リソグラフィとは？

フォトレジストの塗布、露光、現象の3つのステップで構成されます。

です。 この工程は、半導体の性能やコストに大きな影響を与えるため、 常に技術革新が求められています。 現在主流となっているリソグラフィ技術は、「液浸式アーゴンフッ素(ArF) エキシマレーザー」です。 【基本原理】 ■フォトレジストの塗布 ■露光 ■現象 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 夏目光学株式会社

EUVとは？

主に半導体リソグラフィ用途に13.5nmのEUV光源が用いられます！

EUVは、極端紫外光のことで、Extreme Ultravioletの略称です。 主に半導体リソグラフィ用途に13.5nmのEUV光源が用いられ、 従来のArFエキシマレーザー(193nm)に比べより微細なパターンが 描写可能です。 EUVは物質への吸収率が極めて高く透過型の光学系(レンズ)を 使用できないため、反射光学系(ミラー)を用いる必要があります。...

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