• 【サンプル進呈】5μm微細・極薄・極小のエッチング加工をお手元に 製品画像

    【サンプル進呈】5μm微細・極薄・極小のエッチング加工をお手元に

    PR毎月先着50社限定|短納期、小ロットから対応の「エッチング加工」サンプ…

    エッチング加工をご希望の企業様向け! 毎月先着50社様限定で、ケミカルプリントが誇る技術を詰め込んだ無料サンプルを進呈致します! 切削加工や機械加工に比べ、エッチング加工は加工精度が高く、 また、ケミカルプリントなら短納期・小ロットから対応が可能です。 サンプルご希望の企業様はイプロスもしくは、下記お問い合わせからとご連絡くださいませ。 https://www.chemical-print.c...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ケミカルプリント

  • 簡単導入!電子実験記録ノート『BIOVIA Notebook』 製品画像

    簡単導入!電子実験記録ノート『BIOVIA Notebook』

    PR【使用開始にあたり特別な準備やトレーニングが不要!】シンプルな画面構成…

    電子実験ノート 『 BIOVIA Notebook 』は簡単に導入・運用できるELN/電子実験ノートで、研究開発部門のDX化推進に好適なツールです。 実験業務において、研究開発のスピードUP、コスト削減、 組織間情報共有を実現することで研究開発でのイノベーションを促進します。 過去には数億円規模でのコストダウンや4,000ユーザの運用でも専任不要の実績がございます。 また BIOVIA Note...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • ARPES-Lab (ARPES光電子分光分析システム) 製品画像

    ARPES-Lab (ARPES光電子分光分析システム)

    ARPESでのXPS観察・測定に!次世代のARPES測定装置の紹介です…

    PESでのXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The ARPES-Lab brings together the world leading instrumentation for ARPES: ●Outstanding performance ARPES system with unchallenged energy and angular resolution ●I...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • HiPP-Lab(環境制御型X線光電子分光分析システム) 製品画像

    HiPP-Lab(環境制御型X線光電子分光分析システム)

    大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置!

    下での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The HiPP-Lab brings together the world leading instrumentation for APPES: ●Outstanding performance APPES system with unchallenged energy, spatial and angular res...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • COMPACT EFFUSION CELLS 製品画像

    COMPACT EFFUSION CELLS

    COMPACT EFFUSION CELLSの製品情報となります

    COMPACT EFFUSION CELLS FOR THIN FILM DEPOSITION OR MBE IN RESEARCH UHV SYSTEMSの製品情報となります。 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...COMPACT EFFUSION CELLS FOR THIN FILM DEPOSITION OR MBE IN RESEARCH UHV SYSTEMSの製品情...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • Custom MBE Systems(真空蒸着装置) 製品画像

    Custom MBE Systems(真空蒸着装置)

    真空蒸着装置の紹介です。

    ROBE Compact ●Charge & spin transport in graphene layers on 2 inch substrates ●III-V MBE system for film growth on 4 inch wafers ●III-N MBE system for 3 inch substrates with additional in situ VT ...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • VUV-5K (紫外光源) 製品画像

    VUV-5K (紫外光源)

    真空紫外光源の紹介

    The excellent stability of the VUV5000 makes it ideal for measurements such as studies of ultrathin films and nanomaterials, requiring extremely high inten...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • HAXPES-Lab(ラボ型硬X線光電子分光分析システム) 製品画像

    HAXPES-Lab(ラボ型硬X線光電子分光分析システム)

    放射光施設でのみ可能であった硬X線光電子分光がラボでも使用可能に!

    ●Hard X-rays at 9.25 keV opens a window for bulk-sensitive photoemission ●Superior analyser performance in HAXPES by the market leader in th...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • DA30-L (光電子アナライザー) 製品画像

    DA30-L (光電子アナライザー)

    ARPES分析アナライザーの紹介

    ts are avoided by keeping sample fixed ●Manipulator requirements are reduced ●Ensures same spot for all k// ※詳細はお問い合わせいただくか、PDF資料をダウンロードしてください。 ...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • Cluster Systems(真空蒸着装置) 製品画像

    Cluster Systems(真空蒸着装置)

    真空蒸着装置の紹介です。

    z Nanofabrication Facility) Juelich, Germany ○IQC Cluster Tool -Installed at the Institute for Quantum Computing at the University of Waterloo, Canada ○EIT+ Cluster Tool -Installed at t...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSI 製品画像

    SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSI

    SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSIの製品情…

    The Silicon Sublimation Source - SUSI - was developed for growing of thin Si layers, short period Si/Ge superlattices and Si/Sige heterostructures, but it ...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO 製品画像

    CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO

    CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKOの製品情報…

    The Carbon Sublimation Source - SUKO - was developed for growth of Si-C and Si-Ge-C alloys in silicon MBE. The SUKO provides a very clean and constant flu...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

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