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ウシオ電機社製エキシマランプを搭載。193nm対応解析露光装置。
フォトプロセス解析露光装置 ES-3500LPはVUVES-4500で用いているレーザー光源の代わりに、ウシオ電機社製エキシマランプを搭載した装置。レーザー光源のような、 大がかりなガス供給システムを必要とせず、場所を選ばず設置可能。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○g/h/i/248mm及びブロード光対応 ○露光エリア□10mm/25ショット ...
メーカー・取り扱い企業: リソテックジャパン株式会社
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紫外~可視~近赤外のレーザーフラッシュフォトリシスシステム
TSP-2000は、世界で初めて紫外〜可視〜近赤外をワンクリックで測定でき、かつその全波長領域でナノ秒の時間分解能を有するシステムです。 パルス励起源としては、YAGレーザーのほか、エキシマレーザー、窒素レーザー、パルス電子線などと組み合わせることが可能です。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ユニソク
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