• フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』 製品画像

    フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

    PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

    『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...

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    メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

  • 高圧ジェットで高速レジスト剥離!半導体製造用リフトオフ装置 製品画像

    高圧ジェットで高速レジスト剥離!半導体製造用リフトオフ装置

    PR【超高圧ジェットでメタル&レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

    【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし! ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム (オプション) 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能! 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • TruPlasma Highpulse 4000(G2)シリーズ 製品画像

    TruPlasma Highpulse 4000(G2)シリーズ

    数マイクロ秒でのフォーミング、長年にわたる耐久性!当社の電力供給装置を…

    ルス マグネトロンスパッタリング向けに専用設計された電力供給装置です。 硬く均質で滑らかなコーティングは、機能的にも装飾的にも好適。 当製品が生み出す独特なイオン特性は、金属イオンエッチング (スパッタリング前処理)や半導体用途(トレンチ充填)にも 利用できます。 【主な利点】 ■飛沫フリーのスパッタリング、薄膜の不具合の低減 ■コンパクトな寸法、容易なシステム統合 ...

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    メーカー・取り扱い企業: トルンプ株式会社

  • 高周波電源『T857シリーズ』 製品画像

    高周波電源『T857シリーズ』

    高信頼設計の高性能高周波電源

    『T857シリーズ』は、オール・ソリッドステート・タイプの 高性能高周波電源です。 プラズマ・エッチング、RIE、プラズマCVD、RFスパッタリング等の 各種プラズマ処理に適します。 また、当シリーズの出力インピーダンスは公称50Ωですが、各種保護回路 により広範囲な負荷及びショート,オ...

    メーカー・取り扱い企業: クリエート・デザイン株式会社 クリエート・デザイン株式会社

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