックに全てを収納 短時間でMax2900℃まで昇…

    Max2900℃(カーボン炉)、Max2600℃(メタル炉) ・有効加熱エリアΦ60(MiniLab-CF/MF-M) ・有効加熱エリアΦ150(MiniLab-CF/MF-L) 新素材・新材料開...(つづきを見る

  • ドイツNABERTHERM高温壁レトルト炉最高温度1100 ℃ 製品画像

    入江株式会社はドイツNABERTHERMの日本代理店として日本市場で販…

    密閉型レトルト炉には、温度に相応して直接あるいは間接的加熱方式を採用します。所定の不活性ガスあるいは反応ガス雰囲気が要求される多様な熱処理プロセスに最適です。最高 600 ℃ 迄の真空下の熱処理にもこのようなコンパクト機種を応用できます。炉室は密閉型レトルトで構成されています。ドア領域は特殊シールを保護する水冷方式を採用しています。水素のような反応ガスの使用にも相応の安全技術を採用しています。また...(つづきを見る

  • Ailesicシリーズ 製品画像

    SiCパワーデバイス用 超高温熱処理装置シリーズ

    低炭素社会の実現に向け製品化が加速しているSiCパワーデバイス。 東横化学は独自の超高温熱処理技術を応用し2000年からSiCパワーデバイス装置の開発に取り組み、その長年培った技術と最先端技術を結集、高品質、高性能な熱処理性能を実現しました。...当社“Ailesic”(エールシック)シリーズ熱処理装置は、SiCパワーデバイスの性能を飛躍的に向上させるとともに安定した量産に貢献します。 ...(つづきを見る

  • フラッシュランプアニーリング装置 FLA 製品画像カタログあり

    半導体など各種材料に!数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間でアニーリング可…

    ング処理等に使用 ○CIS、CIGS等のソーラーセル(フレキシブル、ガラス基板等)の  ヘテロエピレーヤーの膜質向上   ○ITO等の透明導電性酸化膜の改質(フレキシブル、ガラス基板等) ○a-Si、Poly Siの結晶性の向上 ○インクジェットによる半導体材料、超薄金属膜、シリコンナノ粒子のアニーリング処理 ○Si、Ge、Sn等のナノクリスタルの形成 ○ローカルメルティング-再結...(つづきを見る

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 卓上型熱CVD装置 製品画像カタログあり

    多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装…

    イクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ MFC高精度流量制御:精度±1% F.S. ◉ バラトロンゲージ(オプション)による高精度APC圧力制御 ◉ Lab Viewソフトウエア(オプション)によるリモート制御, パラメータ設定 【主仕様】 ◉ Φ2.5inch(標準)Φ4inch x12inch石英反応管内 ◉ 最高使用温度1100℃ ◉ ...(つづきを見る

  • ◉MiniLab-WCF/WMF超高温ウエハー焼成炉2200℃  製品画像カタログあり

    2inch〜8inchウエハー高温焼成専用機 コンパクトサイズ・簡単…

    ◉Max2200℃(真空中1x10-5Torr, N2, Ar) ◉WCF使用雰囲気:真空・不活性ガス(カーボン炉) ◉WMF使用雰囲気:真空・不活性・還元ガス(メタル炉) ◉試料台サイズφ2inc...(つづきを見る

  • 外熱型真空光輝焼戻炉・焼鈍炉 TOUVAC 製品画像カタログあり

    金属レトルト外熱方式により、シール性・炉内雰囲気の再現性等アップ!

    TOUVAC ( TOUnetsu VACuum furnace ) 工業炉のトウネツが提案する、金属レトルト外熱方式を採用した真空炉です。 各種マテリアルの光輝熱処理に!...(つづきを見る

  • 熱処理炉 製品画像

    Ultra High Temperature Annealing Sy…

    ■ SIMOX Wafer のアニール ■ H2アニール ■ Ar,O2/Arアニール ■ 装置構成(特許技術) 高機能アニールに関する豊富な経験・技術による安全かつ最適なシステムを提供。 ■長寿命ヒータ ...(つづきを見る

  • SiCパワーデバイス超高温熱処理装置 製品画像

    Ultra High Temperature Annealing Sy…

    ■ SIMOX Wafer のアニール ■ H2アニール ■ Ar,O2/Arアニール ■装置構成(特許技術) 高機能アニールに関する豊富な経験・技術による安全かつ最適なシステムを提供。 ■長寿命ヒータ ...(つづきを見る

  • 熱処理炉 製品画像

    Ultra High Temperature Annealing Sy…

    ■ SIMOX Wafer のアニール ■ H2アニール ■ Ar,O2/Arアニール ■装置構成(特許技術) 高機能アニールに関する豊富な経験・技術による安全かつ最適なシステムを提供。 ■長寿命ヒータ ...(つづきを見る

