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【SCREEN】”塗る”を極めたスリットコータ ※カタログ進呈
PRラボスケールでの高精度塗布を実現。低粘度から高粘度まで、実験・試作段階…
『リサーチコータ』は、液晶や有機ELディスプレー製造工程で 数多くの採用実績を誇る「コーターデベロッパー」の高度な塗布技術を ラボスケールに展開したスリットコータ(ダイコータ)です。 塗布部にはスリット式塗布装置「リニアコータ(TM)」を搭載。 1~10,000mPa・sの低粘度から高粘度の塗布材料を、ガラス基板、樹脂基板、 フィルム、金属箔など様々な基材に高精度にスリットコートでき...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ
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PR装置全体をコンパクト化し組立た状態で運搬する為設置工事を簡略化 !生…
『Deopo(デオポ)』は、従来の蓄熱燃焼式脱臭装置「RTO」の3塔式と回転式の 優れている要素を併せ持ち、ワンユニットにパッケージ化した装置です。 VOCの処理効率は98%以上、温度効率は95%以上の性能を持ち、従来品に比べ、 パージ部分の体積を最小にすることによりコンパクト化することが出来ました。 また、工場で組立した状態で運搬可能なサイズなので、標準装置の場合は 現地の荷降...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サーマルプラント
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【受託コーティング加工】AFM・STM用プローブに自社開発の有機ナノ薄…
STM用プローブ ■目的:異物の付着防止 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 純水:110°以上・n-ヘキサデカン:68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 スプレー処理:5~10nm(任意に1nm刻みでコントロール) 真空蒸着:5~45nm(任意に5nm刻みでコントロール) ○光学特性への影響が少ない(無色・透明) ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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防汚・メンテナンスの向上に!スキャナ用ガラス向けコーティング加工
刃物での切断作業によくある「シリコン離型剤が使えない」「糊の付着」「薄…
ているが、ユーザーによってはシリコンを使用出来ない。 ■フッ素コートを使いたいが膜厚が厚くて薄い刃先に使用出来ない。 有機ナノ薄膜処理技術 「NANOS(ナノス)」なら、離型性の高い膜厚10nm以下のフッ素薄膜を刃物に処理することが出来る為、上記のような課題をクリアすることが出来ます。 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の2つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいた...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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防汚処理技術「有機ナノ薄膜処理NANOS」<スキャナ用ガラス>
スキャナ用ガラスへ「汚れ付着防止・メンテナンスの向上」機能を付与!テス…
■目的:汚れ付着防止、メンテナンスの向上 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 純水:110°以上・n-ヘキサデカン:68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 スプレー処理:5~10nm(任意に1nm刻みでコントロール) 真空蒸着:5~45nm(任意に5nm刻みでコントロール) ○光学特性への影響が少ない(無色・透明) ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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離型剤不要!凹版など転写プロセス用治具の転写性UP可能な表面処理
【表面処理加工】転写プロセス用治具の転写性を向上させる表面処理技術『N…
など) ■目的:転写性向上(離型剤レス) 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 純水:110°以上・n-ヘキサデカン:68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 スプレー処理:5~10nm(任意に1nm刻みでコントロール) 真空蒸着:5~45nm(任意に5nm刻みでコントロール) ○光学特性への影響が少ない(無色・透明) ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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表面処理技術|インクジェットヘッドの滑り性UPで印刷性の向上に!
【受託加工】インクジェットヘッドの滑り性・耐久性で困っていませんか?独…
インクジェットヘッド ■目的:印刷性向上 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 純水:110°以上・n-ヘキサデカン:68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 スプレー処理:5~10nm(任意に1nm刻みでコントロール) 真空蒸着:5~45nm(任意に5nm刻みでコントロール) ○光学特性への影響が少ない(無色・透明) ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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タッチパネルの防汚・耐指紋性に!独自技術のフッ素コーティング加工
【受託加工】タッチパネルへ「汚れ(耐指紋)付着防止」機能を付与!テスト…
チパネル ■目的:汚れ(耐指紋)付着防止 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 純水:110°以上・n-ヘキサデカン:68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 スプレー処理:5~10nm(任意に1nm刻みでコントロール) 真空蒸着:5~45nm(任意に5nm刻みでコントロール) ○光学特性への影響が少ない(無色・透明) ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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【受託加工】ガラス・金属等に撥水・撥油などの機能を受託コーティングにて…
め、光学特性への影響もほとんどありません。 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 純水:110°以上・n-ヘキサデカン:68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 スプレー処理:5~10nm(任意に1nm刻みでコントロール) 真空蒸着:5~45nm(任意に5nm刻みでコントロール) ○光学特性への影響が少ない(無色・透明) ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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フッ素コート加工【レジストの付着防止に】<フォトマスク向け>
【受託加工】フォトマスクへ「レジストの付着防止」機能を付与!テスト可能
フォトマスク ■目的:レジストの付着防止 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 純水:110°以上・n-ヘキサデカン:68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 スプレー処理:5~10nm(任意に1nm刻みでコントロール) 真空蒸着:5~45nm(任意に5nm刻みでコントロール) ○光学特性への影響が少ない(無色・透明) ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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ナノインプリント用金型の離型性&微細形状への追従性を高めたい方に
ナノインプリント用金型へ「離型性向上、微細形状への追従性を高める」機能…
的:離型性向上、微細形状への追従性を高める 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 純水:110°以上・n-ヘキサデカン:68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 スプレー処理:5~10nm(任意に1nm刻みでコントロール) 真空蒸着:5~45nm(任意に5nm刻みでコントロール) ○光学特性への影響が少ない(無色・透明) ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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光学部品用『金型』に有機ナノ薄膜表面処理で離型性の向上を実現!
【受託コーティング加工】光学部品用『金型』の離型性をUPできる独自技術…
対象:光学部品用金型 ■目的:離型性向上 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 純水:110°以上・n-ヘキサデカン:68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 スプレー処理:5~10nm(任意に1nm刻みでコントロール) 真空蒸着:5~45nm(任意に5nm刻みでコントロール) ○光学特性への影響が少ない(無色・透明) ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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【受託コーティング加工】はんだ印刷用メタルマスの滑り性・防汚性を独自技…
■目的:印刷性向上、メンテナンスの軽減 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 純水:110°以上・n-ヘキサデカン:68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 スプレー処理:5~10nm(任意に1nm刻みでコントロール) 真空蒸着:5~45nm(任意に5nm刻みでコントロール) ○光学特性への影響が少ない(無色・透明) ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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薄膜表面処理加工|スタンパ金型の離型性向上&タクトタイムの短縮に
【受託コーティング加工】光学部品用『金型』の離型性をUPできる独自技術…
■目的:離型性向上、タクトタイムの短縮 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 純水:110°以上・n-ヘキサデカン:68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 スプレー処理:5~10nm(任意に1nm刻みでコントロール) 真空蒸着:5~45nm(任意に5nm刻みでコントロール) ○光学特性への影響が少ない(無色・透明) ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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