単相変圧器／三相複巻変圧器・トランス／逆V／スコット※寸法表あり

PR【寸法表と参照図面】完全オーダーメイドの変圧器製造により”1KVA～2…

完全オーダーメイドで、お客様のご要望にお応えします。 社内一貫生産により、短納期・高品質を実現。 【特長】 ■完全オーダーメイド ⇒10KVA、20KVA、30KVA、50KVA、75KVA、100KVAもお任せください！ ※もちろん、1KVA～200KVAまで対応可能！ ■社内一貫生産により、短納期・高品質を実現 ※PDFにて寸法表と参照図面を記載しております。 ※詳しく...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社細田電機

429/1216MHz帯 8接点入出力ボード（連続通信）

PR産業用途向けMU-3無線モデムを搭載した連続通信の8接点 入力・出力ボ…

MU3-IN8、MU3-OUT8は特定小電力無線モジュールMU-3（429MHz帯/1216MHz帯）を搭載した8接点入力・出力ボードです。産業用途向けのMU-3にて連続で接点情報を伝送しますので、テレコントロールなどで要求される連続的な接点制御が可能です。入力はフォトカプラ、出力はフォトMOSリレーを搭載し、高いアイソレーションと高容量負荷の接続が可能です。また入出力は端子台になっており簡単に配...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーキットデザイン 営業部

小型エッチングマシン『YCE-85V』

スプレー上下にそれぞれ圧力計を搭載した小型エッチングマシン！

『YCE-85V』は、液の投入がしやすいようにサイドタンクを搭載した 小型エッチングマシンです。 タンクには液量の確認ができる窓がついています。 主に、塩化第二鉄液エッチングや塩化第二銅液エッチングの研究開発等の 用途に適しています。 【85Vシリーズの特長】 ■水平揺動ノズルパイプ ■液の投入がしやすいサイドタンク ■タンクの液量が確認できる窓 ■スプレー上下にそれ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社山縣機械 ＦＴＰ事業部

エッチング装置

エッチング装置

塩化第二鉄及び、塩化第二銅を使用し 現像後の銅箔をエッチングする装置 【特徴】 ○Lane構成：2Lane ○搬送速度：2.0m/min ○材料幅：TAB/CSP/COF用 35mm〜160mm（FPC用　250〜300mm） ○材料厚み：PI 25μm〜 ○加工面：片面 ○装置構成 ：巻出〜エッチング〜水洗〜液切り〜乾燥〜巻取 ○ユーティリティー 　・電源　AC200V...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所

LECTROPOL-5

様々な材料に適した10種類の研磨/エッチング条件を内蔵！短い研磨時間と…

『LECTROPOL-5』は、マイクロプロセッサの自動制御による材料微細構造 検査用試料の電解研磨と電解エッチングを行う製品です。 パラメーター値の調整を簡単にできるスキャン機能を装備。 ポリシングテーブルに試料を置き、事前設定された電圧の範囲でスキャンして、 電流密度曲線を描きます。この曲線を参照して、電解研磨と電解エッチングの 適正な電圧を設定できます。 【特長】 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ストルアス

Druck 半導体製品の圧力校正試験の自動化に

半導体製造装置やMEMS圧力センサの計測試験/ライン検査に圧力コントロ…

【MEMS圧力センサの校正検査工程の自動化に】 現在高需要の車載圧力センサ。ドラックの圧力コントローラPACEでエンド・ライン検査を効率化しませんか？試験を自動化することで生産コストが各段に削減できます。生産ラインの拡張の機会にぜひご相談ください。 ■複数チャンネルの圧力計測・校正に：圧力コントローラ PACE シリーズ ■圧力制御スピード：他社製品の最大5.5倍 ■ポータブルに使...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

デスミア装置

レーザードリルなどで、ブラインドビア及びスルーホールなどの穴あけ後にス…

株式会社SETO ENGINEERINGでは、『デスミア装置』を取り扱っています。 当装置は、レーザードリルなどで、ブラインドビア及び、スルーホール などの穴あけ後にスミアを除去できます。 ラン構成は1レーンで、加工面は両面。 装置構成は、巻出～脱脂～エッチング～中和還元～～純水洗～液切り～ 乾燥～巻取となっています。 【スペック】 ■ラン構成：1レーン ■搬送速度：0...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所

