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PR工場内に散在していた製造関連情報を一元化!グローバルでのコンカレントエ…
卓越した技術力を有し、日本を代表する総合メーカーとして知られる京セラ様。 グループ従業員数は8万人を超え、連結売上高は2兆円以上。その事業領域は幅広く、ファインセラミックスをはじめ、半導体部品や電子部品、ケミカル材料、車載カメラやエネルギーシステムなどをグローバルに展開されています。 そんな京セラ様の技術力を支える拠点の1つが鹿児島川内工場です。 同拠点で進められているコンカレントエ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日立ソリューションズ西日本
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PR大きく二つに分類!粉体原料の物性や用途により機種選定できる
今回は「粉体用コンテナ」に関してお伝えしたいと思います。 粉体ハンドリング設備の歴史としては、大型サイロ+空気輸送が主流でしたが、 近年は少量多品種生産、ロット管理、品種増減対応、コンタミ解消の観点より パイプレス化が望まれ、「粉体用コンテナ」が多くの業界で採用されています。 「粉体用コンテナ」は、その排出機構により一般的に大きく二つに 分類出来ます。「コーンバルブ式」と「バタ弁...
メーカー・取り扱い企業: 赤武エンジニアリング株式会社 本社/工場
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ヒーターステージ(1000℃)搭載!開発工程~量産工程まで様々な用途へ…
『S600』は、多層・積層成膜プロセスの改善により電子部品の品質強化と 生産性向上に貢献する多層膜スパッタリング装置です。 高品質・高精度な成膜によりデバイス品質の向上。高スループット、 生産歩留り向上、材料利用効率の最適化によりコスト競争力をアップします。 多様な成膜条件に対応したオプションにより多品種少量生産、柔軟な 生産計画へ対応可能です。 【特長】 ■最大5基のカ...
メーカー・取り扱い企業: パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社
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三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発!実験内容や予算に応じてカスタマ…
『NS-023』は、三種のターゲットを同時に成膜可能な三元マグネトロン スパッタリング装置です。 多元同時スパッタ以外にも、白金ヒーターを採用することで、基板の高温活性化 (ヒータ温度:950℃)や反応性スパッタなど様々な使い方に対応しています。 また、アシスト用プラズマ源も対応可能(ECR、ICP、他)です。 【特長】 ■三種のターゲットを同時に成膜可能 ■多元同時スパ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング
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株式会社セムテックエンジニアリング