  • パワーデバイス 製品画像

    Ultra High Temperature Annealing Sy…

    ■ SIMOX Wafer のアニール ■ H2アニール ■ Ar,O2/Arアニール ■装置構成(特許技術) 高機能アニールに関する豊富な経験・技術による安全かつ最適なシステムを提供。 ■長寿命ヒータ ...(つづきを見る

  • 高温熱処理炉 製品画像

    【高温熱処理炉】 Ultra High Temperature An…

    ■ SIMOX Wafer のアニール ■ H2アニール ■ Ar,O2/Arアニール ■装置構成(特許技術) 高機能アニールに関する豊富な経験・技術による安全かつ最適なシステムを提供。 ■長寿命ヒータ ...(つづきを見る

  • 活性化アニール 製品画像

    Ultra High Temperature Annealing Sy…

    ■ SIMOX Wafer のアニール ■ H2アニール ■ Ar,O2/Arアニール ■装置構成(特許技術) 高機能アニールに関する豊富な経験・技術による安全かつ最適なシステムを提供。 ■長寿命ヒータ ...(つづきを見る

  • 【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃ 製品画像カタログあり

    CVD, PVD(蒸着, スパッタ, PLD, ALD等)均熱性・再現…

    ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。 【ラインナップ】 ◎ SH-IN(インコネルプレート):φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用 ◎ SH-BN(BNプレート, Moカバー):φ1.0〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用 【特徴】 ◎ 最高温度1100℃...(つづきを見る

  • 「研究開発用超高温実験炉シリーズ」製品ダイジェスト 製品画像カタログあり

    テルモセラ・ジャパン研究開発用実験炉シリーズを紹介。燃料電池・セラミッ…

    研究開発分野向け、各種実験装置を紹介します。 ◉ MiniLab-CF/MF超高温小型実験炉 Max2900℃ ◉ MiniLab-WCF/WMF超高温ウエハー焼成炉 Max2200℃ その他、特注で研究開発用高温炉を設計製作致します。 ・縦型/横型炉 ...(つづきを見る

  • チーズシャフト 精密機械加工品 大連製造、 製品画像カタログあり

    お客様の図面によって様々な精密部品加工が対応出来ます。

    ○最小ロット数:1 pcs納期:発注後 15日間 (1pcs 発注時) ○引渡し条件:FOB dalian、CIF、DDU、DDP ○支払い条件:T/T、Paypal ○決済可能な通貨:日本円、米ドル ○その他の条件:仕様書:有 、包装:有 、梱包:有 、製品写真:有 、サンプル提供:有 ...(つづきを見る

  • チーズシャフト 精密機械加工品 大連製造、 製品画像カタログあり

    お客様の図面によって様々な精密部品加工が対応出来ます。

    ○最小ロット数:1 pcs納期:発注後 15日間 (1pcs 発注時) ○引渡し条件:FOB dalian、CIF、DDU、DDP ○支払い条件:T/T、Paypal ○決済可能な通貨:日本円、米ドル ○その他の条件:仕様書:有 、包装:有 、梱包:有 、製品写真:有 、サンプル提供:有 ...(つづきを見る

  • 車用部品 表面処理黒染め 製品画像カタログあり

    お客様の図面によって様々な精密部品加工が対応出来ます。

    ○最小ロット数:1 pcs納期:発注後 15日間 (1pcs 発注時) ○引渡し条件:FOB dalian、CIF、DDU、DDP ○支払い条件:T/T、Paypal ○決済可能な通貨:日本円、米ドル ○その他の条件:仕様書:有 、包装:有 、梱包:有 、製品写真:有 、サンプル提供:有 ...(つづきを見る

  • ブロックSS400 製品画像カタログあり

    お客様の図面によって様々な精密部品加工が対応出来ます

    ○最小ロット数:1 pcs納期:発注後 15日間 (1pcs 発注時)○引渡し条件:FOB dalian、CIF、DDU、DDP○支払い条件:T/T、Paypal○決済可能な通貨:日本円、米ドル○その他の条件:仕様書:有 、包装:有 、梱包:有 、製品写真:有 、サンプル提供:有○タイプ: 製...(つづきを見る

  • 連続アニール炉 製品画像

    遠赤外線ヒーターと均一加熱方式を採用した連続搬送タイプのアニール炉

    当社製の遠赤外線ヒーターと均一加熱方式を採用した連続搬送タイプのアニール炉です。 処理時間の大幅短縮、コストダウン、インライン化に最適です。 (特長) ●早い加熱処理  例その1:自動車ヘッドランプ 溶着後の歪除去 60分⇒5分  例その2:ICトレー 射出成形後の寸法安定 240分⇒6分  例その3:人工透析器 射出成形後の内部歪除去 120分⇒3分 ●コストダウンに貢献  ...(つづきを見る

