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フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』
PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…
『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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PR耐熱温度は80℃から120℃対応の製品を用意!通販サイトでの購入も可能
『FCシリーズ』は、低価格帯での量産型樹脂製小型フロートスイッチです。 当社の主力であるステンレス製では測定が不可能な酸性、アルカリ性と いった液体の液位管理にご使用頂けます。 製品材質はPP、ポリスルホン、PVDFといったものを揃えており、様々な 液体に対応しております。 【ラインアップ】 ■PP製小型フロートスイッチ「FCH11QD」 ■PP製小型フロートスイッチ「F...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社木村製作所
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パルス機能を利用!ALDと同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成す…
『KOBUS F.A.S.T.(R)』は、産業向けALDレベル膜質のプラズマ成膜装置です。 パルス機能を利用することで、ALD(Atomic LayerDeposition:原子層堆積)と 同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能。 プロセス温度は80℃~500℃でウエハサイズは150mm、200mm、成膜速度は 0.1nm/min~500nm/minとなっております...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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Enovasense Field Sensor
高速な不透明膜の厚みマッピング、内部欠陥のエリア検出が可能なレ…
プレシテック・ジャパン株式会社