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約１秒で結果を出す！高圧1500Vの太陽光発電のIV計測

PR約１秒で結果を表示する短時間計測が可能！発電システムの竣工点検・定期点…

『イプシロン1500V』は、高圧化する太陽光発電システムのメンテナンスに対応したI-Vカーブトレーサーです。 PVアナライザ「イプシロン400/1000」の特長を引き継ぎながら、 1500[V]計測を実現しました【特長】 ■短時間計測（結果表示まで約1秒・日射や影の急変の影響を受けにくい） ■シンプルな操作性（事前設定が必要なくワンボタンで計測可能） ■本機と計測ユニット...

メーカー・取り扱い企業：日本カーネルシステム株式会社本社
LEDダウンライト『IDSシリーズ』

PR力率改善、位相調光可能なLEDダウンライト！AC200V仕様は、お問い…

『IDSシリーズ』は、薄型、軽量のLEDダウンライトです。力率改善、位相調光が可能で、ノングレア。色温度は5700K, 5000K, 3500K, 3000Kで、渡り配線ができます。また開口は、100mm, 125mm, 150mm, 175mm, 210mm, 250mmとなっており、 IDS250は延長枠を使うと開口最大300mmまで、使えます。【特長】 ■薄...

メーカー・取り扱い企業：株式会社カネヒロデンシ
Druck 半導体製品の圧力校正試験の自動化に

半導体製造装置やMEMS圧力センサの計測試験/ライン検査に圧力コントロ…

【MEMS圧力センサの校正検査工程の自動化に】現在高需要の車載圧力センサ。ドラックの圧力コントローラPACEでエンド・ライン検査を効率化しませんか？試験を自動化することで生産コストが各段に削減できます。生産ラインの拡張の機会にぜひご相談ください。 ■複数チャンネルの圧力計測・校正に：圧力コントローラ PACE シリーズ ■圧力制御スピード：他社製品の最大5.5倍 ■ポータブルに使...
メーカー・取り扱い企業：日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　（旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社
デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』

コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…

『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。ガス導入機構を増設でき、アルゴンガスを含めた最大3種類のガス導入が可能。金属薄膜に加え、絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜など様々な薄膜作製に対応できます。【特長】 ■研究開発向けのデスクトップサイ...

メーカー・取り扱い企業：サンユー電子株式会社
スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置下記蒸着源から組合せが可能・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着・2inchスパッタリングカソード x 4（又は3inch x 3, 4inch x 2）・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能【スモールフットプリント・省スペース】・デュア...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

半導体、電子基板、真空薄膜プロセス装置・研究開発用【超高温基板加熱機構】対応基板サイズ：Φ2〜6inch 真空（UHV対応可能）・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。（詳細別途協議）...◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ ステージ上下昇降（基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式） ◉ 基板回転 ◉ RF(1...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタ・蒸着源複合型薄膜装置【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。ガス系統最大3系統（プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
ロードロック方式スパッタリング装置「SPH-2500-II」

膜厚分布：トレー内 ±1.2％、トレー間 ±1.5％を達成しました。

昭和真空は、約15年の実績を誇るベストセラー装置SPH-2500のフルモデルチェンジを行いました。ロードロック方式スパッタリング装置「SPH-2500-II」は、従来装置の特徴を受け継ぎつつ最新のテクノロジーを採用し、あらゆる面で従来機を超える性能を達成致しました。【特徴】 ○外形：W1200×D2500×H1440設置面積はそのままに大幅に低背化を実現 ○カソードを改良すること...

メーカー・取り扱い企業：株式会社昭和真空
卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…

『FDS/FRSシリーズ』は、必要な機能を備えた研究開発用の卓上型マグネトロンスパッタ装置です。基本仕様は、DCスパッタ/シングルカソード/ロータリーポンプで構成される金属薄膜用スパッタ。 RF化、カソード増設、ターボ分子ポンプ仕様などの拡張オプションにより、研究ステージに合せてグレードアップしていただくことが可能です。【特長】 ■初期導入コストを抑え、後の...

メーカー・取り扱い企業：株式会社FKDファクトリ
平行移動式3元RFスパッタリング装置『MSS600-3』

ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能！

『MSS600-3』は、矩形カソード W100ｘH500mmによる 3元RFスパッタリング装置です。基板サイズはW200×H300mmであり、X方向へ搬送しながら蒸着します。また、基板200mmを30秒から15時間の時間で任意に設定し、膜厚調整や様々な異種積層成膜が可能です。【特長】 ■自動スパッタ機能により、長時間のスパッタリング作業も省力で可能 ■GenCor...

メーカー・取り扱い企業：株式会社愛知真空
【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用のスパッタリングソースです。ターゲットが導体の場合はDCモードで、絶縁体の場合はRFモードで使用することができます。ガスフードが標準装備されているため、ターゲット表面近傍での圧力を高め、成膜中のチャンバー圧力を低く抑えることが可能です。冷却水配管およびガス配管の接続には、クイックリリースコネクターが採用されています。そのため、工具を使用することなく...

メーカー・取り扱い企業：テガサイエンス株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/P...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置下記蒸着源から組合せが可能・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4 ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能【スモールフットプリント・省スペース】・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。・最...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社