ガラスエッチング装置【液晶ガラス基板】| NSCEng

液晶ガラス基板の薄肉加工ケミカル研磨の自動装置として、G6世代までの薄…

×機械研磨ではタクトが合わない。 ×フッ酸によるガラス溶解では綺麗に仕上がらない。 などのお困りごとを解決します。当社のガラスエッチング装置は「浸漬ディップ式」と「枚葉搬送スプレー式」の2種類あります。どちらも量産装置として数多くの実績がある装置です。 【当社装置の特徴】 ■狙い板厚±30μm規格でCpk1.33以上可能 ■自動板厚制御により1パス仕上げ可能 ■液再生システムにより...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社NSC エンジニアリング本部

バルクエッチング装置『BEM-301』

エッチング量（深さ）とウェーハの材質を指定するだけで何方でも容易に使用…

『BEM-301』は、オゾンと気化したフッサンを使用してエッチングする装置です。 エッチング量をモニターしながらエッチングを行いますので、 高精度のエッチングが可能。 また、1枚目からでも正確なエッチングを行うことが可能です。 【仕様】 ■エッチングレート：2μm/H以上 ■平坦度：10%以内 ■エッチング量（深さ）の精度：±5%以内 ■ユーティリティ：O2、N2、HF...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社NAS技研

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

RIE-330iPCは、放電形式に誘導結合方式（Inductively Coupled Plasma）を 採用した化合物半導体プロセス用多数枚処理エッチング装置 【特徴】 ○Φ330mmの大型トレーに対応 　Φ2インチウェハーなら27枚、Φ2.5イン...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

エッチング装置（2）

搬送速度は1.5m/min、材料幅は350mmまで対応！薬液温度・圧力…

当装置はFPC等の薄い枚葉基板をロールtoロール搬送し連続にて エッチングを行います。 装置は、巻出（基板投入）～ラミネート～エッチング～水洗～ 酸洗～水洗～巻取（基板剥がし）～水洗～乾燥～基板積載の構成。 また搬送機構以外にも薬液温度・圧力を精度よくコントロールを行います。 【仕様】 ■Lane構成：1Lane ■搬送速度：1.5m/min ■材料幅：MAX350mm...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所

真空センサ『730シリーズ』

コンパクトサイズでローコスト。半導体製造ラインなどで活躍。静電容量型

『730シリーズ』は、コンパクトサイズ・ローコスト・高精度を実現した セトラシステムズ社の真空センサです。静電容量の変化を検知して、 リニアな直流電圧信号に変換し出力します。 温度補償範囲が広く耐圧性能に優れるため、様々な用途に使用でき、 太陽光パネル、半導体、石油化学など幅広い分野のプロセス制御で 重要な真空圧力範囲の測定に活躍します。 【特長】 ■極めて低いノイズ影響 ...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

マイコン制御式 プリント基板用エッチングマシーン　ES-800M

マイコン制御により、短時間で高品質のエッチングを実現

両面をスピード処理できる、シャワー式小形半自動式のエッチングマシーン...主な仕様 処理工程：投入→エッチング→絞り→水洗槽 処理最大幅：330mm 処理最小長さ：100mm 搬送部ローラーピッチ：45mm チャンバー長：400mm（スプレー有効長300mm） エッチング液最大液量：40リットル エッチング液：塩化第二鉄　40ボーメ（サンハヤト製　H-20L指定） エッチング液フィ...

