• 偏光ビームスプリッター ワイヤグリッドタイプ・キューブ型 製品画像

    偏光ビームスプリッター ワイヤグリッドタイプ・キューブ型

    PRカスタマイズ可能なワイヤグリッド偏光ビームスプリッター、入射角依存の少…

    WGF(TM)を使用した、ワイヤグリッド偏光ビームスプリッターキューブタイプ(WGF(TM) PBS)です。 すでにハーフミラーをお使いの場合、WGF(TM) PBSに替えることで輝度向上が期待できます。 縮小系でも色や偏光度が部分的に変わることはなく、画像検査の精度を向上させます。 入射角依存が少なく、安定した光学性能を維持します。 ※WGF(TM)は旭化成の製品です。...規格品 WP...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社オプティカルソリューションズ

  • 蓄熱燃焼式脱臭装置『Deopo(デオポ)』 製品画像

    蓄熱燃焼式脱臭装置『Deopo(デオポ)』

    PR装置全体をコンパクト化し組立た状態で運搬する為設置工事を簡略化 !生…

    『Deopo(デオポ)』は、従来の蓄熱燃焼式脱臭装置「RTO」の3塔式と回転式の 優れている要素を併せ持ち、ワンユニットにパッケージ化した装置です。 VOCの処理効率は98%以上、温度効率は95%以上の性能を持ち、従来品に比べ、 パージ部分の体積を最小にすることによりコンパクト化することが出来ました。 また、工場で組立した状態で運搬可能なサイズなので、標準装置の場合は 現地の荷降...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サーマルプラント

  • エキシマランプとは 製品画像

    エキシマランプとは

    電子部品の実装後の剥がれ防止、密着性など品質向上!大学・研究・開発でご…

    光を照射できる光源です。 低温過程で表面処理が可能。ドライ洗浄改質等には不要な可視光、赤外光が 比較的少なく、ワークに対して熱によるダメージを与えません。 また、水銀ランプ(波長185nmと254nm)に比べるとフォトンエネルギーが高い 波長172nmの真空紫外光(VUV)を発生します。 【特長】 ■準単色光 ■低温過程で表面処理が可能 ■波長172nmのエキシマ光を発...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー

  • エキシマUV照射装置『QEV Series』<チューブタイプ> 製品画像

    エキシマUV照射装置『QEV Series』<チューブタイプ>

    大学・研究・開発に好適!ウェハ洗浄をはじめ、マスク洗浄や実験機にご活用…

    『QEV Series』は、低価格でカスタム性の高いチューブタイプ エキシマランプです。 バッチ照射用ユニットとスキャン照射用ユニットをご用意。 波長は172nm、分布は±15%となっております。 ウェハ洗浄をはじめ、マスク洗浄や実験機にご活用いただけます。 ご用命の際は、当社までお気軽にご相談ください。 【バッチ照射用ユニット 仕様(一部)】...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー

  • 紫外線ライト『eVIO』 製品画像

    紫外線ライト『eVIO』

    有人環境下で使用できる安全性を確立!紫外線による空間・物体表面の除菌が…

    人や 動物の体への影響を抑える新しい技術によって、従来の紫外線波長では 不可能だった有人環境下での使用を実現した紫外線ライトです。 外部フィルターを使用しておらず、ライト単体で紫外線222nmだけの波長を 照射可能。 また物体表面の除菌にも効果的で、特に無人環境下であれば連続した照射が 可能なため、除菌効果を最大化することができます。 【特長】 ■空間除菌に優れた効果を...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー

  • 【技術資料】真空紫外エキシマランプを用いたポリエチレンの表面改質 製品画像

    【技術資料】真空紫外エキシマランプを用いたポリエチレンの表面改質

    波長172nmの真空紫外光をポリエチレンシートに照射!表面の改質につい…

    1980年代後半に、誘電体バリア放電を利用した強力な真空紫外光源である キセノンエキシマランプが開発されました。 この光源で得られる波長172nmの光は、7.2eVという高いエネルギーを持ち、 様々な分子内結合を効率よく光解離が可能。 このため、ランプは液晶表示パネルに使われるガラス基板の精密光洗浄などに 実用化されているのを始め、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー

  • エキシマUV照射装置『OVL Series』<フラットタイプ> 製品画像

    エキシマUV照射装置『OVL Series』<フラットタイプ>

    高照度・高分布の搬送処理用ユニット!大学・研究・開発でご活用いただけま…

    【仕様(一部)】 <QEF-1600> ■波長:172nm ■ユーティリティ:N2/冷却水/AC240V ■分布:±10% ■照射開口:70×1570mm ■対応ワークサイズ:G6 ■照度(管面最大):180mW/cm2 ※詳しくはPDF資...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー

  • 【技術資料】ポリビニルアルコール薄膜の表面改質 製品画像

    【技術資料】ポリビニルアルコール薄膜の表面改質

    真空紫外エキシマランプを使用!ポリビニルアルコールの化学構造がどう変化…

    面改質などへの応用が進められています。 当資料では、金蒸着した基板にPVA水溶液をスピンコート後、 加熱処理を行い、膜を作製し窒素あるいは乾燥空気雰囲気下で キセノンエキシマランプ(172nm)を照射。 赤外分光器ならびにX線光電子分光分析装置を用い、VUVの 照射に伴うPVA膜の化学状態の変化を観測しました。 【特長】 ■はじめに ■実験 ■結果と考察 ※詳し...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー

  • 【技術資料】キセノンエキシマ真空紫外光ランプの高出力化 製品画像

    【技術資料】キセノンエキシマ真空紫外光ランプの高出力化

    1~2kW/m2の光照度の実現!高出力化に必要な要素技術の検討

    1980年代の終わり頃、エキシマ発光を利用した高輝度な真空紫外光 ランプが開発されました。 例えば、キセノンガスを用いたエキシマランプでは、波長172nmの 真空紫外光を、100W/m2という高い光照度で生み出すことができ、 材料表面の光分解洗浄や光表面改質などに盛んに応用が進んでいます。 本発表では、従来のランプより10~20倍明るい、1...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー

  • エキシマUV照射装置『SPC Series』<フラットタイプ> 製品画像

    エキシマUV照射装置『SPC Series』<フラットタイプ>

    大学・研究・開発に好適!高照度一括照射可能なエキシマ照射ユニット

    【仕様(一部)】 <QEF-300SPC> ■波長:172nm ■ユーティリティ:N2/冷却水/AC240V ■分布:±5% ■照射開口:φ332mm ■対応ワークサイズ:12inch ■照度(窓面最大):80mW/cm2 ※詳しくはPDF資料...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー

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