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  • ホットメルトとは？知っておきたい基礎知識【入門書配布】 製品画像

    ホットメルトとは？知っておきたい基礎知識【入門書配布】

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    ■【入門書】 ホットメルト接着剤は幅広い分野での導入されています。 ホットメルトを使用する上で必要不可欠な要素や、塗布パターン（塗り方）の概要などを解説！ 【掲載内容】※一部抜粋 ■ホットメルトってなに？ ■ホットメルトの特徴 ■環境に配慮したホットメルト接着剤 ■ホットメルトアプリケーション ■衛生材料アプリケーション ■一般産業アプリケーション ■【ディスペンサー導...

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    メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンツール

  • 中・近赤外分光計による製造工程のモニタリングセミナーのご案内 製品画像

    中・近赤外分光計による製造工程のモニタリングセミナーのご案内

    PR【無料開催！】ガス分析用FT-IR製品と新製品BEAMを含むFT-NI…

    本ウェビナーでは赤外分光計および近赤外分光計を活用した プラント規模の反応追跡や工程管理をテーマとし、 前半では、測定時間やコスト面で課題のあるガスクロの代替手段となる ガス分析用FT-IR製品およびアプリケーション例を 後半では、新製品BEAMを含むFT-NIR製品および 代表的なアプリケーション例をわかりやすく紹介させていただきます。 食品・化学・環境・製薬分野での分析法の研究...

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    メーカー・取り扱い企業： ブルカージャパン株式会社 オプティクス事業部

  • レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ 製品画像

    レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

    高速高解像度レーザー露光装置

    m²もしくは400x400mm²あり、MEMS、BioMEMS、Micro-Optics、ASIC、Micro Fluidics、センサー、ホログラム、および微細構造を必要とするその他すべてのアプリケーション用途でのマスクやウェーハへの高速高精度パターニングが可能です。 グレイスケールリソグラフィー用途において表面粗さ精度を高めるために、1000階調のグレイスレベルをサポートしています。 ...

    メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • レーザー直接描画装置『DWL 66＋』 製品画像

    レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

    研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

    マイクロストラクチャの製作と分析に必要な機能を、標準システムとして 装備。 処理能力が高く、また、対応範囲も広いため、MEMSやマイクロ光学など マイクロストラクチャ製作が必要なアプリケーションの研究開発に貢献します。 【特長】 ■マスクレス露光やマスク作成用 ■2.5Dグレースケール露光モード（標準128階調、オプション255階調または1000階調） ■豊富な機能と拡張...

    メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • マスクレスアライナー『MLA300』 製品画像

    マスクレスアライナー『MLA300』

    プロダクション向け高性能マスクレスアライナー

    MLA300は、研究開発アプリケーション、ラピッドプロトタイピング、および少量から中量生産の領域では既に標準となっているマスクレスアライナーの工業生産バージョンです。MLA300は、生産工場で期待される高スループットと高可用性を維持...

    メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

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