• 【抗ウイルス性 軟質フィルム】アキレス ウイルセーフ 製品画像

    【抗ウイルス性 軟質フィルム】アキレス ウイルセーフ

    PR付着ウイルスを99.99%以上低減します。

    『アキレス ウイルセーフ』は、高い抗ウイルス性と速効性、安全性をもったフィルムです。 フィルムに付着したウイルスを低減させ、活動を抑制します。 【特長】 ■付着したウイルスを15分で99%、さらに60分では99.99%以上低減します。 ■実績ある原材料を使用。各種試験で安全性を確認  (試験機関:Nelson Laboratories Inc.) ※ダウンロードいただける...

    メーカー・取り扱い企業: アキレス株式会社 化成品事業部フイルム販売部

  • <成形不良対策部品>ガス抜き入れ子で不良対策! 製品画像

    <成形不良対策部品>ガス抜き入れ子で不良対策!

    PR樹脂成形時に発生するガスが原因で不良品が発生していませんか? ※無料レ…

    弊社のガス抜き入れ子は、金属多孔質(金属ポーラス)構造の素材でガスを抜いております。 微細貫通多孔質素材によるガス抜き部品で、成形不良をソリューションします。 樹脂が流れ込みにくく、気体は通す通気孔として好適なバランスになっています。 【成形品がこんな状態になっていませんか?】 ■ヤケ ■白濁 ■銀条 ■ウエルドライン ■ショートショット ■ヒケ ■ソリ ■バリ等 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社GASEXIT

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 卓上型熱CVD装置 製品画像

    【Nanofurnace】BWS-NANO 卓上型熱CVD装置

    多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装…

    イクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ MFC高精度流量制御:精度±1% F.S. ◉ バラトロンゲージ(オプション)による高精度APC圧力制御 ◉ Lab Viewソフトウエア(オプション)によるリモート制御, パラメータ設定 【主仕様】 ◉ Φ2.5inch(標準)Φ4inch x12inch石英反応管内 ◉ 最高使用温度1100℃ ◉ ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • MiniLab-CF/MF 超高温小型実験炉Max2900℃  製品画像

    MiniLab-CF/MF 超高温小型実験炉Max2900℃

    簡単操作コンパクトラックに全てを収納 短時間でMax2900℃まで昇…

    Max2900℃(カーボン炉)、Max2600℃(メタル炉) ・有効加熱エリアΦ60(MiniLab-CF/MF-M) ・有効加熱エリアΦ150(MiniLab-CF/MF-L) 新素材・新材料開...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ◉MiniLab-WCF/WMF超高温ウエハー焼成炉2200℃  製品画像

    ◉MiniLab-WCF/WMF超高温ウエハー焼成炉2200℃

    2inch〜8inchウエハー高温焼成専用機 コンパクトサイズ・簡単…

    ◉Max2200℃(真空中1x10-5Torr, N2, Ar) ◉WCF使用雰囲気:真空・不活性ガス(カーボン炉) ◉WMF使用雰囲気:真空・不活性・還元ガス(メタル炉) ◉試料台サイズφ2inc...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 質量ガス分析計 Transpector MPS/MPH 製品画像

    質量ガス分析計 Transpector MPS/MPH

    真空アプリケーションニーズに最適なスタンダード、および、ハイパフォーマ…

    0M ■RGA(残留ガス分析)技術分野で世界をリードするインフィコンが、お客様の真空アプリケーションニーズに最適なスタンダード、およびハイパフォーマンス型残留ガス分析計を提供します。 ■Transpector MPSとTranspector MPHは、どちらも業界最高クラスのデータ収集速度、最小検知分圧(MDPP)、S/N比を実現しています。 ■ランニングコストが低く、平均故障間隔(M...

