エキシマレーザーグレード

高透過率・高耐久性のCaF2！

当社では、真空紫外域での高い透過率とレーザー耐久性を活かし、 半導体露光装置のレンズ材、紫外線域レーザーの窓材として 『エキシマレーザーグレード』を提供しております。 また、可視光領域では高い色収差補正能力を利用して、テレビカメラ、 デジタルカメラ、天体望遠鏡のレンズ材料のほか、近赤外域での 高い透過率を活かした赤外...

メーカー・取り扱い企業： 日本結晶光学株式会社

フッ化カルシウム（CaF2）

紫外線/可視光/赤外線アプリケーション向けの光学材料

当社の『フッ化カルシウム（CaF2）』は、長年に渡って半導体製造における マイクロリソグラフィーの鍵を握る材料として使用され続けています。 エキシマレーザーの光学系の素子として標準的に用いられており、更に その特長的な性質は様々な分野のアプリケーションへ応用されています。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長（Lith...

メーカー・取り扱い企業： Hellma Materials Japan株式会社

【用途別事例】レーザー機器用光学部品

レーザー機器、周辺に使用される光学用薄膜部品群のご紹介

ザー（Nd:YAG:1064nm、SHG:532nm） ■赤外域で高反射率を誇るAuミラーコート ■YAGレーザー（SHG・・・532nm） ■YAGレーザー（SHG:532nm） ■エキシマレーザー（KrF・・・波長248nm） ■YAGレーザー（Nd:YAG:1064nm、SHG:532nm） ■YAG(SHG・・・532nm） ■ルビーレーザー波長（694.3nm） ■半導体...

メーカー・取り扱い企業： CBCオプテックス株式会社

DUV フォトリソグラフィ用 基板、コンポーネンツ

◆DUVフォトリソグラフィ向◆高品質な合成結晶石英基板を利用した各種コ…

V(深紫外)波長レーザーを用いたフォトリソグラフィー技術は半導体、ナノテクノロジーをはじめ各種の産業用途に利用され私達の生活に欠かせないものになっています。更なる高密度化／狭線幅化に伴いKrFエキシマレーザー(248nm)、ArFエキシマレーザー(193nm)が広く利用されそれら光源を取り巻く高性能な各種の光学コンポーネントへの要求が高まっています。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オプトロンサイエンス

フッ化カルシウム (CaF2)ウインドウ

標準規格品として全品1個から販売。完全在庫販売のため、短納期で供給致し…

　TECHSPEC フッ化カルシウム (CaF2)ウインドウは、250nm~7μmに対して透過主波長帯があります。光の吸収が少ないことや、強い光エネルギーにも耐える力があることから、エキシマレーザー用の光学素子として広く利用されます。また屈折率も低いため (1.3~1.4程度)、表面反射 (フレネル反射)による透過ロスが少なく、反射防止膜をかけなくても高透過率が得られます。サーマルイメー...

メーカー・取り扱い企業： エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社

LUMILASS蛍光ガラス

標準規格品として全品1個から販売。完全在庫販売のため、短納期で供給致し…

して検出することが可能です。赤 (R7)、緑 (G9)、青 (B)の三色を各々発する蛍光ガラスをラインナップ。どのガラスも、励起波長帯域が365nmをピークとして広くなっています。蛍光顕微鏡やエキシマレーザー検出アプリケーション、また蛍光特性を調べるための標準試験材料として用いるのに最適です。標準規格品の製品ラインナップとその仕様、販売価格に関しては、エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社の公...

メーカー・取り扱い企業： エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社