チェックしたものをまとめて:

  • カタログあり

    半導体など各種材料に!数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間でアニーリング可…

    ング処理等に使用 ○CIS、CIGS等のソーラーセル(フレキシブル、ガラス基板等)の  ヘテロエピレーヤーの膜質向上   ○ITO等の透明導電性酸化膜の改質(フレキシブル、ガラス基板等) ○a-Si、Poly Siの結晶性の向上 ○インクジェットによる半導体材料、超薄金属膜、シリコンナノ粒子のアニーリング処理 ○Si、Ge、Sn等のナノクリスタルの形成 ○ローカルメルティング-再結...(つづきを見る

  • カタログあり

    効率的なサイクルタイム/全自動による省力化

    0mm×H2230mm ○装置重量 約2500kg [所要諸元] ○所要電力量 AC200V±10%/220V±10%三相三線式 約21KVA(61A) ○所要水量 入圧:0.3~0.4MPa 差圧:0.2MPa以上       水温:20~25℃(但し運転中結露無き事)       流量:約1.2m3/hr(20L/min) ○所要空圧 供給圧:0.5~0.7MPa 設定圧:...(つづきを見る

  • カタログあり

    生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。

    法 W1700mm×D900mm×H1700mm ○装置重量 約1200kg [所要諸元] ○所要電力量 3相,200V,22.4KVA (64.7A) ○所要水量 入圧:0.3~0.4MPa   差圧:0.2MPa以上       水温:20~25℃ (但し運転中結露無き事)       流量:約0.66m3/hr (11L/min) ○所要空圧 供給圧:0.5~0.7MPa ...(つづきを見る

  • 高温電気炉

    入江株式会社はドイツNABERTHERMの日本代理店として日本市場で販…

    密閉型レトルト炉には、温度に相応して直接あるいは間接的加熱方式を採用します。所定の不活性ガスあるいは反応ガス雰囲気が要求される多様な熱処理プロセスに最適です。最高 600 ℃ 迄の真空下の熱処理にもこのようなコンパクト機種を応用できます。炉室は密閉型レトルトで構成されています。ドア領域は特殊シールを保護する水冷方式を採用しています。水素のような反応ガスの使用にも相応の安全技術を採用しています。また...(つづきを見る

  • カタログあり

    世界最高制度のRGAをお届けします。

    ト(自動切替) ■タングステンまたは、イットリアコート・イリジウム フィラメントを選択可(MPH) ■新型フィラメントキット ■9桁のダイナミックレンジ ■最小検出分圧 ≦ 2.7E-13Pa(MPH), ≦2.0E-12Pa(MPS) ■S/N比の向上 ■RoHs 対応 ■オンボードのウエブサーバーによるオペレーション ...(つづきを見る

  • 小型遠赤外線アニール炉の製品画像です

    携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉

    (仕様) ●使用温度:40〜230℃ ●電気容量:5KVA(ブレーカー20A) ●ベルト幅:100mm ●外形寸法:1220L×400W×1157H(mm) ●炉長:700mm...携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉です。 (特長) ●遠赤外線の持つ浸透力により、処理時間の短縮が可能。バッチ炉120分⇒10分以下 ●高精度な温度分布が可能。温度精度...(つづきを見る

  • バッチ式アニール焼成炉の製品画像です

    バッチ式アニール焼成炉

    [仕 様] ◆使用温度‥‥‥‥600℃ ◆炉内均一性‥‥‥600℃±3℃ ◆PIDプログラム温調 ◆炉内寸法‥‥‥‥ご希望の寸法に対応 ◆外形寸法‥‥‥‥幅900mm×高1650mm×奥行1500mm ◆使用電源‥‥‥‥3相 200V 20KVA ...●アルミナボード材にヒーターを組込築炉、SUSマッフル炉にすることで炉内の均熱性を高めています。 ●内...(つづきを見る

  • 小型超高温カーボン実験炉 製品画像カタログあり

    簡単操作コンパクトラックに全てを収納 短時間でMax2900℃まで昇…

    Max2900℃(カーボン炉)、Max2600℃(メタル炉) ・有効加熱エリアΦ60(MiniLab-CF/MF-M) ・有効加熱エリアΦ150(MiniLab-CF/MF-L) 新素材・新材料開...(つづきを見る

  • MiniLab-WCF/WMF超高温ウエハーアニール炉 製品画像カタログあり

    2inch〜8inchウエハー高温焼成専用機 コンパクトサイズ・簡単…

    ◉Max2200℃(真空中1x10-5Torr, N2, Ar) ◉WCF使用雰囲気:真空・不活性ガス(カーボン炉) ◉WMF使用雰囲気:真空・不活性・還元ガス(メタル炉) ◉試料台サイズφ2inc...(つづきを見る

  • Ultra High Temperature Annealing Sy…

    ■ SIMOX Wafer のアニール ■ H2アニール ■ Ar,O2/Arアニール ■装置構成(特許技術) 高機能アニールに関する豊富な経験・技術による安全かつ最適なシステムを提供。 ■長寿命ヒータ ...(つづきを見る

  • Ultra High Temperature Annealing Sy…

    ■ SIMOX Wafer のアニール ■ H2アニール ■ Ar,O2/Arアニール ■ 装置構成(特許技術) 高機能アニールに関する豊富な経験・技術による安全かつ最適なシステムを提供。 ■長寿命ヒータ ...(つづきを見る

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    ■ SIMOX Wafer のアニール ■ H2アニール ■ Ar,O2/Arアニール ■装置構成(特許技術) 高機能アニールに関する豊富な経験・技術による安全かつ最適なシステムを提供。 ■長寿命ヒータ ...(つづきを見る

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  • Ultra High Temperature Annealing Sy…

    ■ SIMOX Wafer のアニール ■ H2アニール ■ Ar,O2/Arアニール ■装置構成(特許技術) 高機能アニールに関する豊富な経験・技術による安全かつ最適なシステムを提供。 ■長寿命ヒータ ...(つづきを見る

  • 【高温熱処理炉】 Ultra High Temperature An…

    ■ SIMOX Wafer のアニール ■ H2アニール ■ Ar,O2/Arアニール ■装置構成(特許技術) 高機能アニールに関する豊富な経験・技術による安全かつ最適なシステムを提供。 ■長寿命ヒータ ...(つづきを見る

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