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    メーカー・取り扱い企業: インフィコン株式会社

  • フラッシュランプアニーリング装置 FLA 製品画像

    フラッシュランプアニーリング装置 FLA

    半導体など各種材料に!数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間でアニーリング可…

    ング処理等に使用 ○CIS、CIGS等のソーラーセル(フレキシブル、ガラス基板等)の  ヘテロエピレーヤーの膜質向上   ○ITO等の透明導電性酸化膜の改質(フレキシブル、ガラス基板等) ○a-Si、Poly Siの結晶性の向上 ○インクジェットによる半導体材料、超薄金属膜、シリコンナノ粒子のアニーリング処理 ○Si、Ge、Sn等のナノクリスタルの形成 ○ローカルメルティング-再結...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー

  • ドイツNABERTHERM高温壁レトルト炉最高温度1100 ℃ 製品画像

    ドイツNABERTHERM高温壁レトルト炉最高温度1100 ℃

    入江株式会社はドイツNABERTHERMの日本代理店として日本市場で販…

    密閉型レトルト炉には、温度に相応して直接あるいは間接的加熱方式を採用します。所定の不活性ガスあるいは反応ガス雰囲気が要求される多様な熱処理プロセスに最適です。最高 600 ℃ 迄の真空下の熱処理にもこのようなコンパクト機種を応用できます。炉室は密閉型レトルトで構成されています。ドア領域は特殊シールを保護する水冷方式を採用しています。水素のような反応ガスの使用にも相応の安全技術を採用しています。また...

    メーカー・取り扱い企業: 入江株式会社 東京支店

  • 外熱型真空光輝焼戻炉・焼鈍炉 TOUVAC 製品画像

    外熱型真空光輝焼戻炉・焼鈍炉 TOUVAC

    金属レトルト外熱方式により、シール性・炉内雰囲気の再現性等アップ!

    TOUVAC ( TOUnetsu VACuum furnace ) 工業炉のトウネツが提案する、金属レトルト外熱方式を採用した真空炉です。 各種マテリアルの光輝熱処理に!...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社トウネツ 東海事業所

  • ◆ANNEAL◆ 卓上型ウエハーアニール装置 製品画像

    ANNEAL◆ 卓上型ウエハーアニール装置

    [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱…

    ルポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 「研究開発用超高温実験炉シリーズ」製品ダイジェスト 製品画像

    「研究開発用超高温実験炉シリーズ」製品ダイジェスト

    テルモセラ・ジャパン研究開発用実験炉シリーズを紹介。燃料電池・セラミッ…

    研究開発分野向け、各種実験装置を紹介します。 ◉ MiniLab-CF/MF超高温小型実験炉 Max2900℃ ◉ MiniLab-WCF/WMF超高温ウエハー焼成炉 Max2200℃ その他、特注で研究開発用高温炉を設計製作致します。 ・縦型/横型炉 ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃ 製品画像

    【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃

    CVD, PVD(蒸着, スパッタ, PLD, ALD等)均熱性・再現…

    ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。 【ラインナップ】 ◎ SH-IN(インコネルプレート):φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用 ◎ SH-BN(BNプレート, Moカバー):φ1.0〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用 【特徴】 ◎ 最高温度1100℃...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃ 製品画像

    【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

    超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

    半導体、電子基板、真空薄膜プロセス装置・研究開発用【超高温基板加熱機構】 対応基板サイズ:Φ2〜6inch 真空(UHV対応可能)・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。(詳細別途協議)...◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ ステージ上下昇降(基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式) ◉ 基板回転 ◉ RF(1...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃  製品画像

    TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃

    コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温…

    Max2900℃(カーボン炉)、Max2400℃(メタル炉) ・有効加熱エリア 70 x 70 x1 00mm 新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 化合物半導体用電極膜アニール装置(ホットウォールタイプ) 製品画像

    化合物半導体用電極膜アニール装置(ホットウォールタイプ)

