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PR3kW-24kWまで幅広いラインアップをそろえた2Dレーザ加工機
4kWまではTruFiber、8kW以上はTruDiskを搭載。 どのレーザ加工機が適切であるかは、どのような材料、板厚を加工するのか、 お客様の求める品質レベルは何かなど、要求により異なります。 トルンプでは幅広いラインアップと取りそろえているため、 お客様の希望に沿ったレーザ加工機をお選びいただけます。 特許技術 ハイスピードエコ 窒素切断において従来の1/3の消費量で加工可能 特許技術...
メーカー・取り扱い企業: トルンプ株式会社
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PRパンチ加工とレーザ加工の全ての長所を兼ね備えたパンチレーザ複合加工機!
『TruMatic』は、多品種小ロットや大量生産でも、お客様の要望に合わせて、 様々な製品を生産することができるパンチレーザ複合加工機です。 丸や長角などの標準抜き加工やバーリングやタップなどの成型は「パンチ加工」で、高品質の 外周形状や複雑な内面形状の切断は「レーザ加工」というように、 加工の幅は、二つの特性を組み合わせることで、無限に広がり付加価値を与えます。 レーザマーキングは勿論、多種...
メーカー・取り扱い企業: トルンプ株式会社
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様々なタイプのエネルギー分析器及び光電子顕微鏡をご用意しております
分析器、高電圧静電型エネルギー分析器、スピン電子検出器、同軸型エネルギー分析器、角度分解エネルギー分析器、光電子顕微鏡、光電子顕微鏡用オプションなどをラインナップ。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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様々なタイプの複合型分析装置をご用意しております
コンセプトで設計、円滑で効率的な実験環境を提供いたします。 さらに、SPM装置との接続にも最大限の注意を払い、SPM性能を損なうことなく大型設備の導入が可能です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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Oxygen Atom Beam Source OBSの製品情報となり…
e on the substrate. It exhibits a very compact design and is easy to install and to operate. 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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COMPACT EFFUSION CELLSの製品情報となります
COMPACT EFFUSION CELLS FOR THIN FILM DEPOSITION OR MBE IN RESEARCH UHV SYSTEMSの製品情報となります。 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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極低温環境における走査トンネル顕微鏡の紹介
※詳細はお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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HYDROGEN ATOM BEAM SOURCE HABS
HYDROGEN ATOM BEAM SOURCE HABSの製品情報…
duces an absolutely ion-free hydrogen gas beam to avoid ion induced damage of the substrate. 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO
CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKOの製品情報…
rate up to 2 Å/min. A maximum total layer thickness of 5 μm C with one filament is reported. 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSI
SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSIの製品情…
Ge superlattices and Si/Sige heterostructures, but it is also an excellent Si dopant source. 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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