  • ◆ANNEAL◆ 卓上型ウエハーアニール装置 製品画像カタログあり

    [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱…

    ルポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)...(つづきを見る

  • 電線・ケーブル製造装置『プラズマアニーラー』 製品画像

    ウォームアップ/クーリングダウン時間なし。高品質な連続アニール処理が可…

    『プラズマアニーラー』は、PlasmaIt社製の鉄・非鉄金属製のワイヤ・ チューブ・ストリップ等の長尺物を連続でアニール処理を行う装置です。 高出力アニーリングが可能で、ウォームアップ/クーリングダウン時間は ありません...(つづきを見る

  • 小型遠赤外線アニール炉 製品画像

    携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉

    (仕様) ●使用温度:40〜230℃ ●電気容量:5KVA(ブレーカー20A) ●ベルト幅:100mm ●外形寸法:1220L×400W×1157H(mm) ●炉長:700mm...携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉です。 (特長) ●遠赤外線の持つ浸透力により、処理時間の短縮が可能。バッチ炉120分⇒10分以下 ●高精度な温度分布が可能。温度精度...(つづきを見る

  • ナット製品 製品画像

    お客様の図面によって様々な精密部品加工が対応出来ます。

    ○最小ロット数:1 pcs納期:発注後 15日間 (1pcs 発注時) ○引渡し条件:FOB dalian、CIF、DDU、DDP ○支払い条件:T/T、Paypal ○決済可能な通貨:日本円、米ドル ○その他の条件:仕様書:有 、包装:有 、梱包:有 、製品写真:有 、サンプル提供:有 ...(つづきを見る

  • 【ホットステージ】超高温基板加熱ユニット Max1800℃ 製品画像カタログあり

    超高温基板加熱ユニットに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

    半導体、電子基板、真空成膜プロセス装置・研究開発用【超高温基板加熱機構】 対応基板サイズ:2〜12inch 真空(UHV可能)・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。(詳細別途協議)...◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ 基板Zシフト昇降機構(基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式) ◉ 基板回転機構 ◉ RF...(つづきを見る

  • SiC活性化アニール装置 製品画像

    最高温度1950℃までのSiC活性化アニールに対応

    ・最高温度1950℃までのSiC活性化アニールに対応 ・新開発ヒーティング技術により超急速昇降温特性を実現 ・お客様の小ロット短時間処理のニーズにも対応 ・同ヒーティング技術、及び、高精度温度制御技術により安定した ・プロセス性能を実現 = 安定生産に寄与 ・開発から6インチ高スループット量産までの豊富なラインナップ ・量産工場での良好な運用実績 ...アプリケーション(活性化アニー...(つづきを見る

  • インライン式真空アニール装置 「SAF-12T」 製品画像カタログあり

    効率的なサイクルタイム/全自動による省力化

    0mm×H2230mm ○装置重量 約2500kg [所要諸元] ○所要電力量 AC200V±10%/220V±10%三相三線式 約21KVA(61A) ○所要水量 入圧:0.3~0.4MPa 差圧:0.2MPa以上       水温:20~25℃(但し運転中結露無き事)       流量:約1.2m3/hr(20L/min) ○所要空圧 供給圧:0.5~0.7MPa 設定圧:...(つづきを見る

  • 高真空アニール装置 「SAF-52T-II」 製品画像カタログあり

    生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。

    法 W1700mm×D900mm×H1700mm ○装置重量 約1200kg [所要諸元] ○所要電力量 3相,200V,22.4KVA (64.7A) ○所要水量 入圧:0.3~0.4MPa   差圧:0.2MPa以上       水温:20~25℃ (但し運転中結露無き事)       流量:約0.66m3/hr (11L/min) ○所要空圧 供給圧:0.5~0.7MPa ...(つづきを見る

  • YACデンコー社のFPD用熱処理装置、ベルト搬送炉、赤外線ヒータ 製品画像

    各種金属の熱処理炉、非接触のクリーンな熱源である遠赤外線処理

    ■FPD用縦型熱処理装置  ・LCDの第1世代から第8世代に対応  ・高効率面状IRヒータを用い、均一な加熱が可能  ・クリーン度Class10対応(FED-STD209E) ■ベルト搬送炉  ・遠赤外線加熱技術により幅広いプロセスに対応  ・スタンダードタイプ焼成炉、高速焼成炉、小型焼成炉、WB式焼成炉、ロープ搬送式乾燥...(つづきを見る

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