ロータリースクリューコンプレッサー カタログ

PR流量0.26～86m3/分、圧力5.5～15bar！世界で高く評価され…

当カタログは、当社が取り扱う、ロータリースクリューコンプレッサーをご紹介しています。 ケーザー・シグマ・プロフィールは、従来型スクリューエアーエンドの ロータープロフィールと比べて最大15パーセントの消費電力を削減しています。 この省エネタイプのプロフィールはすべてのケーザー製スクリュー用 エアーエンドに搭載され、最大級のエネルギー効率を実現。ゆとりのある サイズで正確に調整されたローラーベア...

メーカー・取り扱い企業： ケーザー・コンプレッサー株式会社

篩（ふるい）

PR産業用機械の金属篩！使用用途に合わせてベストな逸品創ります

石川金網では、様々な産業用機械で使用されている『金属篩（ふるい）』 の制作を承っております。 お客様の御要望に応じて、単純な金網の張り替えからフレームを含めた制作、 使用用途に合わせたメッシュの提案・開発まで柔軟に対応可能。 また、外枠から内枠までの寸法精度、フレームと金網の接合構造や使用する 接着剤の安全性など、金網専門メーカーとしての長い経験からお客様にとって 適切な品質管...

メーカー・取り扱い企業： 石川金網株式会社

セントロサーム　超高温バルクアニール炉

超高温熱処理と優れた温度均一性の実現により、ブール・インゴット、ウエハ…

の手法の一つとして、半導体結晶の超高温熱処理があります。c.CRYSCOO HTA高温アニール炉は、ワイドバンドギャップ半導体のバルク結晶からデバイスまでのバリューチェーンにおいて生産性を大幅に改善させるために開発されました。優れた温度制御(最高温度2200℃)、均一性、低クロスコンタミネーションの実現により、c.CRYSCOO HTAは従来の炉を凌駕する最高のパフォーマンスを発揮します。10個...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

RIBER社 分子線エピタキシー（MBE）装置

パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

パッシベーション用MBE装置は、表面パッシベーションまたはレーザーファセットパッシベーションのために特別に設計された各種チャンバーで構成されております。表面やファセット面を保護するために、さまざまなコーティングを使用することが可能です。代表的な材料としてZnSe、SiN、酸化物等がある。 構成例として、クリ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

PVAテプラ社マイクロ波プラズマ処理装置(前工程向け)

ユニークなウエハー移載機搭載のバッチ処理装置から枚葉処理装置まで、世界…

2.45GHzのマイクロ波で励起された高密度のプラズマと、イオンの運動エネルギーを抑制することで、ダメージレスのプロセス結果を得ることができます。 ウエハープロセスにおけるアッシング、レジスト剥離、MEMSなどのSU-8レジスト...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

Agnitron社 MOCVD装置 In-situ温度モニター

Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-si…

Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-situ温度モニターは高精度、高安定性を有する業界最高レベルの温度モニターです。 (1) 圧倒的な温度制御の精度と正確さ (2) メンテナンス後のキャリブ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

RIBER社で開発されたEZ-CURVEは各種真空装置に取付可能であり、応力、反り、曲率、異方性等の測定が可能なIn-situモニターです。 特徴 1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

イオンビームミリング・エッチング装置-伯東/エヌエス

Au, Pt, 磁性材料等の難エッチング材料の加工に最適なドライエッチ…

イオンビームミリング装置は、ドライプロセスでの微細加工装置として、研究開発から生産まで幅広い用途で使用されています。化学反応を伴わない物理的なエッチングプロセスの為、Au, Pt, 磁性材料、金属多層膜なども簡単に加工可能です。 【特徴】 （１）難エッチング材料を微細加工可能 （２）金属多層...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

PVAテプラ社マイクロ波プラズマ処理装置(後工程向け)

世界中のOSATのお客様向けに多くの実績があり、信頼性のあるパフォーマ…

セス形態をご選択いただくことができます。 ダイアタッチ、ワイヤーボンディング、フリップチップ、アンダーフィル、 樹脂封止を含むチップパッケージングにおいて、基板のクリーニング、表面活性化の為に設計されています。...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

Agnitron社 MOCVD装置制御ソフトウエア

最新の制御機能とデータロギング機能を有する、WindowsベースのSC…

ソフト入れ替え、ソフトウエアアップグレードに最適です。 (1) リアルタイム制御、監視 (2) イージーコントロールソフトウエア (3) 実績のあるパフォーマンス (4) 継続的に開発、改良され、サポートサービスを提供しています。 (5) 様々な他社レガシーMOCVD装置の制御ソフトウエアの入れ替え,更新可能 (6) 短期間でのソフト入れ替え、ソフトウエアアップグレード可能...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

Agnitron社 研究開発(R&D)～量産用 MOCVD装置

Agnitron社にて独自開発された、高性能、高スループット先端化合物…

Agnitron Technology社（アメリカ）は、2008年に設立された中古リファブ、自社開発新品MOCVD装置（有機金属気相成長装置）、MOCVD装置制御ソフトウエア、MOCVD 装置用In-situモニターを製造、販売するサプライヤーです。Agnitron Te...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

Ion Beam Delayering装置/半導体物理解析

半導体故障解析 歩留まり解析 リバースエンジニアリング マイクロ…

る費用対効果の高いソリューションです。広い面積にわたって、優れた均一性と最小限のダメージを実現します。複数のイオンビームエッチング技術を使用することにより、単一層の異なる材料のエッチングレートを一致させることができ、化学組成に関係なく層全体を均一に除去することが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

RIBER　MBEセル（蒸着源）

MBEセル（蒸着源、分子線セル）はエピタキシャル膜の品質において重要で…

RIBER社（フランス）は、1964年に設立された分子線エピタキシャル成長装置（MBE装置）およびコンポーネント（MBEセル・蒸着源）を製造・販売する世界シェアNo.1のサプライヤーです。これまで主にGaAsやInP、GaN等の化合物半導体材料...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

レーザー描画装置

研究開発に適したコンパクトでユーザーフレンドリーな高性能マスクレスレー…

オランダに本社を構えるRaith Laser Systems B.V.（旧４PICO litho）は、レーザ描画装置の専業メーカーとして2004年に設立されました。現在は、電子線描画装置の専業メーカーのRaith GmbHのグループ会社として、装置をワールドワイドに提供しています。...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

Agnitron社 中古再生MOCVD装置

完全に再生(リファブ)され、アップグレードされたレガシーMOCVD装置…

Agnitron Technology社（アメリカ）は、2008年に設立された中古リファブ、自社開発新品MOCVD装置（有機金属気相成長装置）、MOCVD装置制御ソフトウエア、MOCVD 装置用In-situモニターを製造、販売するサプライヤーです。Agnitron Te...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社