• 2Dレーザ加工機 TruLaserシリーズ 製品画像

    2Dレーザ加工機 TruLaserシリーズ

    PR3kW-24kWまで幅広いラインアップをそろえた2Dレーザ加工機

    4kWまではTruFiber、8kW以上はTruDiskを搭載。 どのレーザ加工機が適切であるかは、どのような材料、板厚を加工するのか、 お客様の求める品質レベルは何かなど、要求により異なります。 トルンプでは幅広いラインアップと取りそろえているため、 お客様の希望に沿ったレーザ加工機をお選びいただけます。 特許技術 ハイスピードエコ  窒素切断において従来の1/3の消費量で加工可能 特許技術...

    メーカー・取り扱い企業: トルンプ株式会社

  • パンチレーザ複合加工機『TruMatic』 製品画像

    パンチレーザ複合加工機『TruMatic』

    PRパンチ加工とレーザ加工の全ての長所を兼ね備えたパンチレーザ複合加工機!

    『TruMatic』は、多品種小ロットや大量生産でも、お客様の要望に合わせて、 様々な製品を生産することができるパンチレーザ複合加工機です。 丸や長角などの標準抜き加工やバーリングやタップなどの成型は「パンチ加工」で、高品質の 外周形状や複雑な内面形状の切断は「レーザ加工」というように、 加工の幅は、二つの特性を組み合わせることで、無限に広がり付加価値を与えます。 レーザマーキングは勿論、多種...

    メーカー・取り扱い企業: トルンプ株式会社

  • シエンタオミクロン エネルギー分析器・光電子顕微鏡 製品画像

    シエンタオミクロン エネルギー分析器・光電子顕微鏡

    様々なタイプのエネルギー分析器及び光電子顕微鏡をご用意しております

    分析器、高電圧静電型エネルギー分析器、スピン電子検出器、同軸型エネルギー分析器、角度分解エネルギー分析器、光電子顕微鏡、光電子顕微鏡用オプションなどをラインナップ。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • シエンタオミクロン 複合型分析装置 製品画像

    シエンタオミクロン 複合型分析装置

    様々なタイプの複合型分析装置をご用意しております

    コンセプトで設計、円滑で効率的な実験環境を提供いたします。 さらに、SPM装置との接続にも最大限の注意を払い、SPM性能を損なうことなく大型設備の導入が可能です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • Oxygen Atom Beam Source OBS 製品画像

    Oxygen Atom Beam Source OBS

    Oxygen Atom Beam Source OBSの製品情報となり…

    e on the substrate. It exhibits a very compact design and is easy to install and to operate. 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • COMPACT EFFUSION CELLS 製品画像

    COMPACT EFFUSION CELLS

    COMPACT EFFUSION CELLSの製品情報となります

    COMPACT EFFUSION CELLS FOR THIN FILM DEPOSITION OR MBE IN RESEARCH UHV SYSTEMSの製品情報となります。 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • LT STM(極低温走査トンネル顕微鏡) 製品画像

    LT STM(極低温走査トンネル顕微鏡)

    極低温環境における走査トンネル顕微鏡の紹介

    ※詳細はお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてください。...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • HYDROGEN ATOM BEAM SOURCE HABS 製品画像

    HYDROGEN ATOM BEAM SOURCE HABS

    HYDROGEN ATOM BEAM SOURCE HABSの製品情報…

    duces an absolutely ion-free hydrogen gas beam to avoid ion induced damage of the substrate. 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO 製品画像

    CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO

    CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKOの製品情報…

    rate up to 2 Å/min. A maximum total layer thickness of 5 μm C with one filament is reported. 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSI 製品画像

    SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSI

    SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSIの製品情…

    Ge superlattices and Si/Sige heterostructures, but it is also an excellent Si dopant source. 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

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