メーカー・取り扱い企業： サンハヤト株式会社

ソフトエッチング装置【nanoETCH】＜30W低出力

＜30W（制御精度10mW）低出力RFエッチングによる、精細でダメー…

【nanoETCH（ナノエッチ）】Model. ETCH5A ＜30W（制御精度10mA）低出力RFエッチングによる、精細でダメージレスなエッチング処理を実現。 2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いる マンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発製品。 ...【特徴・主なアプリケーション】 • 2D（遷移金属カルゴゲナイド, 材料転写後のグラフェン剥離）：表面改質...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

プラズマエッチャー【RIE.S-200A】レンタル始めました～♪

有機・無機問わず高いエッチング効果！ １週間～レンタル始めました～♪…

Siやカーボン膜の受託エッチング！ その他、半導体集積回路など微細回路を作製など様々な用途に お使い頂けます♪ 一週間～レンタル可能で研究開発をスピーディーにサポート致します！ 初回条件出しやデモ処理は無償対応。... 出力 MAX300W 周波数 13.56MHz 外形寸法 510(W) ×850(H)×760(D)mm 重量 約 85Kg　 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

プラズマエッチャー【CPE.S-200A】

有機・無機問わず高いエッチング効果！

Siやカーボン膜のエッチング！ その他、半導体集積回路など微細回路を作製など様々な用途に お使い頂けます♪... 出力 MAX300W 周波数 13.56MHz 外形寸法 510(W) ×850(H)×760(D)mm 重量 約 85Kg　 ガス系 マスフロコントローラ１系統(２系統はオプション) 浮子式流...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

焼付固着を防止できるボルト『SDCクリーンボルト』【潤滑剤不要】

潤滑剤・めっきを使わず焼付・カジリを防止！クリーン環境に最適な六角ボル…

「SDCクリーンボルト」はＳＤＣプラズマ表面硬化処理により、締付け時に焼付き固着を起こしにくい六角ボルトです。食品工場など、潤滑剤やめっき・コーティングなどの焼付き防止対策が使用できない現場での利用に最適です。 【こんな現場での利用がオススメ！】 ◎不純物を極力嫌う半導体製造装置やクリーンルーム内 ◎食品・飲料関係 ◎医薬品・化粧品関係の製造装置や配管部 【特長】 ◆潤滑剤やめ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＣ田中

排ガス処理セット　ES-F1

エッチング中に発生するガスや蒸気を除去

塩化第2鉄エッチング液用活性炭が異臭や酸を吸着する、排ガス処理セット...【特徴】 ■塩化第2鉄エッチング液用活性炭が異臭や酸を吸着 ■エッチングマシーンの排気口へピッタリ差し込め取り付けが簡単 ■乾式フィルターを採用し、取り替えが簡単 ■活性炭カセット代は1時間当たりおよそ25円と経済的 ■活性炭カセット寿命 ：150時間 ■排気風量 ：約35L/分 ■排気ダクト長：2m以内 ■...

メーカー・取り扱い企業： サンハヤト株式会社

エッチング装置（1）

搬送速度は5.0m／min、材料幅は310mmまで対応！金属箔（ALな…

当装置は、金属箔（ALなど）の表面をエッチングする装置です。 搬送速度は5.0m／min、材料幅は310mmまで対応。 装置は、巻出～エッチング処理～洗浄～乾燥～巻取の構成と なっております。 薄物で非常に脆弱な機材を当社の低テンション搬送技術により、 キズ・シワなく搬送し連続処理を行います。 【仕様】 ■Lane構成：1Lane ■材料厚み：20μm～ ■加工面：片...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/P...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4 ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ・最...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【潤滑剤・めっきを使用せずに焼付固着を防止】SDCクリーンボルト

独自の技術であるSDCプラズマ表面硬化処理により、潤滑剤・めっきを使用…

不純物を極力嫌う半導体製造装置やクリーンルーム内、食品・飲料関係、医薬品・化粧品関係の製造装置や配管部では、ボルト・ナットに潤滑剤やめっき・コーティングなどの焼付き防止対策が使用できないことがあります。一般のステンレス鋼製ボルト・ナットはアウトガス発生の恐れもあり、化学研磨されたものも使用されますが、締付け時に焼付き固着を起こしやすいという問題が発生します。そこで弊社は自社技術の「ＳＤＣプラズマ表...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＣ田中