    化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…

    Siプロセスに実績豊富なアニール装置を化合物半導体プロセス用にカスタマイズ。 GaAs用のホットプレートタイプに比べ高温(900~1000℃)まで対応。 窒化膜半導体の電極の合金化に実績。 急速昇降温型の加熱炉を装備し、均一な加熱と最適な温度プロファイルで電極膜のアニールを制御。 生産量・プロセスにあわせて最適な装置構成を提案可能な実績豊富なウェハプロセス用熱処理装置。 ...横型石英管...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 電線・ケーブル製造装置『プラズマアニーラー』 製品画像

    電線・ケーブル製造装置『プラズマアニーラー』

    ウォームアップ/クーリングダウン時間なし。高品質な連続アニール処理が可…

    『プラズマアニーラー』は、PlasmaIt社製の鉄・非鉄金属製のワイヤ・ チューブ・ストリップ等の長尺物を連続でアニール処理を行う装置です。 高出力アニーリングが可能で、ウォームアップ/クーリングダウン時間は ありません...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社

  • 連続アニール炉 製品画像

    連続アニール炉

    遠赤外線ヒーターと均一加熱方式を採用した連続搬送タイプのアニール炉

    当社製の遠赤外線ヒーターと均一加熱方式を採用した連続搬送タイプのアニール炉です。 処理時間の大幅短縮、コストダウン、インライン化に最適です。 (特長) ●早い加熱処理  例その1:自動車ヘッドランプ 溶着後の歪除去 60分⇒5分  例その2:ICトレー 射出成形後の寸法安定 240分⇒6分  例その3:人工透析器 射出成形後の内部歪除去 120分⇒3分 ●コストダウンに貢献  ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部 東京営業所

  • インライン式真空アニール装置 「SAF-12T」 製品画像

    インライン式真空アニール装置 「SAF-12T」

    効率的なサイクルタイム/全自動による省力化

    0mm×H2230mm ○装置重量 約2500kg [所要諸元] ○所要電力量 AC200V±10%/220V±10%三相三線式 約21KVA(61A) ○所要水量 入圧:0.3~0.4MPa 差圧:0.2MPa以上       水温:20~25℃(但し運転中結露無き事)       流量:約1.2m3/hr(20L/min) ○所要空圧 供給圧:0.5~0.7MPa 設定圧:...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • YACデンコー社のFPD用熱処理装置、ベルト搬送炉、赤外線ヒータ 製品画像

    YACデンコー社のFPD用熱処理装置、ベルト搬送炉、赤外線ヒータ

    各種金属の熱処理炉、非接触のクリーンな熱源である遠赤外線処理

    ■FPD用縦型熱処理装置  ・LCDの第1世代から第8世代に対応  ・高効率面状IRヒータを用い、均一な加熱が可能  ・クリーン度Class10対応(FED-STD209E) ■ベルト搬送炉  ・遠赤外線加熱技術により幅広いプロセスに対応  ・スタンダードタイプ焼成炉、高速焼成炉、小型焼成炉、WB式焼成炉、ロープ搬送式乾燥...

    メーカー・取り扱い企業: 三井物産エレクトロニクス株式会社

  • 小型遠赤外線アニール炉 製品画像

    小型遠赤外線アニール炉

    携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉

    (仕様) ●使用温度:40〜230℃ ●電気容量:5KVA(ブレーカー20A) ●ベルト幅:100mm ●外形寸法:1220L×400W×1157H(mm) ●炉長:700mm...携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉です。 (特長) ●遠赤外線の持つ浸透力により、処理時間の短縮が可能。バッチ炉120分⇒10分以下 ●高精度な温度分布が可能。温度精度...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部 東京営業所

  • 高真空アニール装置 「SAF-52T-II」 製品画像

    高真空アニール装置 「SAF-52T-II」

    生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。

    法 W1700mm×D900mm×H1700mm ○装置重量 約1200kg [所要諸元] ○所要電力量 3相,200V,22.4KVA (64.7A) ○所要水量 入圧:0.3~0.4MPa   差圧:0.2MPa以上       水温:20~25℃ (但し運転中結露無き事)       流量:約0.66m3/hr (11L/min) ○所要空圧 供給圧:0.5~0.7MPa ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

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